水诱导磷化镍腐蚀及腐蚀抑制

过渡金属磷化物作为助催化剂广泛应用于电催化、光(电)催化、电化学储能等领域,但其在水介质中的稳定性研究较少。我们以磷化镍(Ni_xP)作为研究对象,详细研究了所制备的Ni_xP与水的反应行为。研究结果表明： Ni_xP与水反应生成H₂,同时自身被氧化生成PO₄^3-和Ni²⁺,发生严重的化学腐蚀。腐蚀的程度与Ni_xP的晶体结构、元素比例等因素有关。通过在Ni_xP表面沉积NiO、ZnO、TiO₂保护层可显著抑制Ni_xP的化学腐蚀,提高Ni_xP在水介质中的抗腐蚀能力。     

极紫外反射镜氧化物保护层的制备与表征EI北大核心CSCD

极紫外(EUV)反射镜在使用过程中的氧化及表面碳污染沉积,严重影响了极紫外光刻(EUVL)技术的工业应用。为了延长EUV反射镜的稳定性与使用寿命,一般采取在Mo/Si多层膜表面添加保护层。采用直流反应磁控溅射技术,建立氧气流量与溅射电压之间的"迟滞回线"关系,进而准确掌握不同氧化物保护层所需氧气量,以此减少过多的活性氧对下层Mo/Si多层膜的影响,提高镜面的反射率。选用Ru O2与Ti O2两种保护层材料进行比较,根据充氧量的不同,分析不同反应阶段的薄膜特性。针对催化性和物理稳定性更好的Ti O2薄膜,在晶相、表面粗糙度、截面均匀性和化学组分等方面给予评价。研制出膜质致密均匀的非晶态Ti O2薄膜,其表面粗糙度优于100 pm;Ti O2纯度(质量分数)达97.2%;保护层厚度为2 nm的Mo/Si多层膜的反射率损失小于5%,满足EUV外多层膜的基本要求。     

SiO2内保护层对LiB3O5晶体倍频增透膜损伤阈值的影响

 利用离子辅助电子束沉积方法在LiB₃O₅基底上镀制了不加SiO₂内保护层和加SiO₂内保护层的倍频增透膜，测量了两类薄膜在波长1 064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值，获得了两种不同的损伤形貌，并对损伤原因作了初步探讨。实验结果表明：保护层的加入把由基底膜层界面缺陷吸收所决定的阈值改变到由HfO₂膜层内缺陷吸收所决定的阈值，显著提高了倍频增透膜的抗激光损伤能力。     

纤维布抗弯加固梁跨中剥离应力的近似计算

首先综述了纤维复合材料(FRP)抗弯加固梁中防剥离破坏的各种措施，分析了跨中混凝土保护层的剥离破坏机理，提出一个近似计算跨中保护层剥离应力上限的方法，可供防剥离设计参考。     

火灾下钢筋混凝土板的热弹塑性有限元分析——基于S-R分解原理(Ⅱ:算例分析)

采用基于S-R分解原理的更新拖带坐标有限元法,对火灾下钢筋混凝土板进行了数值模拟.并以标准升温为条件,探讨了不同的钢筋保护层厚度、钢筋及混凝土强度等级、荷载水平、板厚等因素,对钢筋混凝土简支板抗火性能的影响.计算结果表明,构件变形主要是由非线性温度场引起的热变形.为采取一些简单的设计思想来完善钢筋混凝土构件抗火性能提出了建议.     

清华大学物理系薛其坤院士研究团队在界面诱导的高温超导研究方面取得进展

2014年初,由清华大学物理系马旭村、王立莉、陈曦、季帅华、王亚愚和薛其坤组成的研究团队带领学生和博士后共同攻关,在界面诱导／增强的高温超导研究上取得突破。该研究团队在成功制备大面积原子级平整的单原子层FeSe薄膜和与FeSe薄膜界面尖锐的FeTe保护层的基础上,     

探析镁与碱性盐溶液反应的复杂性与可行性——以镁与碳酸钠溶液反应为例

一次验证镁与NaHCO3溶液反应得到H2的实验中，发现镁能与饱和Na2CO3溶液作用持续释出H2，为此通过分析Mg/H2O体系的热力学数据和研究其动力学机理认为实现镁与水溶液作用能持续释出H2的有效方法：在溶液中加入能破坏氢氧化镁保护层的某些离子。并设计有关实验证明：在碱性溶液中，若加入能与Mg2+形成稳定配合物的其他阴离子（如甘氨酸根离子、草酸根离子、EDTA等），则镁就能与碱性的盐溶液持续反应。     

逆向热蒸发制备望远镜主镜银反射膜

以自上向下热蒸发大型镀膜机为实验平台,开展了逆向蒸发制备大口径银反射镜研究.通过设计特殊蒸发舟及优化相关工艺参数,实现了金属银膜稳定、高速向下蒸发.根据逆向热蒸发工艺特点,选取熔点低、升华型材料Cr和SiO及特殊设计的蒸发舟,以Cr或CrNx为粘结层,SiOx或SiOxNy为保护层,制备了三种具有四层结构的介质保护性银反射膜,并对所制备反射镜样品的反射率、断面形貌和环境稳定性进行了表征.实验结果表明:膜系结构为3 nmCr/120 nmAg/0.6 nmCrNx/150 nmSiOxNy的银反射膜具有较好的环境稳定性和光谱特性;通过了24小时湿热实验(50℃/相对湿度98％/)和盐雾实验,在400～1 800 nm波段光谱范围内,银反射膜的平均反射率达到97.8％.     

HfO2/SiO2双色膜在1 064 nm和532 nm激光辐照下的损伤特性

 采用电子束蒸发的方式,制备了有氧化硅内保护层和没有氧化硅内保护层的1 064 nm高透过、532 nm高反射的HfO₂/SiO₂双色膜,测量了它们的光学性能以及在基频和倍频激光辐照下的抗损伤性能。结果表明:氧化硅内保护层提高了双色膜在基频光辐照下的损伤阈值,对双色膜在倍频光辐照下的损伤阈值无明显影响。通过观察薄膜的损伤形貌,分析破斑的深度信息结合驻波场分布,对两类双色膜在基频光和倍频光下的损伤机制做了初步探讨。分析表明:氧化硅内保护层提高了膜基界面的抗损伤性能,从而提高了双色膜在基频光下的损伤阈值。