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41.
脉冲高能量密度等离子体是一项全新的等离子体材料表面处理和薄膜制备技术。文章主要介绍了作者近几年来在这方面的研究成果。从理论和试验上研究了脉冲高能量密度等离子体的产生机制及其物理性质,研究了脉冲等离子体与材料相互作用的基本物理现象和物理机制,诊断测量表明,脉冲等离子体具有电子温度高(10-100eV)、等离子体密度高(10^14-10^16cm^-3)、定向速度高(-10^7cm/s)、功率大(10^4W/cm^2)等特点,在制备薄膜时具有沉积速率高,薄膜与基底粘结力强,并兼有激光表面处理、电子束处理、冲击波轰击、离子注入、溅射、化学气相沉积等综合性特点,可以在室温下合成亚稳态相和其他化合物材料。在此基础上,系统地进行了脉冲等离子体薄膜制备和材料表面改性及其机理的研究,在室温下的不同材料衬底上成功的沉积了性能良好的较大颗粒立方氮化硼、碳氮化钛、氮化钛、类金刚石、氮化铝等薄膜材料,沉积薄膜和基底之间存在一个很宽的过渡层,因此导致薄膜与基底有很强的粘结力,经脉冲等离子体处理过的金属材料表面性能得到了极大改善。 相似文献
42.
本文分析了右旋偏振波穿透高密度等离子体的条件,给出了理论根据及原理性实验的结果。实验证实,当ω_(ce)≈2ω时,右旋偏振波(哨波模)可以穿透很高密度的等离子体(ω_(pe)~2>>ω~2),并可能成为克服“再入”时“黑障”的一个途径。 相似文献
43.
在HL-1装置上,我们对电子回旋共振(ECRH)辅助击穿和电流启动进行了研究,发现这时建立等离子体电流所需的环电压降低了约一半,等离子全电流的上升率增加了约30%,放电初期所耗的伏秒数节省约1/3,约束得改善。 相似文献
44.
研究了大气压冷等离子体射流对子宫颈癌Hela细胞的灭活机制. 在倒置显微镜下观察不同等离子体处理条件下的细胞形态, 并通过中性红吸收测试定量测定各个条件下的细胞存活率. 将功率维持在18 W, 在900 mL/min 氩等离子体中添入氧气的百分含量分别为1%, 2%, 4% 和8%的条件下处理Hela细胞, 探讨活性气体氧气在惰性气体氩气中的百分含量对Hela癌细胞灭活效率的影响, 发现添加2%氧气时, 氩/氧等离子体灭活效果最佳, 处理180 s后细胞存活率可降至7%. 当继续添加氧超过2%时, 灭活效果逐渐减弱, 直至8%时, 其效果反而不如单纯氩等离子体. 通过测量等离子体发射光谱, 结果表明活性氧自由基在癌细胞灭活过程中可能起关键作用.
关键词:
大气压冷等离子体射流
Hela癌细胞
存活率
发射光谱 相似文献
45.
46.
自行研制的等离子体针在大气压下通过介质阻挡放电产生的等离子体,再由喷嘴处安装的漏斗形装置聚焦形成针状等离子体. 然后对针状等离子体的基本特性和杀Enterococcus faecalis(E. faecalis)菌进行了研究,E. faecalis菌是一种引起完善充填根管再感染的主要微生物. 当等离子体针功率为5—28?W时,对等离子体的温度进行了测量,表明它不同于其他热杀菌方式. 通过改变等离子体针内电极末端注入的氧气量,发现适当的氧气量,不仅增加等离子体内含氧粒子的浓度而且对等离子体的长度影响也不明显. 实验表明最佳参数为功率15?W,0.1?m3·h-1氦和2.5%氧气,间距12?mm,处理时间30 s. 为了找出杀菌的关键粒子,进一步比较了大气压下的等离子体针的发射光谱与agar(琼脂)2?mm下的光谱并找出关键粒子.
关键词:
大气压等离子体
介质阻挡放电
E. faecalis菌')" href="#">E. faecalis菌
光谱 相似文献
47.
光声成像结合了光学成像和声学成像的优点,是一种高分辨率,高对比度的无损伤医学成像技术.一种改进的同步迭代算法应用于光声图像重建.仿真和模拟结果表明,与传统的代数迭代算法相比,在90°,135°,180°的有限场光声成像中,此算法对测量误差的校正和迭代次数的收敛上具有较大的优势,图像重建的速度和成像质量都有了明显的提高.实验中,一种圆形扫描结构的光声成像装置,用于180°的有限场扫描,利用改进的同步迭代算法,重建出了高对比度和高分辨率(60μm)的鸡胚胎光声血管图像.实验证明,这种算法的应用,大幅度减少了数据采集时间,为光声成像技术运用于实时监测血流灌注和肿瘤光动力治疗的血管损伤效应提供了潜在的应用价值.
关键词:
光声成像
有限角度
代数迭代算法
光声血管成像 相似文献
48.
(Ti,Al)N Film on Normalized T8 Carbon Tool Steel Prepared by Pulsed High Energy Density Plasma Technique 下载免费PDF全文
Under optimized operating parameters, a hard and wear resistant (Ti,Al)N film is prepared on a normalized T8 carbon tool steel substrate by using pulsed high energy density plasma technique. Microstructure and composition of the film are analysed by x-ray diffraction, x-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and scanning electron microscopy. Hardness profile and tribological properties of the film are tested with nano- indenter and ring-on-ring wear tester, respectively. The tested results show that the microstructure of the film is dense ahd uniform and is mainly composed of (Ti,Al)N and A1N hard phases. A wide transition interface exists between the film and the normalized T8 carbon tool steel substrate. Thickness of the film is about lO00nm and mean hardness value of the film is about 26 GPa. Under dry sliding wear test conditions, relative wear resistance of the (Ti, Al)N film is approximately 9 times higher than that of the hardened T8 carbon tool steel reference sample. Meanwhile, the (Ti,Al)N film has low and stable friction coefficient compared with the hardened T8 carbon tool steel reference sample. 相似文献
49.
50.