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51.
52.
一种提高薄板稳定分析精度的方法 总被引:1,自引:0,他引:1
在薄板稳定分析中,九参数三角形薄板单元因其形状简单,使用方便,在实际工程中得到了广泛应用。本文基于参数调正的几何刚度矩阵,对九参数三角形薄板单元的一致刚度矩阵进行了修正,为提高计算精度提供了一种有效方法。 相似文献
53.
锡基巴氏合金磨损表面的分形与磨损率 总被引:6,自引:1,他引:6
利用结构函数分析法研究了滑动摩擦学系统中金属磨损表面轮廓线的分形特性。结果表明:磨损表面轮廓线在小于Sm的尺度上具有分形结构。采用结构函数法可以方便地确定粗糙表面轮廓线的分形参数,即垂直于滑动方向上磨损表面轮廓线的分维D可作为磨损表面分维的特征值,它与金属磨损率的变化有着密切的关系,最佳分维Dopt值对应于材料的最低磨损率。 相似文献
54.
架设阶段悬索桥静力问题的随机有限元分析 总被引:5,自引:0,他引:5
架设阶段的悬索桥不仅具有显著的几何非线性行为,而且存在材料特性的变异。本文建立了以增量形式表达的非线性摄动法随机有限元列式,并编制了悬索桥静力分析程序SNAP。针对一座国内在建的悬索桥,计算了该桥在某一施工阶段考虑缆索弹性模量随机性时主梁跨中点位移的变化。结果表明,材料随机性的影响十分明显。 相似文献
55.
桁架结构稳定分析的几何非线性欧拉稳定理论 总被引:3,自引:0,他引:3
目前,桁架结构稳定分析有两个理论:经典的特征值理论和几何非线性临界点理论。前者发展较早,在许多结构力学书中都有叙述。但是经过工程应用检验,它过高地估计了结构抗稳定的能力。后者是20年前提出的,提出者认为适用于所有的扁桁架。经过几年的研究,作者连续提出三个稳定理论:线性与非线性欧拉理论;非线性临界点-欧拉理论和两个计算方法,进行桁架结构的线性和非线性截面优化设计。经过理论研究和对前人文献中数值例题的计算和比较,发现特征值理论不符合实际,临界点理论只适用于大扁度的桁架,而不适用于一切扁桁架。研究结果提供了若干有用的结论,给出了各种稳定理论的适用范围,指出了国际文献中若干例题的正确和错误,补充了桁架结构的稳定分析理论,使之更为完整和实用了。 相似文献
56.
自然形成的岩石节理面的表面形状具有分形特性,利用分形理论来描述岩石节理的粗糙特性,并确立与岩石节理面的剪切力学特性间的关系对于指导岩体工程设计,和管理具有重要一研究利用开发设计的三维激光测距仪在精确测定岩石节理面的表面形状4 基础上,依据变量图法建立了 岩石节理面的 相似文献
57.
磁流变抛光在其实际工作过程中,抛光区域几何特征的不同将会对流场创成的关键参数产生很大的影响。针对此问题建立三维模型与实验仿真展开研究。在研究抛光区域几何特征与流场创成关键参数的关系时,先改变抛光区域形状,观察其对流场创成中剪切应力、压力产生的影响;再控制抛光区域的形状相同时,通过改变抛光区域尺寸大小,观察对流场创成中剪切应力、压力产生的影响。结果表明:当抛光区域形状不同时,抛光区域为凹面时剪切应力最大,抛光区域为凸面时剪切应力最小。当抛光区域形状为凸面时,抛光区域两边的剪切应力随着抛光区域曲率大小增大而增大;当抛光区域形状为凹面,抛光区域两边的剪切应力随着抛光区域曲率大小增大而减小。当抛光区域形状不同时,抛光区域为凹面时压力最大,抛光区域为凸面时压力最小。当抛光区域形状为凸面时,抛光区域处的压力随着抛光区域曲率增大而增大;当抛光区域形状为凹面时,抛光区域处的压力随着抛光区域曲率增大而减小。 相似文献
58.
59.
60.
We report the simulation results on the thickness uniformity of optical coatings deposited on spherical substrates by optimizing the geometric configuration parameters, such as tilting angle of the substrate holder and position of the evaporation source in a 1 000-mm-diameter planetary rotation stage (PRS). We reveal that good film uniformity on convex spherical surfaces or flat substrates, as well as concave surfaces with weak to moderate curvatures can be obtained through appropriate tilting of the substrate holder. For 300-mm-diameter substrates with clear aperture to radius of curvature (CA/RoC) between 0.3 and 0.7, the achievable film uniformity is above 99%. The source position is optimized to achieve good film uniformity. 相似文献