首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   204篇
  免费   59篇
  国内免费   92篇
化学   154篇
晶体学   4篇
力学   17篇
综合类   7篇
数学   27篇
物理学   146篇
  2024年   3篇
  2023年   9篇
  2022年   9篇
  2021年   10篇
  2020年   4篇
  2019年   12篇
  2018年   16篇
  2017年   11篇
  2016年   8篇
  2015年   6篇
  2014年   17篇
  2013年   17篇
  2012年   17篇
  2011年   8篇
  2010年   14篇
  2009年   13篇
  2008年   20篇
  2007年   14篇
  2006年   15篇
  2005年   20篇
  2004年   9篇
  2003年   7篇
  2002年   5篇
  2001年   10篇
  2000年   7篇
  1999年   9篇
  1998年   4篇
  1997年   7篇
  1996年   11篇
  1995年   5篇
  1994年   2篇
  1992年   3篇
  1991年   3篇
  1990年   1篇
  1989年   2篇
  1988年   1篇
  1987年   5篇
  1986年   5篇
  1985年   4篇
  1984年   2篇
  1982年   2篇
  1981年   1篇
  1964年   1篇
  1963年   1篇
  1957年   1篇
  1956年   1篇
  1955年   3篇
排序方式: 共有355条查询结果,搜索用时 15 毫秒
91.
BBO-I非共线光学参变啁啾脉冲放大增益带宽的实验研究   总被引:2,自引:2,他引:0  
以纳秒级调Q倍频的Nd:YAG激光器为抽运源,以自锁模钛宝石激光器输出并经光栅展宽的800nm啁啾脉冲为信号光,实验研究了其宽带BBO-I非共线相位匹配光学啁啾脉冲放大(OPCPA)的增益谱,研究结果表明,非共线夹角的变化对BBO-I非共线相位匹配光学参变啁啾脉冲放大的增益谱有很大的影响。  相似文献   
92.
混合工质中低温热力循环特性研究   总被引:7,自引:2,他引:5  
本文从热力学第二定律角度出发,对氨水混合工质中低温动力循环进行了分析。通过与简单蒸汽循环的比较,揭示了混合工质热力循环的特性及本质,指出工质蒸发换热过程的匹配及冷凝过程是混合工质循环高效的关键。为了改善冷凝过程,可采用分馏冷凝系统取代传统的冷凝方式。同时,本文还探讨了一些基本规律,明确了余热回收过程中中低温段换热匹配的重要性  相似文献   
93.
一维金纳米粒子链的制备及其光学特性研究   总被引:2,自引:0,他引:2  
在没有模板存在的条件下, 只用表面活性剂为稳定剂, 制备了一维的金纳米粒子链, 详细考察了链状结构形成时各种试剂浓度、种类及其它外部条件对纳米粒子链形成的影响. 实验发现, 在HAuCl4 浓度1~5 mmol•L-1、十二烷基磺酸钠(SDS)浓度在2~8 mmol•L-1 (小于其CMC)范围内, 温度由60 ℃ 0.5 h内升高到100 ℃, 并在升温时间内分次将还原剂加完, 反应完成后不老化立即冷却到室温, 可以获得一维金纳米粒子链. 采用紫外可见光谱(UV-Vis)、同步光散射光谱和发射光谱等手段对金纳米粒子链的光学特性进行了研究, 用高分辨透射电子显微镜(HRTEM)研究了金纳米粒子的外观和粒径分布, 结果表明制备的金纳米粒子链是错落有致的链状结构, 结节处可以观察到金原子的排列晶格, 说明金纳米粒子的链状连接不是外部分子作用的结果; 表面等离子体共振吸收峰出现红移现象, 且随着链长的增加红移越明显; 具有非常强的光散射特性, 散射光强度比浓度相同的金纳米粒子高8倍; 发射光谱中明显观察到其三级散射, 表明其具有很好的非线性光学特性. 对金纳米粒子链的形成机理进行了探讨, 认为表面活性剂烷基亲油作用和金原子的聚集作用相互竞争是链状结构形成的原因.  相似文献   
94.
室温条件下在水溶液中合成了粒度分布均匀、分散性好的CdS纳米粒子. 研究了pH值、反应时间等条件因素对其吸收光谱和荧光光谱特性的影响, 并探讨了CdS纳米粒子-酚藏花红体系的光谱特性、可能的作用机理和应用前景.  相似文献   
95.
基于非线性弹簧元数值分析模型,建立了横向荷载作用下原状软粘土中插入式大圆柱壳结构的最优化设计数学模型,从中可以求得多工况荷载组合作用下,结构最佳受力的圆柱壳最佳尺度匹配.采用Monte Carlo 方向探索随机行走法作为最优化方法,对通用有限元软件ANSYS进行了优化技术的再开发,基于FORTRAN与ANSYS软件平台联合构建适合薄壁圆柱壳结构自身特殊问题分析的优化过程.算例表明此优化技术是可行有效的,结构经优化设计后相对于原设计,受力条件更优,材料用量有所节省.  相似文献   
96.
