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1.
The conversion efficiency on the sixth harmonic of 1064 nm in KBe2BO3F2 (KBBF) at different gas pressures in two kinds of gases, helium and nitrogen, is measured and compared. In the both gases, maximum conversion efficiency on the sixth harmonic of 1064 nm in high vacuum is nearly 10% of 355 nm, which is almost four times higher than that in low vacuum. The maximum average output power at 177.3 nm is 670 ttW with the repetition rate of 10 Hz and the duration of 20 ps in high vacuum. It indicates that the sixth harmonic generation in high vacuum is more preferable than that in low vacuum.  相似文献   
2.
High resolution photoemission measurements are carried out on non-superconducting LaFeAsO parent com- pound and various superconducting RFeAs(O1-ZFx) (R=La, Ce and Pr) compounds. It is found that the parent LaFeAsO compound shows a metallic character. By extensive measurements, several common features are identified in the electronic structure of these Fe-based compounds: (1) 0.2 eV feature in the valence band, (2) a universal 13-16 meV feature, (3) near EF spectral weight suppression with decreasing temperature. These uni- versal features can provide important information about band structure, superconducting gap and pseudogap in these Fe-based materials.  相似文献   
3.
本文报道了BBO晶体中位错密度对光学均匀性的影响。样品的光学均匀性是利用W yko RTI 4100型干涉仪进行测量。采用侵蚀法观测BBO晶体{001}面的位错密度,在一定的侵蚀条件下,观察到BBO晶体{001}面上的位错露头为突起的正三方锥形,底边与X轴平行。在显微镜下测量出样品的蚀坑密度。实验证明,随着位错密度的增加BBO晶体的光学均匀性逐渐变差。  相似文献   
4.
LBO晶体超光滑表面抛光机理   总被引:1,自引:0,他引:1  
胶体SiO2抛光LBO晶体获得无损伤的超光滑表面,结合前人对抛光机理的认识,探讨了超光滑表面抛光的材料去除机理,分析了化学机械抛光中的原子级材料去除机理。在此基础上,对胶体SiO2抛光LBO晶体表面材料去除机理和超光滑表面的形成进行了详细的描述,研究抛光液的pH值与材料去除率和表面粗糙度的关系。LBO晶体超光滑表面抛光的材料去除机理是抛光液与晶体表面的活泼原子层发生化学反应形成过渡的软质层,软质层在磨料和抛光盘的作用下很容易被无损伤的去除。酸性条件下,随抛光液pH值的减小抛光材料的去除率增大;抛光液pH值为4时,获得最好的表面粗糙度。  相似文献   
5.
朱镛  张道范  许政一 《物理学报》1982,31(8):1073-1079
我们证实了KLiSO4为Li离子导体。通过测定样品中的电位分布,确定其载流子为间隙Li离子和Li空位。其电流弛豫在一定时域内遵从负幂次衰减规律。与之对应,在一定频域内存在与频率成负幂次关系的介电色散。在相变温度附近,本底电流、直流电导率和表观介电常数除发生跃变外还出现一个尖锐的小峰。此峰只有在变温速率较慢时才能观察到,表明该相变具有弛豫过程。 关键词:  相似文献   
6.
 利用离子辅助电子束沉积方法在LiB3O5基底上镀制了不加SiO2内保护层和加SiO2内保护层的倍频增透膜,测量了两类薄膜在波长1 064 nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步探讨。实验结果表明:保护层的加入把由基底膜层界面缺陷吸收所决定的阈值改变到由HfO2膜层内缺陷吸收所决定的阈值,显著提高了倍频增透膜的抗激光损伤能力。  相似文献   
7.
超光滑表面及其制造技术的发展   总被引:28,自引:0,他引:28  
高宏刚  曹健林  朱镛  陈创天 《物理》2000,29(10):610-614
超光滑表面制造技术是超精密加工技术的一个重要分支。通过介绍超光滑表面的特征、应用及其制造技术的发展,希望给出超光滑表面技术的整体轮廓。在介绍超光滑表面的概念及其主要特征的基础上,通过典型例证指出了超光滑表面的软X射线光学、激光陀螺等科技领域的重要应用。回顾了超光滑表面制造技术的发展过程,对各种超光滑表面加工原理与方法进行了简单描述与评价。最后提出了对超光滑表面制造技术的发趋势的观点。  相似文献   
8.
High resolution photoemission measurements are carried out on non-superconducting SmOFeAs paxent compound and superconducting SmFeAs(O1-xFx) (x = 0.12, and 0.15) compounds. The momentum-integrated spectra exhibit a clear Fermi cutoff that shows little leading-edge shift in the superconducting state. A robust feature at 13 meV is identified in all these samples. Spectral weight suppression near IF, F with decreasing temperature is observed in both undoped and doped samples that points to a possible existence of a pseudogap in these Fe-based compounds.  相似文献   
9.
本文报道了在室温下BaTiO3及BaTiO3:Ce的拉曼谱的特点,着重讨论了前向散射配置下两个1I(TO)模(位于275cm-1和516cm-1左右)出现在A1(TO)谱中的原因。通过设计特别的前向散射实验得到了此配置下由于晶体出射面对入射光的反射造成的背向散射的强度。在BaTiO3的前向散射谱中扣除了背向散射信号后,两个宽峰基本减掉,而掺Ce后经同样扣除背向散射信号两宽峰却依然很强。这样便证明了它们在前向散射中的出现与杂质有关系。在BaTiO3扣除背向散射后的谱中,还首次观察到一个位于492cm-1的峰。掺Ce后晶体的吸收曲线有很大变化,本文还讨论了吸收对散射强度的影响。  相似文献   
10.
采用离子辅助沉积技术在L iB3O5晶体上制备了946nm,473nm倍频增透膜,并测量了薄膜的性质。测试结果表明,该增透膜具有较低的剩余反射、高的环境稳定性和良好的附着力。进一步测量了薄膜在波长1064nm多脉冲辐照下的激光损伤阈值,获得了两种不同的损伤形貌,并对损伤原因作了初步的探讨。此工艺下镀制的L iB3O5晶体用于瓦级全固态蓝光激光器,获得了3.8W波长为473nm的连续蓝光输出。  相似文献   
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