首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  收费全文   10861篇
  免费   4246篇
  国内免费   5356篇
化学   7578篇
晶体学   379篇
力学   1123篇
综合类   256篇
数学   425篇
物理学   10702篇
  2024年   90篇
  2023年   394篇
  2022年   388篇
  2021年   479篇
  2020年   327篇
  2019年   477篇
  2018年   303篇
  2017年   477篇
  2016年   489篇
  2015年   611篇
  2014年   1116篇
  2013年   870篇
  2012年   872篇
  2011年   942篇
  2010年   878篇
  2009年   897篇
  2008年   1038篇
  2007年   940篇
  2006年   920篇
  2005年   897篇
  2004年   878篇
  2003年   780篇
  2002年   645篇
  2001年   666篇
  2000年   459篇
  1999年   398篇
  1998年   421篇
  1997年   376篇
  1996年   357篇
  1995年   395篇
  1994年   311篇
  1993年   265篇
  1992年   296篇
  1991年   247篇
  1990年   195篇
  1989年   205篇
  1988年   63篇
  1987年   36篇
  1986年   17篇
  1985年   20篇
  1984年   7篇
  1983年   11篇
  1982年   8篇
  1980年   2篇
排序方式: 共有10000条查询结果,搜索用时 531 毫秒
101.
以Nusselt理论为基础,运用三维坐标建立了肋片侧面的冷凝传热模型,对肋片侧面的冷凝传热机理进行了分析,得出了肋片侧面表面传热系数的积分表达式。利用此法对水平环肋单管表面传热系数进行计算并将结果与传统解法进行比较。  相似文献   
102.
热丝加热电流对CH薄膜沉积速率和表面形貌的影响   总被引:1,自引:1,他引:0       下载免费PDF全文
 热丝辅助裂解法是结合气相沉积制备聚对二甲苯薄膜和热丝化学气相沉积而形成的一种制-CH薄膜的新方法。热丝辅助裂解法的最大特点就是在保持低衬底温度情况下可以获得高沉积速率,而热丝加热电流对薄膜沉积速率和薄膜表面形貌具有重要影响。研究表明,热丝加热电流越大,薄膜沉积速率越高,在加热电流9A时,薄膜沉积速率可达0.002mm/min,同时薄膜表面粗糙度随之增加,薄膜表面也开始出现其它元素污染,因此,一般热丝加热电流选择为7A附近。  相似文献   
103.
单壁碳纳米管的SERS研究   总被引:2,自引:2,他引:0  
欧阳雨  方炎 《光散射学报》2003,15(4):250-253
本文通过改进实验方法,将单壁碳纳米管的乙醇溶液与金胶混合并制作成固体薄膜,使单壁碳纳米管夹裹在金纳米粒子之间,保证了吸附的紧密性,获得了高质量的单壁碳纳米管SERS光谱。不但观测到文献中报道的径向呼吸振动模(RBM)和C-C正切拉伸模(GM)的增强,还在1100-1500cm-1区域观测到一组新峰,其峰形完整并有相当的强度。这些峰在现有的文献中几乎没有报导。文章对这组新峰的出现进行了初步的分析。  相似文献   
104.
We use the multiple-scattering cluster method to calculated the sulphur 1s near-edge x-ray absorption fine structure (NEXAFS) of S-passivated InP(100) surface.The physical origins of the resonances in the NEXAFS have been unveiled.It is shown that the most important resonance is attributed to the photoelectron scattering between the central sulphur and the nearest indium atoms.The studies show that two S-S dimers with the bond lengths of 2.05A and 3.05A coexist in the surface,meanwhile the bridge and antibridge site adsorption of single S could not be ruled out.We support the scanning tunnelling microscopy result that the S-passivated InP(100) surface exhibits significant discorder.  相似文献   
105.
