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采用精细雾化施液CMP这一抛光工艺对氧化锆陶瓷进行抛光,实验研究了抛光液中具有代表性的酸碱调节剂对抛光氧化锆陶瓷材料去除率、表面形貌和表面粗糙度的影响及酸碱性对精细雾化施液分散稳定性的影响.结果表明:针对精细雾化液抛光工艺配制的二氧化硅抛光液在碱性环境中分散稳定性更好,虽然酸性抛光液对材料去除率更高,但酸对氧化锆陶瓷表面腐蚀性过大,不宜抛光氧化锆陶瓷;有机碱作为调节剂抛光后的表面质量明显优于无机碱及无机酸、有机酸;乙二胺配置的碱性抛光液精细雾化后抛光氧化锆陶瓷可获得优质超光滑低损伤表面及较高加工效率,表面粗糙度Rq为1.67 nm,材料去除率达182.23 nm/min. 相似文献
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针对超声波雾化施液化学机械抛光过程中磨料的机械作用和化学特性从化学动力学及分子动力学两方面研究了抛光液磨料粒度对材料去除速率的影响和机理.采用不同粒度的磨料及组合进行了雾化施液CMP抛光实验.实验结果表明:磨料粒径在15 nm至30 nm范围内,粒度比较大的磨料能够传递更多的机械能,较小的磨料比较大的磨料具有更强的化学活性,对硅片表面材料的去除影响更为显著.向当前抛光液中加入5wt;的15 nmSiO2时,材料去除率增加至196.822 nm/min,而加入相同质量的30 nm SiO2时,材料去除率增加至191.828 nm/min.说明小尺寸的磨料在雾化施液CMP过程中不仅起着机械作用,还起着增强化学活性的作用. 相似文献
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利用正向加载和逆向加载相结合的实验方法,实验研究了从低压到高压三种不同压力范围内Fe基α相合金(Fe-85.03wt%,Mn-7.63wt%,Ni-7.01wt%,Al-0.3wt%)的冲击相变和卸载逆相变历程及对应加载状态的层裂行为特征.给出了Fe基α相合金含冲击相变和卸载逆相变的加卸载Hugoniot线,发现冲击相变阈值、逆相变阈值和冲击加载压力共同决定其冲击加卸载历程,冲击相变强烈影响其层裂行为,导致样品发生了"异常"层裂.利用获得的冲击加卸载历程从应力波相互作用的角度解
关键词:
α相合金')" href="#">Fe基α相合金
相变
逆相变
层裂 相似文献
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用密度泛函理论(DFT)和QCISD(quadratic configuration interaction with single and double excitations)方法研究了类锗烯H2GeClMgCl在气相和五种溶剂中的构型与异构化反应. 结果表明, 类锗烯H2GeClMgCl有三种平衡构型. 其中p-配合物型构型能量最低, 是其存在的主要构型. 讨论了溶剂效应对结构、能量与异构化反应的影响. 计算模拟了最稳定构型的红外光谱. 相似文献
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L3t[1]istherealsecondclassicaldomains.ThemapdefinedbyW~(I T)--'(I--T)carriesRillontotheunboundeddomainWhichisinvariantfinderthelineartransformationW=ATA',whereAisannxnupertrianglarmatrixwithpositivediagonalelements.SuchtransformationsformaLiegroupRill(n),whichisequivalenttoRillunderthemapdefinedbyW=AA'.TheAiscalledthehoro-hypercirclecoordinateofRRII.Itiswell-knownthatinRillthereisanillvariantmetricdsZ=tr[(I--KW)--'dW]'.InRHI,,whichisequaltothemetricdsZ=fir[(W--'dW)'].Inthehoro-h… 相似文献
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采用VISAR和X光联合测试技术,利用等厚对称和逆向碰撞法测量了FeMnNi合金高压加卸载历程和相变层裂信息。加载过程中,FeMnNi合金样品发生α→ε相转变,相变波速大于塑性波速,在撞击面上相变波与塑性波合并成单一相变波;卸载过程中,FeMnNi合金样品可能发生了逆相变,形成了除合并相变波在自由面反射中心稀疏波R以外的两道卸载波S1和S2。等厚对称高压加载下,FeMnNi合金样品发生了二次层裂。分析中心稀疏波R、卸载波S1和S2在样品中的传播作用过程,发现样品发生冲击相变和卸载逆转变是导致其等厚对称高压加载下发生二次层裂行为的主要原因。 相似文献