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DETERMINATION OF CAPTURE BARRIERS OF DEFECTS FOR GaAs ALLOYS AND TRANSIENT PHOTO-RESISTIVITY SPECTROSCOPY 下载免费PDF全文
Si-doped Ga0.7Al0.3As grown by molecular beam epitaxy (MBE) and undoped Ga0.47Al0.53As grown by chemical beam epitaxy (CBE) have been investigated using a new deep level characterization method-transient photo-resistivity spectroscopy, which we recently developed. This method measures directly the capture process of deep centers. In GaAlAs, apparent capture barrier energy EB= 0.25eV of DX center was determined and intrinasic capture barrier energy Eσ = 0.16eV was directly measured. In GaInAs, a defect with capture barier energy EB= 0.2BeV was observed. The result proved that DX centers capture electron only from band L, belonging to small lattice relaxation model. The theoretical deduction of transient photo-resistivity spectroscopy was improved. 相似文献
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合成了新试剂5-[(4-乙酰氨基苯基)偶氮-8-氨基喹啉(AAPAQ),其结构经红外光谱和元素分析证实.光度法测定其酸离解常数pK_(■_2)=3.58.研究了非离子表面活性剂Twccn80存在下,试剂与钯的显色反应.在酸性介质中,钯与AAPAQ形成1:2的紫蓝色配合物,其最大吸收峰位于570nm,摩尔吸光系数为6.1×10~41.mol~(-1).cm~(-1)。钯量在0-18μg/25ml范围内符合比尔定律.方法简便、快速,可不经分离,直接用于钯催化剂中钯的测定. 相似文献
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利用样品Au-GaAs/p-Si的肖特基势垒二极管特性和深能级瞬态谱(DCTS),研究Si衬底上分子束外延生长的GaAs异质结的电学特性。I-V特性表明样品有大的漏电流存在,而快速热退火处理则能使样品I-V特性得以改善,并接近半绝缘GaAs(S.I.GaAs)上生长的Au-GaAs/S.I.GaAs样品的特性,它的来源不是热电子发射或产生-复合电流所引起,而可归结于缺陷参与的隧穿机制,它可通过快速热退火处理得以减小。DCTS谱表明在样品中可观察到Ec-0.41eV和Ec-0.57eV两个电子陷阱,前者可能
关键词: 相似文献
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Bi-2212元件(Bi-2212monofilar bulk element)是开发24KV/630A超导限流器(SFCL)的元件之一。本研究从实验和理论上探讨了Bi-2212元件的直流伏安特性、交流损耗特性、限流特性和局部温度分布。结果发现Bi-2212元件的临界电流增加了3.3倍而工作温度从77K降低到65K。尽管Bi-2212导体是线圈排列,但是其交流损耗的测量值与Norris方程的计算结果相似,温度都在77K和65K之间。故障期间每段温度的测量值与数值分析的结果一致。 相似文献
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