VA族元素对阳极铅(Ⅱ)氧化物膜半导体性质的影响(Ⅱ)

用光电化学电流法研究了铅、铅砷、铅锑和铅铋合金在4．5mol·L－1H2SO4溶液（22℃）中，以0．9V（vs．Hg／Hg2SO4）极化7h而形成的阳极膜中的氧化铅的半导体性质，合金添加剂砷、锑和铋对t－PbO（四方氧化铝）和o-PbO（斜方氧化铝）的禁带宽度没有影响，从量子效率和电位的关系可求Pb，Pb－lat％As（at％表示原子百分比，全文同），Pb-lat％Sb和Sb－lat％Bi上膜中t－Pbo的施主密度（ND）分别为9．3×1015，1．0×1016，3．1×1016和1．3×1017cm-3，平带位分别为-0．20，－0．22，－0．28和-0．08V（vs．Hg／Hg2SO4）．比较VA元素砷、锑和铋对上述膜中t－Pbo的ND（从而自由电子密度）和膜中t－Pbo的生长速率的影响，可认为法添加剂砷、锑和铋对阳极膜中t-Pbo的作用符合Hauffe规则．     

壳聚糖-聚羟基丁酸酯共混膜的制备与性质

以乙酸为共溶剂,制备了壳聚糖-聚羟基丁酸酯(CTS-PHB)共混膜,利用红外光谱(FT-IR)、广角X粉末衍射(WAXD)、扫描电镜(SEM)及差热分析(DTA)表征了共混膜的化学组成、晶形、形貌和热稳定性能。研究表明:CTS和PHB可在体积百分数为62.5%的乙酸溶液中共混,形成表面光滑、不透明的膜,干态共混膜具备一定的力学强度。各比例的CTS-PHB共混膜有相同的热分解温度,共混膜的形貌特征随两组分质量配比变化,其中mPHB/mCTS=1/1的共混膜显示出良好的有序结构。     

La2O3对氧化铝透明陶瓷显微结构和透光性能的影响

采用传统无压烧结工艺在氢气氛下制备Al2O3透明陶瓷。实验结果表明：MgO和La2O3复合添加时，随着La2O3掺杂量的增加体积密度总体上保持上升的趋势。随着保温时间的延长，陶瓷的致密化程度增大，残余气孔逐步排出，晶粒进一步长大。采用La2O3和MgO复合添加比单独掺入MgO陶瓷样品透过率更高，掺杂效果更好。在烧结温度为1750℃，保温时问为1h条件下，在波艮为300～800nm测试范围内，陶瓷样品的全透过率大于82％，最大值为86％。     

聚酰亚胺LB膜研究进展

阐述近年来聚酰亚胺ＬＢ膜研究的发展概况，包括聚酰亚胺ＬＢ膜的制备方法、结构、性能及应用。     

Donor-acceptor properties, catalytic activity, and negative charge exoemission from the alumina surface modified with lithium cations

Donor-acceptor properties of alumina modified with lithium cations were studied by ESR of paramagnetic complexes of adsorbed anthraquinone. The results were compared with the data on negative ion emission (exoemission) accompanying the decomposition of isopropyl alcohol in the adsorption layer. The data on the activity measured by the pulse microcatalytic technique in isopropyl alcohol decomposition are discussed. Small additives of lithium were found to promote catalytic activity of the samples. The role of acid and basic sites in isopropyl alcohol decomposition was discussed. Published in Russian in Izvestiya Akademii Nauk. Seriya Khimicheskaya, No. 4, pp. 616–621, April, 2006.     

ESR study of products of transformation of 3,6-tert-butylpyrocatechol on alumina, zinca, silica, and titania

The formation of semiquinone and phenoxazyl radicals and metallocomplexes with semiquinone ligands was observed by ESR during the interaction of di-tert-butylpyrocatechol with Al₂O₃, ZnO, SiO₂, and TiO₂. In the case of different modifications of SiO₂, admixtures of TiO₂ exhibit a higher reactivity in complex formation with the organic substrate. Translated fromIzvestiya Akademii Nauk. Seriya Khimicheskaya, No. 10, pp. 1975–1978, October, 1998.     

有机硅耐磨透明涂层的固化分析

ＦＴＩＲ、ＴＧ、ＴＢＡ等对有机硅耐磨涂料（有机硅溶胶）的热固化过程研究表明有机硅胶体中缔合羟基间的脱水缩合速率很高；羟基脱水程度与固化温度有关，温度越高，达平衡时羟基的浓度越低，在１０５～１３０℃间羟基的浓度变化最大，加入适当的固化剂，对羟基的脱水交联有促进作用，在较高的固化温度下，反应体系中出现了环氧环异构化产生的酮羰基的吸收峰     

Preparation and Properties of Anti-Reflection/Anti-Static Thin Films for Cathode Ray Tubes Prepared by Sol-Gel Method Using Photoirradiation

A new technique for preparing anti-reflection/anti-static thin films for CRTs at low temperature has been developed. Double-layered films of SiO₂/SnO₂ were formed on a CRT panel surface by the sol-gel method using photoirradiation. The new method makes it possible to reduce heat treatment temperature (°C) by almost 50% and treatment time to approximately 33% of the conventional levels.     

Y_2O_3∶Eu~(3+)薄膜的制备及发光性能的研究

以稀土氧化物为原料,用溶胶-凝胶法制备前驱液,加入适量的聚乙烯醇做成膜物质,用浸渍拉提法在石英玻璃表面上得到均匀的薄膜,然后经过适当的干燥和热处理得到Y2O3∶Eu3+发光薄膜.讨论了Eu3+的掺杂浓度和热处理温度对薄膜发光性能的影响.试验表明:Eu3+的最佳掺杂浓度为8%(摩尔分数),薄膜的发光性能随热处理温度提高而增强,当热处理温度达到700℃后,薄膜的发光性能基本上稳定.同时用原子力显微镜和X射线衍射分析了薄膜的表面形貌和结构.     

催化裂化USY／ZnO／Al2O3脱硫添加剂的高温水热失活

 对USY／ZnO／Al2O3汽油催化裂化脱硫添加剂经高温水热老化处理前后的脱硫性能进行了考察，发现老化后添加剂的脱硫性能大幅度下降．采用XRD和IR等技术对USY／ZnO／Al2O3添加剂在高温和高温水热条件下失活的原因进行了研究．结果表明，在高温下，ZnO可与USY沸石中的铝发生固相反应生成ZnAl2O4尖晶石，从而造成USY晶体结构崩塌，转变成无定形状态．在ZnO含量较高的条件下，ZnO可继续与USY晶体结构崩塌后生成的无定形的硅和铝的氧化物反应，生成Zn2SiO4硅锌矿和ZnAl2O4尖晶石结构．这一方面使添加剂失去了可形成硫化物吸附中心的ZnO，另一方面破坏了硫化物的裂化活性组分USY，从而造成添加剂脱硫性能下降甚至失去脱硫活性．ZnO对USY的破坏作用主要与温度有关．在USY／ZnO／Al2O3体系中，ZnO被ZnO与Al2O3之间形成的锌铝尖晶石膜固定并与USY隔离，单纯的高温条件对添加剂的破坏不显著，而水蒸气可以促进ZnO的移动，有利于ZnO与USY的接触，因此在高温和有水蒸气存 在的条件下添加剂的结构易遭到破坏．