Quan  Min  LI  Hai  Xin  BAI 《中国化学快报》2003,14(3):290-293
A new method for indirect determination of cetyl-trimethyl ammonium bromide (CTMAB) with NaCl and NH4SCH by floatation and separation of zinc has been studied.The study shows that Zn(Ⅱ) can associate with NH4SCN and CTMAB to form insoluble ternary ion-association complex,and the precipitate can float on the surface of the liquid phase.A good linear relationship is observed between the floatation yield(E%) of Zn(Ⅱ) and the amount of CTMAB.On the ground,CTMAB Can be indirectly determined by determining E% of Zn(Ⅱ).The results were satisfactory.  相似文献   
106.
沉积铁钝化膜的傅立叶变换表面增强拉曼光谱   总被引:1,自引:0,他引:1  
利用恒电流沉积技术、傅立叶变换表面增强拉曼散射技术现场研究了0 1mol/LNaOH溶液中铁金属电极在不同电位下的表面氧化物的组成。结果表明,在电极预钝化区,表面首先生成的Fe(OH)2可由拉曼谱图中出现的550cm-1表征,证实了以往的研究结果。进入钝化区,表面二价氧化物逐步转化为高价氧化物Fe3O4及α 、δ 和γ FeOOH。在电位回扫的过程中,各氧化产物的还原以及铁表面SERS活性的逐渐消失导致谱峰强度降低。  相似文献   
107.
在冲击动态加载破坏下,金属材料会产生微孔洞、微裂纹和位错等微结构缺陷,这会明显影响材料的某些性能。采用中子小角散射技术研究了冲击加载前后合金材料微缺陷的变化。实验样品分别是以Al和Mg为基体、含有少量其他元素的两种圆柱状合金材料,将样品用不同速度的钢弹冲击,测量样品为加载前、后合金材料共计4个。  相似文献   
108.
用改进嵌入原子法计算Cu晶体的表面能   总被引:5,自引:0,他引:5       下载免费PDF全文
张建民  徐可为  马飞 《物理学报》2003,52(8):1993-1999
用改进嵌入原子法(MEAM)计算了Cu晶体12个晶面的表面能.结果表明,密排面(111)的表面能最小.其他晶面的表面能随其晶面与(111)晶面夹角的增加而增加,据此可以粗略地估计各晶面表面能的相对大小.给出的几何结构因子的确定方法及结果可以直接用于计算其他面心立方晶体的表面能及其他特性.在Cu,Ag等面心立方薄膜中出现(111)择优取向或织构的机理是表面能的最小化. 关键词: 改进嵌入原子法 铜 表面能 计算  相似文献   
109.
焦小瑾  王颖  鲁拥华  明海  谢建平 《光学学报》2003,23(11):281-1286
微孔激光器作为应用于近场光信息存储系统中的一种新型光源,它的出射光斑的近场特性对于近场光存储是十分重要的。针对纳米孔径运用角谱进行Fox-Li数值迭代,得到不同孔径微孔激光器的基模光强分布,然后运用二维非线性时域有限差分法分析微孔激光器出射端即微孔金属膜的近场光学性质,模拟计算了不同孔径和厚度的微孔金属膜的光强近场分布,从应用于近场光存储的角度,给出反映其近场光学特性的相关数据。发现由于TM模式下金属存在局域表面等离子增强效应,使得其出射强度比TE模式高一个数量级,从而更适于作为实际中近场光存储系统和原理试验的光学头。  相似文献   
110.
对不同的本底真空条件下,采用甚高频等离子体增强化学气相沉积技术沉积的氢化微晶硅(μc_Si∶H)薄膜中的氧污染问题进行了比较研究.对不同氧污染条件下制备的薄膜样品的x射线光电子能谱与傅里叶变换红外吸收光谱测量结果表明:μc_Si∶H薄膜中,氧以Si—O,O—O和O—H三种不同的键合模式存在,不同的键合模式源自不同的物理机理.μc_Si∶H薄膜的Raman光谱、电导率与激活能的测量结果进一步显示:沉积过程中氧污染程度的不同,对μc_Si∶H薄膜的结构特性与电学特性产生显著影响;而不同氧污染对μc_Si∶H薄膜电学特性的影响不同于氢化非晶硅(a_Si:H)薄膜. 关键词: 氢化微晶硅薄膜 甚高频等离子体增强化学气相沉积 氧污染  相似文献   
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号