涂层/基体材料界面结合强度测量方法的现状与展望   总被引:5,自引:0,他引:5  
界面结合强度是涂层/基体材料体系中的一项重要力学性能指标.而表征与评价涂层/基体材料的界面结合强度又得依靠实验 方法的测定.由于涂层/基体材料体系的多样性与复杂性, 至今还没有形成适合于测量这类材料的界面结合强度的标准方法. 目前, 常用来测量涂层/基体材料的界面结合强度的方法有:拉伸法、剪切法、弯曲法、划痕法、压入法等.本文就目前表征 与评价涂层/基体材料界面结合强度的测量方法做了综述, 讨论了它们的适用范围, 比较了它们的优势与不足.  相似文献   
97.
根据前人对有机Rankine循环和吸收式制冷循环的研究,本文选出了一组有潜力的吸收式动力循环工质R245fa+DMF。利用外循环可视汽液相平衡(VLE)测定装置,本文测定了温度293.15~353.15 K,压力15~700 kPa条件下R245fa+DMF体系的VLE数据。利用逸度系数法中的PR、SRK状态方程,活度系数法中的NRTL、Wilson模型,本文对体系的VLE数据进行了关联。偏差评价表明,NRTL模型能够较好描述该体系在实验温度压力下的VLE数据。从p-x图上可以看出,该体系呈现对Raoult定律较强的负偏差,显示R245fa和DMF具有很好的亲和性。因此,R245fa+DMF的组合具有成为吸收式动力循环工质对的潜力。  相似文献   
98.
杨建辉  陈言星  吴丽慧  韦世豪 《物理学报》2014,63(23):237301-237301
研究MC与Mn+1ACn(M=Sc, Ti, V, Cr, Mn; A=Al, Si, P, S; n=1, 2, 3)结构的稳定性与电子特征有利于探究三元层状结构Mn+1ACn稳定性的内在原因和设计新型Mn+1ACn结构. 第一性原理计算研究表明, M-3d与C-2p轨道间的电子转移对MC与Mn+1ACn 的形成焓有较大影响. 供电子能力较强的前过渡金属可以形成稳定的MC结构. 计算结果显示, MC结构是缺电子体系, 其趋向于与具有一定供电子能力的MA结构结合形成Mn+1ACn. 与M2PC和M2SC 相比, M2AlC和M2SiC可以更为容易地被分离成二维 M2C结构. 关键词: MAX相结构 第一性原理 电子结构 过渡金属碳化物  相似文献   
99.
核壳式碳纳米管-萘夫西林分子印迹聚合物的制备及应用   总被引:2,自引:0,他引:2  
采用溶胶-凝胶的方法,以碳纳米管为载体,萘夫西林(Nafcillin)为模板,无水乙醇为溶剂,氨丙基三乙氧基硅烷(APTES)和苯基三甲氧基硅烷(PTMOS)为双功能单体,四乙氧基硅烷(TEOS)为交联剂,合成核壳结构萘夫西林分子印迹聚合物(CNTs@Naf-MIPs).用透射电子显微镜(TEM)、傅立叶变换红外光谱仪(FT-IR)对萘夫西林分子印迹聚合物的结构、形貌进行了表征;对其吸附性能进行了详细研究,CNTs@NafMIPs对模板分子的吸附符合Langmuir方程,Qmax为9.5 mg/g,KD为56.6 mL/mg.制备的印迹聚合物只需30 min达到吸附平衡,吸附-解吸循环5次后,性能稳定.将其应用于加标5和10 μg/kg萘夫西林的鸡蛋样品的选择性富集,回收率可达61.3%~84.3%,准确性较好.  相似文献   
100.
以生物大分子γ-聚谷氨酸(γ-PGA)、β-环糊精(β-CD)为反应单元,通过酯化反应,制备接枝共聚物(γ-PGA-g-β-CD),用氢核磁共振(1 H-NMR)对共聚物进行结构表征。接着将γ-PGAg-β-CD在选择性溶剂中进行自组装,形成自组装胶束纳米粒子,利用纳米粒度分析仪及原子力显微镜(AFM)对胶束粒子的粒径和形貌进行表征。最后以γ-PGA-g-β-CD自组装胶束粒子溶液为电解液,结合恒电位电沉积技术,在镁合金表面制备γ-PGA-g-β-CD生物纳米涂层材料,利用傅里叶变换红外光谱(FT-IR)、扫描电子显微镜(SEM)及电化学工作站分别对涂层的化学组分、表面形貌以及电化学腐蚀性能进行表征。研究结果显示:β-CD的接枝率为28%,γ-PGA-g-β-CD自组装胶束粒子的流体动力学直径为(168±5.3)nm,所制备的γ-PGA-g-β-CD生物涂层可降低镁合金的腐蚀速率,具有较好的防护作用。  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号