基于相关序列脉冲的布里渊光时域反射测量系统解码方法研究

布里渊光时域反射测量(BOTDR)系统空间分辨率和传感距离存在相互制约的关系.相关序列脉冲编码技术可用于解决这一矛盾,但直接对编码脉冲的布里渊散射采样信号进行解码,会因采样时间间隔小于编码单位脉冲宽度而导致解码信号的失真,从而降低了系统空间分辨率和测量精度.分析了直接互相关解码对BOTDR系统空间分辨率的影响,提出一种...     

HL-2M装置放电管理平台研制

HL-2M装置放电管理平台的主要功能是为装置运行人员提供一个运行时序系、PLC逻辑保护系统和反馈控制系统的平台.在放电间歇,它在历史数据的基础上预置下一次放电的各种控制波形、配置各个技术子系统的运行模式和运行参数.其基于反射内存的通讯机制主要负责将控制参数和预设波形以有效的、可靠的方式传递到其它子系统中.与各相关子系统...     

基于相变原理模拟红色顶发射有机电致发光器件的出光性能

研究了有机发光器件(organic light emitting diodes, 简记为OLED)半透明电极上形成的反射相移对OLED光谱产生调制现象.以红色微腔结构顶发射OLED(top emitting OLED,TOLED)为例,基于微腔理论和传输矩阵理论建立物理模型,采用计算机数值模拟方法,得出结果表明器件发光光谱的调制作用不只局限于有机层厚度,也和反射相移有关.通过改变覆盖到顶电极表面的有机层厚度的简单方法,可以实现对顶电极反射相移的调节,从而改变TOLED光学性能.这一结果为进一步改善器件的性 关键词： 反射相移模拟 红色微腔 顶发射有机发光     

纤维素纳米晶体薄膜的制备与表征

讨论了两种新型纤维素纳米晶体(Cellulose nanocrystal,CNC)薄膜的制备方法:浸没法和旋涂法,并利用红外反射吸收光谱(Infrared reflection absorption spectroscopy,IRRAS)和原子力显微镜(Atomic force microscopy,AFM)对其进行表征。AFM高度图显示两种工艺制备的CNC薄膜均由棒状的CNC纳米颗粒交错叠加而成。实验结果显示,旋涂法制备的薄膜更加光滑,粗糙度RMS约为2.7 nm。由于带电颗粒间斥力的存在,浸没法制备的CNC膜厚度最大约为15 nm,而旋涂法可以得到更厚的CNC薄膜,其厚度可达50 nm以上。研究CNC悬浮液浓度与旋涂法CNC膜厚之间的关系后发现,可以通过改变CNC溶液的浓度对薄膜厚度进行控制。IRRAS结果也证实随着CNC悬浮液浓度的增加,旋涂薄膜的厚度随之增加。     

常见黑色玉石的红外反射光谱测试及鉴定

红外光谱检测技术具有准确、快速、简便、无损等优点,广泛应用于不同领域.在宝石学领域,对于宝玉石的鉴定具有重要意义.本文以市场上常见的六种黑色玉石为实验测试样品,除常规检测外,采用红外反射光谱方法,得出对应的红外反射光谱图,分析比较它们的差异不同,达到有针对性的快速区分鉴定宝玉石种属的目的.     

随机利率下两全保险最佳年限的确定模型

寿险模型中利率的随机性问题是近几年来保险精算学中研究的热点和重点问题。本文从降低保险公司所面临风险的角度出发,在随机利率条件下给出确定两全保险的最佳年限模型。     

Study of a narrowband reflection filter with multi-channels

Reflection filters have various applications in optical communication and other systems.In this letter,we propose a narrowband high-reflection filter composed of dielectric and metallic layers,in which an optimized filter combined with an admittance-matching layer with broad stop band is achieved.The structure can be expressed as Sub ｜ （HL）13H2L（HL）313Cr0.84H ｜ air,with full-width at half-maximum （FWHM） bandwidth of 2.5 nm.Based on this structure,reflection filters with multi-peaks are presented,and the law of distribution of peak positions is drawn.     

All-reflective optical system design for extreme ultraviolet lithography

All-reflective optical systems,due to their material absorption and low refractive index,are used to create the most suitable devices in extreme ultraviolet lithography （EUVL）.In this letter,we present a design for an all-reflective lithographic projection lens.We also discuss its design idea and structural system.After analysis of the four-mirror optical system,the initial structural parameters are determined,the optical system is optimized,and the tolerances of the system are analyzed.We also show the implementation of optimal layout and desired imaging performance.     

显示反射全息图单光束相干复制技术

描述用单光束激光复活制银盐白光显示反射全息图的技术，本技术的关键：１）母全息图的颜色必须恢复到满足其布拉格条件；２）复制所用的光波与记录母全息图时的参考的相同；（３）复制所用的激光采用平行偏振，以减少界面反射；９４）采用白糖溶液作为折射率匹配液，取得极佳效果。