Analysis on absolute measurement of optical coating absorption loss based on photothermal detuning technique

Based on the photothermal detuning technique, the three linear relations among reflectance （or trans- mittance）, temperature rise, and pump beam power are studied to achieve the absolute measurement of absorption loss. The relation between temperature and reflectance and the calculation accuracy of tem- perature rise on sample surface have great impacts on the measured result. The influences of parameters involved in the method and the relation between temperature and reflectance and the temperature model of sample surface are also studied. The results show that the absolute absorption loss of optical coatings can be achieved by the proposed method. The measurement accuracy depends on the temperature model and the relation between temperature and reflectance. The linear relation between reflectance and temper- ature rise has largest slope when probe beam wavelength is 632.8 nm and incident angle is 28°. The linear relation slope between temperature rise and pump beam power decreases with the growing of beam size and modulation frequency. The results provide theoretical and experimental supports for the perfection and further application of the photothermal detuning technique.     

直流溅射法制备电致变色WO_3膜

采用ＷＯ３陶瓷靶直流溅射制作了电致变色膜．介绍了制膜工艺．分析测试表明，膜有无定形结构；除有正常成分ＷＯ３外，还含有来自衬底及反应室内的微量杂质．电致变色谱响应特性和电化学特性的测量证明，膜的电色活性良好．还对实验结果作了理论分析．     

电镜样品的激光镀膜技术

非导电的样品用扫描电镜进行观测时需要对样品进行镀膜处理以获得清晰的图像, 本文介绍应用脉冲激光沉积(PLD)技术对非导电样品的表面进行镀膜处理的方法和实验装置及实验结果.     

等离子辅助镀膜技术

传统的电子束蒸发工艺提供了高速率的沉积，但由于成膜分子的能量较低，使沉积的薄膜排列密度很低，其性能和块材料区别很大，已有不少学者发现了很多金属和氧化物薄膜具有典型的柱状结构，薄膜的低排列密度造成了其光学常数和机械性能不如块状材料，近几年发展起来的高功率等离子体辅助镀膜技术解决了上述问题，本文报道了我国自己研制的等离子体源（GIS）的性能指标，用这个源所做的单层TiO2膜的成膜工艺与质量，以及用等离子辅助沉积的减反射膜的工艺。     

离子束辅助淀积低温微光学元件红外宽带增透膜

简要叙述了锗基片微光学元件红外宽带减反膜的设计与制作。着重介绍了离子束辅助淀积制备该膜系的过程，给出了用该方法制作８～１２μｍ波段的减反膜的测试曲线，它具有峰值透过率高，在设计波长范围内的平均透过率大于９７％以上，膜层附着好，可以切割和擦洗，可以在室温和１００Ｋ低温下反复循环使用。     

“天光”一号MOPA系统光学元件加工与镀膜的进展

本文阐述了在中国原子能科学研究院“天光一号”ＫｒＦ激光核聚变实验装置上，ＭＯＰＡ系统光学元件加工与镀膜研究工作的进展。实验测量结果表明，加工后的基片表面均方根粗糙度对于Ｋ９光学玻璃与熔融石英玻璃来说分别为σｒｍｓ＝１．８±０．５ｎｍ，σｒｍｓ＝２．０±０．４ｎｍ。镀ＨｆＯ２／ＳｉＯ２高反射膜的光学元件的反射率与破坏阈值分别为Ｒ＞９９．５％，Ｅｔｈ＝１．３０～１．３３Ｊ／ｃｍ２。镀Ａｌ２Ｏ３／ＭｇＦ２增透膜的光学元件的透射率与破坏阈值分别为Ｔ＞９９．５％，Ｅｔｈ＝１．３～１．９７Ｊ／ｃｍ２。     

直流溅射电致变色NiOxHy膜的研究

采用直流溅射Ni(OH)2粉末压实靶制作了电致变色膜.介绍了制膜工艺,用XRD谱研究了着色前、后膜的结构,XPS谱研究Ni、O的结合.谱响应特性和电化学特性表明,膜的电色活性良好.     

镀膜玻璃的色差分析与测定方法探讨

影响镀膜玻璃外观的关键质量指标是其颜色的均匀性，本文结合实际情况，详细论述和探讨镀膜玻璃的色差分析和测定，提出了一种镀膜玻璃色差指标的表征方法。