4-叔丁基-5-(1,2,4-三唑-1-基)-2-苄亚氨基噻唑的合成、晶体结构和抗菌活性

以履代(口片)吶酮,经1,2,4-三唑取以、溴以、硫脲环合得到4-叔丁基-5-(1,2,4-三唑-1-基)-2-氨基噻唑;再与芳醛缩合合成一系列新4-叔丁基-5-(1,2,4-三唑-1-基)-2-苄亚氨基噻唑(5).用单晶X射线衍射测定了化合物5a的晶体结构.化合物5a的晶体属三斜晶系,空间群以P-1,晶胞参数以:a=0.72749(12)nm,b=0.93463(15)nm,c=1.3398(2)nm,α=70.185(2)°,β=75.669(2)°,γ=73.611(2)°;V=0.8105(2)nm3,Z=2,Dc=1.342g/cm3,F(000)=344,R1=0.0431,wR2=0.1611,S=1.01.生物活性实验结果表明:化合物5c(25mg/L)对小麦赤霉病菌、稻曲病菌、对黄瓜灰霉病菌和稻纹枯病菌的抑制率分别以100%,100%,82.8%和80.3%.化合物5d(25mg/L)对稻纹枯病菌、油菜菌核病菌、小麦赤霉病菌和稻曲病菌的抑制率分别以100%,95.5%,100%和100%.化合物5e(25mg/L)对小麦赤霉病菌的抑制率以100%.5d对小麦赤霉病菌、油菜菌核病菌和水稻纹枯病菌的EC50值分别以1.16,1.38和1.47mg/L.     

In/GaAs(111)界面形成过程的电子能谱研究

用光电子能谱结合LEED图样分析的方法研究了In在非解理的GaAs(111)面上的界面形成过程。观察到在这一过程中三维In集团的生长起支配作用。发现对于所有研究过的n型样品,包括Ga终止的GaAs(111)-A面和As终止的GaAs(111)-B面,淀积In之前的表面费密能级均在VBM上面0.75±0.05eV处,在淀积过程中迅速移至VBM上面0.90±0.05eV处。 关键词：     

二元竞争风险场合二元PL估计的弱收敛性及其Bootstrap结果

本文考虑了在二元竞争风险场合下二元PL估计的问题.文中给出了关于二元PL估计的独立同分布表达式,即将估计的差表为均值为零的独立同分布过程的和,且其余项的阶为O((u^-1logn)^3/4)a.s.,并证明该过程弱收敛到一个二元Gauss过程.关于Bootstrap情况也得到了类似的结果.     

二硫蒽及其自由基正离子间电子转移反应的~1H/~2H和~(32)S/~(33)S同位素效应

二硫蒽和全氘代二硫蒽与它们的自由基正离子高氯酸盐之间的电子转移反应表现出显著的~1H/~2H和~(32)S/~(33)S同位素效应,可作为一种新的高效分离同位素方法的基础。     

程序升温还原技术研究Sm_（2－x）Sr_xNiO_4

本文用ＴＰＲ技术考察了Ｓｍ２－ｘＳｒｘＮｉＯ４的还原性能，探讨了Ｓｒ２＋取代对其结构及性能的影响．Ｓｍ２－ｘＳｒｘＮｉＯ４上有两个还原峰，低温还原峰的Ｔｍ值的变化趋势与Ｎｉ－ＯⅡ（／／ｃ－ａｘｉｓ）键长随ｘ的变化趋势相反，高温还原峰的Ｔｍ值的变化趋势与晶胞参数ｃ值的变化趋势相反．它们分别对应于不同结合态的氧的还原．     

用毛细管电泳方法分离有机酸的研究

利用3-氨丙基三甲氧基硅烷（3-APS）作为偶联剂将2，4-二硝基氯苯键合到电泳毛细管内壁上，形成具有一定疏水性的键合相，考察了改性柱对小分子有机酸的分离情况，在40mmol/L的KH2PO4（pH=5.5）缓冲溶液中可得最佳分离，结合量子化学计算数据进行保留机理的探索，可以确定存在着不同电性的集团间的相互作用。     

利用A型原子与光场的纠缠态传送腔场的奇偶相干态的叠加态

根据简并A型三能级原子与单模光场的非共振相互作用系统的改进型有效哈密顿量，利用矩阵方法推导出任意初始情况下原子—光场系统的波函数，通过改变相互作用时间，制备出原子—腔场系统的纠缠态，提出利用原子—腔场系统的纠缠态进行概率传送腔场的奇、偶相干态的叠加态的有效方案，对于振幅很大的单模光场，通过实行Bell态测量，能成功地概率传送腔场的奇偶相干态的叠加态，其成功的总概率为0.25。     

层次分析法在半导体物理实验课成绩评分中的应用

描述了影响半导体物理实验课评分的五个指标 ,介绍了层次分析法的原理 ,并将它应用到半导体物理实验课的评分中 ,建立了完善的、科学的评分方法 .最后列举了对九七级学生的评分实践 ,实践表明这种方法效果良好 .     

射流式真空紫外辐照模拟设备及其应用

介绍了空间环境条件下真空紫外辐照 (VUV)的损伤效应 ,以及真空紫外辐照模拟的几种主要形式。着重讲述了射流式真空紫外辐照模拟设备的基本结构、工作原理、技术参数及特点 ,并利用该设备初步研究了几种空间材料的真空紫外辐照损伤效应。结果表明 ,VUV使EP和CF/EP产生了明显的质损 ,导致力学性能下降 ,纤维和基体表面受到明显破坏。VUV与温度交变对聚酰亚胺吸光涂层的力学性能有明显影响。