厚壁圆柱壳的弹性静力分析

本文研究了考虑横向剪切影响的弹性厚壁圆柱壳的静力问题。利用变分原理得到平衡微分方程组和相应的边界条件。将平衡方程组归并成一个高阶微分方程,用数值法求出它的特征根,得到问题的解。     

同轴静电纺丝技术制备药物缓释载体的研究进展

由于纳米纤维在组织工程支架材料,药物传递载体等方面的潜在应用,使得具有高比表面积的静电纺丝纳米纤维得到了很大的关注。静电纺丝技术是一种简单、有效的微／纳米技术,而同轴静电纺丝则是在传统静电纺丝技术上发展起来的新方法,单步即可制备连续的壳一芯结构纳米纤维或中空纳米纤维。这也使得静电纺丝纳米纤维在组织工程和药物缓释等领域有...     

一类二阶常微分方程初值问题的无穷多解性

应用分离变量法,得到了一类二阶微分方程初值问题存在无穷多个非负解的充分必要条件,并给出了所有的无穷多个非负解．。     

通过Pr^(3+)掺杂SrZnOS实现应力发光颜色调控及其应力发光机理EI北大核心CSCD

采用高温固相法成功制备出新型Sr_(1-2x)Pr_(x)Li_(x)ZnOS应力发光材料。通过XRD、扫描电镜、漫反射、光致发光、荧光衰减、应力发光和热释光等测试详细研究了晶体结构、形貌、光致和力致发光性能及其发光机理。在298 nm激发下,Sr_(1-2x)Pr_(x)Li_(x)ZnOS的发光位于522 nm和674 nm,分别来自于Pr^(3+)离子从激发态^(3)P_(0)到^(3)H_(5)、^(3)F_(2)的跃迁。随着Pr^(3+)浓度增加,发光强度先增加后减小,在x=0.015时发光最强,且衰减时间从17.79μs减短到5.93μs。在载荷为5000 N激发下可以获得Pr^(3+)离子的522 nm和674 nm的应力发光发射带。位于522 nm和674 nm的两个发射带的相对强度I_(G)/I_(R)随着掺杂浓度的增加呈线性减小,且在色坐标图(CIE)和实物应力发光照片中均能观测到应力发光的颜色从黄绿光到橙黄光的转变。该材料的研究将为应力发光领域提供调控颜色的新思路,在压力显示成像和应力传感领域具有潜在的应用价值。     

百瓦级高亮度光纤耦合半导体激光模块的研制

用3只976 nm半导体激光短列阵作为子模块,研制出连续工作的百瓦级高亮度光纤耦合模块。首先,利用光束转换器将每个半导体激光短列阵进行光束整形;然后采用空间复用技术将3个半导体激光短列阵在光参数积小的方向上叠加,并利用倒置伽利略望远镜作为扩束器进一步压缩发散角;最后利用优化结构的透镜组将激光聚焦到芯径200 μm,数值孔径为0.22的光纤中。测量结果显示:聚焦后激光的发散角为24.8°,焦平面的光斑尺寸为175.2 μm;耦合后测量光纤出光功率可达107 W,对应亮度为2.23 MW/(cm²·sr),达到了国内利用列阵进行光纤耦合的领先水平;在工作电流为52.5 A时,电光转换效率为43.1%,远高于全固态等激光器;最后测量本模块在不同驱动电流时的光谱,并以此计算出模块的热阻为1.29 K/W,说明它的散热性能良好。结果表明,本光纤耦合模块适合应用于泵浦光纤激光器、医疗和激光加工等领域。     

2 kW半导体激光加工光源

针对激光加工在金属材料焊接、熔覆、表面硬化等工业领域的应用,考虑到半导体激光器体积和重量小、效率高、免维护、成本低以及波长较短等特点,设计了功率达2 kW的半导体激光加工光源。在大通道工业水冷条件下,采用48只出射波长分别为808,880,938,976 nm的传导冷却半导体激光阵列作为发光单元,最终研制出了2 218 W高亮度光纤耦合模块。此高亮度模块可以实现柔性加工,直接应用于金属材料焊接、熔覆、表面合金化等工业领域,对于半导体激光器在工业领域的应用具有重要意义。     

On an Elliptic Equation with a Singular Nonlinearity

ＯｎａｎＥｌｌｉｐｔｉｃＥｑｕａｔｉｏｎｗｉｔｈａＳｉｎｇｕｌａｒＮｏｎｌｉｎｅａｒｉｔｙＺｈａｎｇＺｈｉｊｕｎ（张志军）（Ｄｅｐｔ．ｏｆＭａｔｈ．，Ｎｏｒｔｈ－ＷｅｓｔＮｏｒｍａｌＵｎｉｖｅｒｓｉｔｙ，Ｌａｎｚｈｏｕ，７３００７０）Ｃｏｍｍｕｎｉｃ...     

具奇异边界条件的一类拟线性椭圆型方程

得到了一类拟线性椭圆型方程爆破解的存在性。     

On the Existence of Solutions for a Class of Singular Boundary Value Problem

ＯｎｔｈｅＥｘｉｓｔｅｎｃｅｏｆＳｏｌｕｔｉｏｎｓｆｏｒａＣｌａｓｏｆＳｉｎｇｕｌａｒＢｏｕｎｄａｒｙＶａｌｕｅＰｒｏｂｌｅｍＺｈａｎｇＺｈｉｊｕｎ（张志军）ＸｉａｏＬｉ（萧礼）（Ｄｅｐｔ．ｏｆＭａｔｈ．，ＮｏｒｔｈｗｅｓｔＮｏｒｍａｌＵｎｉｖｅｒ...     

蜂蜜中四环素族抗生素残留量的薄层色谱测定法

残留在蜂蜜中的四环素族抗生素在经Ｓｅｐ－ＰａｋＣ１８小柱固相萃取处理后，用高效正相薄层色谱予以分离，喷雾显色后用紫外灯进行定性分析；使用双波长薄层扫描仪进行定量测定。在蜂蜜中的添加量为００５０×１０－３、０１０×１０－３及０２０×１０－３时，强力霉素（ＤＣ）、土霉素（ＯＴＣ）和四环素（ＴＣ）的回收率分别为９１６％～１００３％、８４５％～１０３１％和７７０％～１０３２％。该法的测定低限可达到１０－３μｇ。