双安息香缩乙二胺的合成及其配位性质

合成了双安息香缩乙二胺及其与 Ni( )、Pd( )、Pt( )、Zn( )、Cd( )和 Hg( )的配合物 ,并经质谱、红外光谱、元素分析和电子光谱等方法所表征 ;测定了溶液中配合物的稳定常数 ,并就该配体的特殊配位性质进行了讨论。     

恒电流吸附计时电位法的研究 Ⅱ.铜、铅的微分吸附计时电位法连测

研究了ＮＨ３／ＮＨ４Ｃｌ底液中，铜、铅与水杨基荧光酮（ＳＡＦ）形成的络合物在悬汞电极上的恒电流吸附计时电位溶出行为。讨论了富集时间，溶液ｐＨ值，溶出恒电流大小及铜、铅浓度比值等对ｄｔ／ｄＥ～Ｅ溶出曲线的影响。并得出了连测铜铅的条件。     

液晶环氧树脂研究进展

综述了液晶环氧树脂研究的新进展，介绍了液晶环氧化合物以及固化剂的种类和主要性质，着重介绍了环氧化合物活性，分子量以及与固化剂的匹配对液晶环氧树脂性质的影响。还简述了液晶环氧树脂的性能以及应用前景。     

FT合成沉淀Fe／Cu／K催化剂有效因子的计算Ⅰ．工业颗粒催化剂有效因子的计算

用包括水抑制作用的动力学方程，根据建立的反应扩散模型和ＦＴ合成化学计量关系，计算了工业原颗粒ＦＴ合成沉淀Ｆｅ／Ｃｕ／Ｋ催化剂在工业操作条件下的有效因子。根据不同的产物组成，建立了三种化学计量关系式，比较了气相反应和气液反应的有效因子，确立了ＦＴ合成沉淀Ｆｅ／Ｃｕ／Ｋ催化剂有效因子的计算方法。在ＦＴ合成反应条件下，产物蜡充满了催化剂的微孔，各组分在蜡中的扩散系数要比纯气相中的扩散系数小得多。在工况操作条件下（５２３Ｋ，２．５ＭＰａ，５００ｈ￣（－１），尾气循环比３．０），工业原颗粒（ｄ＿ｐ＝２．５ｍｍ，ｌ＿ｐ＝５～１０ｍｍ）催化剂的实际有效因子是纯气相反应的一半左右，计算的平均有效因子分别为０．４０和０．４２。     

日本工业标准(有色金属部分)中译本即将出版

为促进分析技术情报资料的交流,由冶金部情报标准研究总所组织,有色金属研究总院编译的《日本工业标准(有色金属部分)》即将由冶金工业出版社出版。内容包括轻金属、重金属、贵金属、难熔金属、稀有金属,及其合金等有色金属锭、棒、带、板、丝、粉的132个迄今沿用的标准分析检测方法,每个标准方法都附有相应的注释和说明。这些方法涉及重量法、容量法、分     

第5/6副族高价过渡金属氯化物的有机反应

从制备化学的角度, 对包括作者本人的研究工作在内的由第5/6副族高价过渡金属氯化物参加的有机反应进行了综述. 内容包括以下几个方面: (1)烷烃、烯烃和炔烃与第5/6副族高价过渡金属氯化物的卤化反应; (2)作为Lewis 酸催化的反应; (3)烯烃歧化反应及炔烃的聚合反应; (4) MoCl₅参与的芳烃氧化偶合反应; (5)硫醚化及扩环反应.     

CeO2负载的Cu, Ir和Pd催化剂上的醇转移脱氢反应

 研究了CeO2负载的Cu, Ir和Pd催化剂上的醇转移脱氢反应. 利用催化剂体系脱氢和加氢功能的偶合,在较温和的反应条件下实现了二级脂肪醇的高选择性转移脱氢. 其中, Ir/CeO2催化剂表现出较高的催化活性,其TOF值达16.0 h-1.     

Aromatic H／D Exchange Reaction Catalyzed by Groups 5 and 6 Metal Chlorides

Groups 5 and 6 metal chlorides such as MoCl5, WCI6, NbCl5 and TaCl5 were found to be simple and very efficientcatalysts for the aromatic H/D exchange reactions. Compared with other metal chlorides such as ZnCl2, SnCl4 and TiCl4, groups 5 and 6 metal chlorides showed better catalytic activity in the H/D exchange reaction of naphthalene with C6D6. Deuteration of anthracene using MoC15 as a catalyst proceeded within 24 h at room temperature. Other aromatic compounds such as toluene, diphenylmethane and 1,1,2-triphenylethane were also deuterated smoothly in C6D6 within 24 h at room temperature.     

双平面多圈注入模拟优化程序TPIS的初步开发与验证

为满足短时间内达到高累积流强要求,HIAF/BRing采用了一种新的注入方法--双平面相空间多圈注入。该注入方法与传统单平面多圈注入方法不同,而且在国际上是首次在实际项目中采用,尚无实际运行经验。因此,对注入过程进行程序模拟研究是验证双平面多圈注入方案可行性的必要手段。为详细模拟研究BRing双平面多圈注入过程,并克服已有程序跟踪速度较慢且注入参数修改不便的缺点,本文根据双平面多圈注入的特点,建立了双平面多圈注入模型,编写了双平面多圈注入模拟优化程序TPIS（Two-Planemultiturn Injection Simulation）。通过与ORBIT程序模拟结果对比,验证了TPIS程序模拟双平面多圈注入过程的正确性。在此基础上,在TPIS程序中加入了粒子群优化算法,并对BRing注入参数进行了优化。结果表明,TPIS程序可以对注入参数进行有效优化,经过优化后,束流损失减少了28%,最终剩余累积粒子数满足BRing的流强设计指标要求,进一步验证了双平面多圈注入设计的可行性。     

外开槽同轴波导大轨道回旋自谐振脉塞放大器

 运用大轨道电子束,对外开槽同轴波导回旋自谐振放大器进行了线性动力学理论分析和非线性自洽模型模拟。由线性动力学理论分析和非线性模拟得到的结果在线性增长部分吻合得很好。为了有效抑制绝对不稳定性,对电子束流的选择进行了讨论。计算结果表明：对于电压为700 kV, 电流为100 A, 电子束纵横向速度比为0.8的大轨道电子束, TE₅₁外开槽同轴波导回旋自谐振脉塞放大器的峰值功率和峰值效率分别可以达到6.27 MW和8.96%。