DMSO对籼稻广陆矮4号种子愈伤组织诱导、再分化和过氧化物酶同工酶谱的影响

本文以二甲亚砜(dimethylsulfoxide,DMSO)作为外源因素研究其对培养的植物外植体的影响。 材料与方法 籼稻广陆矮4号(Oryza Satira L.Subsp.Indica CV.Guangluai 4)种子.1.1％DMSO预处理:去壳种子经酒精表面消毒后,浸于1％DMSO水溶液中,在25—30℃振荡培养6,12,24小时,并以不经DMSO溶液浸种的种子为对照。2.诱导培养基:N6,加蔗糖3％,2.4-D3mg/l,KT0.5mg/l,pH5.8。分化培养基:MS,加蔗糖3％,NAA0.5mg/l,KT10mg/l,水解乳蛋白500mg/l,pH5.8。培养条件:25±1℃,光照培养。接种9—10天后,统计愈伤组织诱导率,转入分化培养后15天统计分化率。3.过氧化物酶同工酶凝胶电泳:按照方国伟等的方法进行。     

进气道出口最大瞬时畸变值的预估

一、前言 进气道和发动机匹配研究中,通常要在进气道的选型阶段,对其出口动态畸变的最大瞬时值进行预估,以了解其是否超过了发动机的容限,以便采取措施调整设计,把进/发匹配问题解决于较早阶段。预估问题在美国已有三种方法。这三种方法各有优缺点,其中数Motycka方法优点较多,因而应用前景亦较广。     

一种富于启发性的热机实验演示与分析

利用试管、玻璃球、器、圆盘等易取材料研制了使玻璃球通过重力作用原理来转移工作物质的方法，并可用燃烧热、电阻热和光转化热作为高温热源的动力的热机实验演示，同时我们给出了相应的理论分析。     

25米~3单砖建筑物应用爆炸减压板保护的爆炸试验

本文介绍了在25米~3单砖建筑物中进行的四次液化石油气-空气混气的爆炸试验。由于建筑物内壁装了爆炸减压板,爆炸最大压力被减低到8千帕之下,建筑物主体结构完好无损。 建筑物内的很多化学操作都含有可燃液体或者可燃气体。当工艺设备出现偶然的破碎时,燃气或者可燃液体的蒸气便能够播散在建筑物内,与空气混合后形成爆炸混合物。为了防止这种可燃混气爆炸对建筑物造成严重破坏,常规方法对建筑物设置泄压面积。文     

停流-分光光度法流动注射络合滴定铝

推导出了停流法流动注射络合滴定的理论公式，计算了简单易实现的流路图，详细观察分析了流动注射络合滴定中的样品带与试剂流混合后在流通池中的吸光度变化。从理论上分析并预测了停流流动注射络合滴定的性质。     

具有最大Wiener—Hosoya指标的直径为d的Spider

M．Randic首先引入了Wiener．Hosoya指标，该指标可用于对分子的结构，性质和活跃性等方面进行研究．有且仅有一个顶点的度大于或等于3的树称为spider．本文对直径为d，且具有最大Wiener-Hosoya指标的spider进行了刻划．     

用原子荧光法测定食品中总砷的经验介绍

由于氢化物原子荧光法具有方法简单、精密度好、灵敏度高、线性范围宽等优点,已在土壤、食品、化妆品等砷含量的测定中得到广泛应用.对该法测定食品总砷过程中还原剂与砷标准的反应时间与荧光强度值之间的关系进行了探讨,得出其最佳反应时间.     

缩比模型的宽频时域太赫兹雷达散射截面(RCS)研究

本文首次以钛宝石飞秒激光振荡级为抽运源,搭建了国内首套宽频时域太赫兹雷达(带宽0.1—1.3 THz)并进行了基于标准球的系统校正验证.利用该雷达测量了太赫兹波段三种缩比模型的散射时域信号.通过改进后的后向投影算法对模型的轮廓外形进行了成像研究,验证了新型时域散射信号成像机理.太赫兹雷达更高的频率,宽谱的特征和高分辨率成像的能力有望用于隐形外形设计过程,成为新兴的太赫兹散射特征研究平台.     

Engineering Double-Walled Carbon Nanotubes by Ar Plasma

Double-walled carbon nanotubes （DWCNTs） have been found to be promising nano-materials for nano-mechanical and nano-electrical devices due to their double-walled structures. Modifying DWCNTs would be one of the key technologies for device construction. We demonstrate engineering the geometry of DWCNTs by etching with Ar plasma. The characterization by atomic force rnicroscopy indicates that single atomic carbon layers could be removed from DWCNTs by Ar plasma. The etching effect is further investigated by electrical measurements on DWCNT field-effect transistors, which allow us to study the interwall screen effect as well.