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银杏叶ginkgo biloba .L中含有多种二萜内酯和倍半萜内酯.Furukawa.S于1932年首次分离得到银杏内酯混合物;直到1967年,才由Koji Nakanishi和Okabe.K等人鉴定出其中各个成分的结构,并分别命名为Ginkgolide A、B、C、M(简称GA、GB、GC、GM)[1];Weinges K等分别于1969年和1987年分离并鉴定出白果内酯(Bilobalide,BD)[2]和Ginkgolide J[3](GJ).银杏内酯具有抗血小板活化因子(PAF)的作用[4],引起了世界医疗行业的广泛关注.对银杏内酯的HPLC分析常见的检测方法主要有UV、RI和近年出现的ELSD[5],但这些检测方法都有各自的缺陷,UV需在末端检测,易受干扰;RI不适合作梯度洗脱;ELSD灵敏度相对较低.随着对该类化合物的深入研究,发现银杏内酯提取物中尚有一些微量成分,用这些检测方法不足以获得较好的信号响应,本实验以质谱作为检测器,获得了较高的检测灵敏度,结合UV和MS提供的光谱信息,有利于分析鉴别微量成分. 相似文献
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In this paper,the derivation algebra of Lie superalgebra H of Cartan-type over F are determined by the calculating method in the situations of CharF = p≥ 3 or m ≥ 2 or n≥1.The main result is following:DerFH=adH(H" Fh)⊕<{adDi)pt|i=1,2,…,m,t=1,2,…,ti-1}>. 相似文献
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A 4H-SiC trench MOSFET structure with wrap N-type pillar for low oxide field and enhanced switching performance 下载免费PDF全文
An optimized silicon carbide (SiC) trench metal-oxide-semiconductor field-effect transistor (MOSFET) structure with side-wall p-type pillar (p-pillar) and wrap n-type pillar (n-pillar) in the n-drain was investigated by utilizing Silvaco TCAD simulations. The optimized structure mainly includes a p$+$ buried region, a light n-type current spreading layer (CSL), a p-type pillar region, and a wrapping n-type pillar region at the right and bottom of the p-pillar. The improved structure is named as SNPPT-MOS. The side-wall p-pillar region could better relieve the high electric field around the p$+$ shielding region and the gate oxide in the off-state mode. The wrapping n-pillar region and CSL can also effectively reduce the specific on-resistance ($R_{\rm on,sp}$). As a result, the SNPPT-MOS structure exhibits that the figure of merit (FoM) related to the breakdown voltage ($V_{\rm BR}$) and $R_{\rm on,sp}$ ($V_{\rm BR}^{2}R_{\rm on,sp}$) of the SNPPT-MOS is improved by 44.5%, in comparison to that of the conventional trench gate SJ MOSFET (full-SJ-MOS). In addition, the SNPPT-MOS structure achieves a much faster-witching speed than the full-SJ-MOS, and the result indicates an appreciable reduction in the switching energy loss. 相似文献
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AlON透明陶瓷因良好的透光性、热震稳定性、力学性能和良好的可加工性,在国防领域和民用领域有广阔的应用前景。本文采用改进的碳热还原氮化/沸腾床法批量制备AlON粉体,单批次产能可达2 kg,在AlON粉体的XRD图谱中未观察到第二相,激光粒径分析显示平均粒径为1.54μm,粒径分布均匀。使用该粉体进行冷等静压成型处理后,获得均匀性较好、致密度高的素坯。采用气压烧结法在1 850℃,氮气压力5 MPa下制备出光学透过率为82.3%,弯曲强度为310 MPa的AlON透明陶瓷片,对推进AlON透明陶瓷的应用具有一定的现实意义。 相似文献