| 等离子辅助镀膜技术 |
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| 引用本文： | 贾克辉,徐颖,高劲松,曹健林.等离子辅助镀膜技术[J].发光学报,2002,23(6):623-626. |
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| 作者姓名： | 贾克辉 徐颖 高劲松 曹健林 |
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| 作者单位： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,应用光学国家重点实验室光学技术中心,吉林,长春,130022 |
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| 基金项目： | 中国科学院创新基金(ZJ00C04T)资助项目 |
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| 摘 要： | 传统的电子束蒸发工艺提供了高速率的沉积，但由于成膜分子的能量较低，使沉积的薄膜排列密度很低，其性能和块材料区别很大，已有不少学者发现了很多金属和氧化物薄膜具有典型的柱状结构，薄膜的低排列密度造成了其光学常数和机械性能不如块状材料，近几年发展起来的高功率等离子体辅助镀膜技术解决了上述问题，本文报道了我国自己研制的等离子体源（GIS）的性能指标，用这个源所做的单层TiO2膜的成膜工艺与质量，以及用等离子辅助沉积的减反射膜的工艺。
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| 关 键 词： | 等离子辅助沉积技术 光学镀膜 成膜工艺 薄膜制备 减反射膜 |
| 文章编号： | 1000-7032(2002)06-0623-04 |
| 修稿时间： | 2002年7月19日 |
Plasma Ion Assisted Deposition for Optical Coating |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | plasma ion assisted deposition optical coatings |
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