沉积在熔融玻璃基底表面金薄膜的电输运特性

研究了沉积在熔融玻璃基底表面的金薄膜的电输运特性和阻温特性，实验结果表明，在电流小于50mA情况下，金薄膜在真空中的直流，—γ特性与传统的RRN模型计算结果相符合；在电流大于50mA情况下，它与传统薄膜系统的直流，—γ特性有很大区别，分析表明，熔融玻璃基底表面的非平整性以及不稳定性是影响此类薄膜特征电阻率的主要原因，此外，在一定条件下，金薄膜的阻温系数在温度为43K附近发生正负值转变。     

Influence of Femtosecond Laser Irradiation and Heat Treatment on Precipitation of Silver Nanoparticles in Glass

Silver nanoparticles were precipitated inside an Ag2O-doped glass by femtosecond laser irradiation and successive heat treatment. The influence of heat treatment temperature on the precipitation of silver nanoparticles was investigated. Absorption spectra show that the femtosecond laser irradiation results in an apparent decrease of the treatment temperature for the precipitation of Ag nanoparticles. We demonstrate the control of precipitation, dissolution and growth of silver nanoparticles inside glass by changing the heat treatment temperature of using further femtosecond laser irradiation.     

硅基光导波结构的特性研究

研究了在硅基底上采用等离子增强化学汽相淀积（ＰＥＣＶＤ）氮氧化硅（ＳｉＯＮ）所形成的包括通道波导、条汉志、倒脊型波导等多种结构的特性，通过对测试结果进一步分析，总结出有关结论并提出一些改进方法。     

铝基板的界面扩散对薄膜型TiO2光催化活性的影响

以钛酸四丁酯为前驱体, 采用溶胶-凝胶法在铝基板表面制备了纳米晶TiO2薄膜. 运用XRD、SEM和XPS对制得的薄膜进行表征, 并测试了薄膜光催化降解亚甲基蓝(MB)的活性. 结果表明, TiO2薄膜样品在450 ℃焙烧30 min后, 晶粒排列比较致密, 粒径为10-20 nm, 并与铝基板紧密结合; 薄膜与铝基板发生了明显的界面扩散, 薄膜中的Al元素来自铝基板的界面扩散, 且界面层很宽, 扩散层厚度约为75 nm; 界面扩散的发生直接导致了TiO2薄膜的光催化活性下降. 但随着薄膜厚度增加, 铝基板对TiO2薄膜降解亚甲基蓝催化活性的影响不断减小.     

自组装单分子膜及其表征方法

自组装单分子膜的研究是近年来十分活跃的研究领域. 随着膜的应用领域的拓展 ,对膜的表征方法不断提出新的要求.本文综述了自组装单分子膜体系的类型和基底表面的 处理方法,着重从电化学、谱学、显微学以及表面润湿性等方面综述了近几年来自组装单分子膜的表征方法研究进展, 并对其发展前景作了展望.     

卟啉类化合物液相基体激光解吸质谱研究

本文叙述了使用液相基体帮助激光解吸质谱新方法对一系列卟啉类化合物分析研究工作。分别使用硝基苯辛醚和15-冠(醚)-5两种液相基体获得了一系列卟啉类化合物的激光解吸质谱,并对其特点进行了讨论所用方法绝对灵敏度优于0.5 ng。此外,还成功地对多至六个组分的卟啉类化合物进行直接解吸质谱分析。结果表明新的液相基体帮助激光解吸质谱法对卟啉类化合物分析有十分优异的“软”电离特性。     

YBCO涂层导体CeO2,Y2O3缓冲层的生长研究

采用反应溅射的方法在具有立方织构的Ni基底上制备了CeO2,Y2O3缓冲层.Ar/H2气氛下预沉积的引入,有效地抑制了基底的氧化.同时,为保证薄膜的外延取向,预沉积时间必须和总沉积时间满足线性关系.对比CeO2,Y2O3的生长条件,发现CeO2的外延生长区间比Y2O3宽,Y2O3的生长对温度、气压等条件更为敏感.最终制备的CeO2缓冲层是纯的(100)取向,其平面内φ扫描半高宽(FWHM)为8.5°;而Y2O3存在两种平面取向,一种是Y2O3(110)‖Ni(100),另一种是Y2O3(100)‖ Ni(100).俄歇能谱观察表明,CeO2/Ni界面优于Y2O3/Ni界面.扫描电镜照片显示,CeO2,Y2O3缓冲层的表面均匀致密,无裂纹生成,但两种薄膜中,都有呈三角形的胞状突起.     

向量等式(AP)|→=m(AB)|→+n(AC)|→中的系数问题处理策略

考查向量(AP)|→=m(AB)|→+n(AC)|→等式中有关系数问题,纵观近几年的高考试题,可以说是屡见不鲜,考生若对此类问题的解决方法掌握不全面,解题时往往不知从何入手,下面就此类问题总结了几种常见的处理策略,仅供大家参考.     

基底复制技术研究

研究了基于Au和Ag两种分离材料,环氧复制和电镀Ni后再环氧复制的基底复制技术.采用直流磁控溅射技术在不同工艺的复制基底上镀制Mo/Si多层膜反射镜,利用反射率计测量其反射率.测量结果表明:电镀Ni后再环氧复制的Au基底反射率最高.     

As40Se60硫系玻璃基底薄膜制备与应力分析

硫系玻璃是一类优秀的红外光学镜片材料，但其热膨胀系数较大，与Si、Ge等红外光学材料相比，硫系玻璃镜片在镀膜过程中产生的残余应力较大，镀膜后面形变化较大。研究膜层中应力并优化应力的控制方法，可以提高薄膜的力学性能。本文通过测量在As₄₀Se₆₀硫系玻璃上镀膜前后基底的变化量来研究基底上不同材料膜层的残余应力情况，同时使用ANSYS软件对As₄₀Se₆₀/ZnS/Ge/ZnS/Ge/ZnS/YbF₃/ZnS红外光学镜片膜系结构的热应力进行理论计算与仿真，验证了模型的合理性。分析了膜系结构中热应力在轴向与径向分布情况，结果显示：轴向热应力主要集中在膜层部分，表面膜层的热应力最大；径向热应力呈均匀分布，在边缘发生突降。分析了最外层保护膜的热应力与沉积温度、相邻膜层、不相邻膜层和基底的关系，结果表明：沉积温度在110℃到200℃的范围内，保护膜的热应力与沉积温度成正比；相邻膜层和不相邻膜层的厚度和材料均不影响保护膜的热应力；基底的厚度会对保护膜的热应力产生影响。