全文获取类型
收费全文 | 18篇 |
免费 | 24篇 |
国内免费 | 12篇 |
专业分类
化学 | 11篇 |
晶体学 | 3篇 |
力学 | 7篇 |
综合类 | 1篇 |
数学 | 3篇 |
物理学 | 29篇 |
出版年
2023年 | 1篇 |
2022年 | 2篇 |
2021年 | 4篇 |
2020年 | 2篇 |
2019年 | 1篇 |
2018年 | 2篇 |
2017年 | 1篇 |
2016年 | 3篇 |
2015年 | 5篇 |
2014年 | 2篇 |
2013年 | 5篇 |
2012年 | 3篇 |
2011年 | 2篇 |
2010年 | 2篇 |
2008年 | 3篇 |
2007年 | 1篇 |
2006年 | 1篇 |
2005年 | 2篇 |
2004年 | 1篇 |
2003年 | 3篇 |
2002年 | 1篇 |
2001年 | 1篇 |
1997年 | 1篇 |
1995年 | 1篇 |
1991年 | 1篇 |
1989年 | 1篇 |
1986年 | 2篇 |
排序方式: 共有54条查询结果,搜索用时 93 毫秒
41.
研究了埋氧层中注氮后对制作出的部分耗尽SOInMOSFET的特性产生的影响.实验发现,与不注氮的SIMOX基片相比,由注氮SIMON基片制作的nMOSFET的电子迁移率降低了.且由最低注入剂量的SIMON基片制作的器件具有最低的迁移率.随注入剂量的增加,迁移率略有上升,并趋于饱和.分析认为,电子迁移率的降低是由于Si/SiO2界面的不平整造成的.实验还发现,随氮注入剂量的提高,nMOSFET的阈值电压往负向漂移.但是,对应最低注入剂量的器件阈值电压却大于用SIMOX基片制作出的器件.固定氧化物正电荷及界面陷阱密度的大小和分布的变化可能是导致阈值电压变化的主要因素.另外发现,用注氮基片制作出的部分耗尽SOInMOSFET的kink效应明显弱于用不注氮的SIMOX基片制作的器件.
关键词:
SOI
nMOSFET
氮注入
电子迁移率
阈值电压 相似文献
42.
本文报道豚鼠在噪声暴露前后吸2atm或latm纯氧对噪声性听觉损伤的影响。暴露噪声是1/3oct窄带噪声,中心频率1000Hz,强度136dB作用1h。在噪声暴露前或暴露后吸2atm纯氧可以减小噪声引起的永久性听阈偏移(对短声)。吸2atm纯氧所起的作用(预防吸氧一次或治疗吸氧六次,每次1h),相当于把噪声强度降低1OdB(从136dB降至126dB。预防吸氧(暴露前吸氧)比治疗吸氧(暴露后吸氧)效果好。吸2atm纯氧比latm有效。文中讨论了吸高压氧或高浓度氧在预防和治疗噪声性听觉损伤中的某些机理。 相似文献
43.
轻敲模式下原子力显微镜微悬臂探针在接近其基态共振频率的外加驱动下振荡, 其末端针尖周期性靠近、远离样品, 产生于针尖与样品非线性相互作用过程中的高次谐波信号包含更多的待测样品表面纳米力学特性等方面的信息. 通过理论分析、计算, 系统地研究了针尖与样品接触时间受样品弹性模量的影响, 以及高次谐波幅度与接触时间的关系, 获得了通过高次谐波幅度区分待测样品表面弹性性质差异的规律. 并在自制的高次谐波成像实验装置上, 得到了与理论预期一致的实验结果.
关键词:
轻敲模式原子力显微镜
接触时间
高次谐波幅度
弹性模量 相似文献
44.
轻质金属点阵夹层板热屈曲临界温度分析 总被引:3,自引:0,他引:3
本文针对均匀温度场下四边简支和四边固支金属点阵夹层板的临界热屈曲温度进行了求解和参数影响分析。将点阵夹芯等效为均匀连续体,并且将夹层板的剪切刚度近似为点阵夹芯的抗剪切刚度,忽略夹芯的抗弯刚度且认为夹层板主要由面板来提供抗弯刚度。对于无法获得解析解的四边固支条件,通过对未知变量进行双傅里叶展开的方法求解了Ressiner夹层板模型的临界屈曲温度,理论分析结果与有限元计算结果吻合良好。进一步分析了不同边界条件、点阵胞元构型、点阵材料相对密度、面板厚度等对临界屈曲温度的影响规律。 相似文献
45.
