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91.
光刻机投影物镜的像差原位检测新技术   总被引:4,自引:3,他引:1  
提出了一种新的光刻机投影物镜像差原位检测(AMF)技术。详细分析了该技术利用特殊测试标记检测投影物镜球差、像散、彗差的基本原理,论述了该技术利用对准位置坐标计算像差引起的成像位置偏移量的方法。实验结果表明AMF技术可实现球差、彗差、像散等像差参量的精确测量。AMF技术考虑了光刻胶等工艺因素对像差引起的成像位置偏移量的影响,有效避免了目前基于硅片曝光方式的彗差原位检测技术对离焦量、像面倾斜等像质参量限制的依赖。  相似文献   
92.
《分析化学》2006,34(3):297-297
会议由清华大学、生物芯片北京国家工程研究中心、科技部、教育部、国家自然基金委等单位共同主办,由生物芯片北京国家工程研究中心具体筹办。  相似文献   
93.
采用蒙特卡罗模型AMPT 究了(S_(NN))~(1/2)=130GeV Au Au碰撞中部分子相互作用对两粒子横向动量关联的影响,结果表明部分子相互作用对两粒子的横向动量关联有重要的贡献.还计算了AMPT模型中(S_(NN))~(1/2)=130GeV Au Au碰撞的两粒子横向动量关联与碰撞对心性的依赖关系并与来自STAR的实验数据进行了比较,发现AMPT的理论预言很好地符合实验数据.  相似文献   
94.
LB膜中螺吡喃材料的光学性质研究   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用LB技术制备螺吡喃有序分子膜,研究了气液界面上螺吡喃材料在不同成份和不同pH值亚相时的成膜行为,着重研究了螺吡喃在LB膜这个特殊介质环境中不同于溶液的光致变色机理和光学性质  相似文献   
95.
随机删失场合部分线性模型中的核光滑方法   总被引:7,自引:0,他引:7  
考虑模型Y=Xβ+g(T)+e。其中g为[0,1]上的未知光滑函数,β为一维待估参数,为不可观察误差.当观察受到随机删失时,本文基于核光滑和综合数据方法导出了β和g的估计βn*和gn*证明了βn*的渐近正态性,并获得了gn*的非参数收敛速度O(n-1/3)  相似文献   
96.
本文给出了Kronecker 引理的一种推广形式,在一定范围改进了L.G.Drighicescu 的结果,并将之用于研究随机变量部分和的a.s.稳定性。  相似文献   
97.
苯部分加氢制环己烯的非晶态Ru-M-B/ZrO2催化剂的表征   总被引:13,自引:0,他引:13  
采用化学还原法,制备了高活性,高选择性非晶态RU-M-B/ZRO2催化剂,并将其用于催化苯部分加氢制环己烯,在140℃、5.0Mpa氢压下,苯转化40%时,环己烯选择性达到85%左右。环己烯最高收率达到52.1%,用XRD、SEM、BET比表面积测定等手段对摧化剂进行表征,XRD和SEM测试表明,RU-U-B/ZRO2属于非晶态,活性组分高度分散,XRD结果证实,在加氢过程中,非晶分解,RU晶化;温度愈高,RU晶化愈快,催化剂的活性、选择性与RU微晶的粒径有关,RU微晶粒径应控制在5nm左右,BET比表面积测定表明,ZRO2的负载提高了催化剂的比表面积,从而有利于活性组分的高度分散,并可阻止RU微晶的长大,讨论了B和ZRO2对提高选择性的作用。  相似文献   
98.
以共沉淀法合成的系列NiMgAl单原子分散复合氢氧化物(NMA-HTLC)为前驱物, 经过焙烧制得复合氧化物催化剂. 并考察了不同催化剂的焙烧温度、还原温度、反应温度对催化甲烷部分氧化反应的影响.  相似文献   
99.
自旋交叉配合现象与分子电子器件   总被引:2,自引:0,他引:2  
陈友存  刘光祥 《化学通报》2002,65(8):539-543
自旋交叉配合物在热、压力或光诱导自旋交叉现象的同时会伴随着其它一些协同效应,比如配合物颜色的改革、存在着大的热滞后效应等,这些协同效应是单个分子或分子集合体作为热开关、光开关和信息存储元件材料的基础。因此,自旋交叉配合物是开发新型的热开关、光开关和信息存储元件材料的理想分子体系。本文概述了自旋交叉现象的研究历史、现状和未来的发展趋势。讨论了影响配合物自旋交叉性质的各种内在的和外部的因素,总结了目前用于研究自旋交叉现象的各种现代测试技术。最后,展望了自旋交叉配合物在分子电子器件方面的应用前景。  相似文献   
100.
巨磁电阻材料与信息存储及其对化学的挑战   总被引:2,自引:0,他引:2  
介绍了巨磁电阻材料在信息存储中用于硬盘驱动器读出磁头的巨大应用前景,讨论了当今采用化学方法制备和研究这类材料的进展及存在的问题。  相似文献   
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