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51.
本文对ICP-AES法测定合金钢及镍基合金中的钨进行了系统的研究。试验表明,钨400.875纳米不受钼400.867纳米线干扰,亦无其它光谱干扰,测量范围在0.2-2%时相对标准偏差不大于3.7%,准确度较好。经过对不同基体及不同组分标钢的测定,有13种标钢能够很好共线,证明钨的测定非光谱干扰基本可忽略不计。本方法化学处理简单,不需分离掩蔽等手段可直接测定。 相似文献
52.
已提出的各种可能机理有束流引起的化学反应,高电流密度使表面局部区域内原子加热导致的局部原子的蒸发、熔化、再结晶等,有些结构可能是由于污染物或针尖材料在表面上的沉淀而产生的.当样品表面有覆层或处于特定的气体或液体氛围下时,用STM仍可在其上产生各种细微结构,其主要方法可分为两类,其一是电子束光刻,其二是电子束辅助淀积和刻蚀,以下分别进行讨论。 相似文献
53.
54.
55.
实验结果表明改进的实验室EXAFS谱仪测试Ni箔的K吸收得到的EXAFS谱与同步辐射上测量Ni箔得到的EXAFS谱相近,利用实验室EXAFS方法也可开展较好的结果测量研究,在SiO2粉末载体上Ni负载量变化的EXAFS结果表明,随着Ni负载量的降低,Ni的径向结构函数主配位峰的位置R=0.220nm保持不变,但振幅强度逐渐降低。负载量从Ni箔到2.5%Ni/SiO2,无序度因子σ由0.0068nm 相似文献
56.
57.
在(NH4)3VS4/CuI/Py反应体系中合成了新化合物 [VS4Cu6(Py)8I3]并测定其晶体结构。该化合物(C40H40N8Cu6I3S4V)属正交晶系, 空间群为Fdd2, 晶胞参数为: a = 29.924(6), b = 13.475(3), c = 25.853(5) , V = 10425(4) ?, Dc = 2.006 g/cm3, Mr = 1573.92, Z = 8, (MoK) = 4.546 mm-1, F(000) = 6048。结构由直接法解出, 用全矩阵最小二乘法修正, 最终偏离因子R = 0.023, wR = 0.069。簇合物分子是由6个带端基配体的Cu沿着四面体单元VS4的6条SS边配位而成, 6个Cu排列成了1个八面体, V基本位于八面体的中心, 整个分子具有C2对称性。 相似文献
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60.