泡沫铝的单向力学行为 总被引:13,自引:2,他引:13
本文对不同孔径的开孔泡沫铝材料的单向拉伸性能和单向压缩性能进行了研究,揭示了泡沫铝材料的变形机理,并且发现相对密度不是确定材料力学属性的唯一参数,孔径大小对材料的力学性能也有一定的影响。基于实验数据,我们讨论了材料的宏观力学性能和微观结构的联系,并利用Ramberg-Osgood模型描述了材料的单轴拉伸一维应力应变关系。 相似文献
46.
为了解决双极型碳化硅(SiC)功率器件中由于p型SiC在室温下难以完全电离所导致的p+n发射结注入效率低的问题,提出将p型CuAlO2与n型SiC形成的异质结作为发射结以提高该结的注入效率。本文利用溶胶凝胶(sol-gel)方法,在4H-SiC衬底上制备了CuAlO2薄膜,研究了低温热处理温度对CuAlO2薄膜晶体结构、表面形貌、光学特性的影响。结果表明:较高的热处理温度可以促进中间产物CuO的生成,进而在固相反应阶段促进CuAlO2相的产生,最终制备的CuAlO2薄膜主要以CuAlO2相的(012)晶向择优取向。随着低温热处理温度的升高,薄膜的表面均匀致密,空位缺陷含量降低,结晶质量提高。当低温热处理温度为300 ℃时,CuAlO2薄膜晶粒尺寸约为35 nm。此外,CuAlO2薄膜在可见光范围内的透过率超过70%,且随着预处理温度升高,薄膜光学带隙略有增加。 相似文献
47.
A gate-to-body tunneling current model for silicon-on-insulator (SOl) devices is simulated. As verified by the mea- sured data, the model, considering both gate voltage and drain voltage dependence as well as image force-induced barrier low effect, provides a better prediction of the tunneling current and gate-induced floating body effect than the BSIMSOI4 model. A delayed gate-induced floating body effect is also predicted by the model. 相似文献
48.
49.
利用微波辅助合成法,成功地合成出一系列新颖的稀土亚磷酸盐GdxTb2-x(HPO3)3(H2O)2(0≤x≤2).X-射线粉末衍射分析结果表明,它们为同构的化合物.对Gd2(HPO3)3(H2O)2进行X-射线单晶衍射分析得出,该化合物结晶于P21/c空间群,晶胞参数为a=6.9124(6),b=12.8891(12),c=12.3692(11),β=100.1520(10)°.Gd2(HPO3)3(H2O)2是由GdO7多面体,GdO8多面体和[HPO3]假四面体通过共用氧原子相互连接而成的三维骨架.Gd2(HPO3)3(H2O)2和Tb2(HPO3)3(H2O)2的荧光光谱分别显示Gd3+和Tb3+的特征发光.Gd/Tb掺杂的样品中存在Gd3+-Tb3+的能量传递,它们的发光显示Tb3+的绿光发射(5D4→7F3-6),并且5D4→7F3跃迁的强度随着Tb3+掺杂量的增大而增强,这表明Gd2(HPO3)3(H2O)2引入不同浓度的发光中心Tb3+之后可以作为绿光发光材料.磁性研究表明,Gd2(HPO3)3(H2O)2中存在极弱的反铁磁相互作用. 相似文献
50.
研究了埋氧注氮对部分耗尽SOI PMOSFET顶栅氧的总剂量辐射硬度所造成的影响。注入埋氧的氮剂量分别是8×1015 , 2×1016 和1×1017cm-2。实验结果表明,辐照前,晶体管的阈值电压随氮注入剂量的增加向负方向漂移。在正2V的栅偏压下,经5×105 rad(Si)的总剂量辐照后,同埋氧未注氮的晶体管相比,埋氧注氮剂量为8×1015 cm-2的晶体管呈现出了较小的阈值电压漂移量。然而,当注氮剂量高达2×1016 和 1×1017cm-2时,所测大多数晶体管的顶栅氧却由于5×105 rad(Si)的总剂量辐照而受到了严重损伤。另外,对于顶栅氧严重受损的晶体管,其体-漏结也受到了损伤。所有的实验结果可通过氮注入过程中对顶硅的晶格损伤来解释。 相似文献