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实验结果表明改进的实验室EXAFS谱仪测试Ni箔的K吸收得到的EXAFS谱与同步辐射上测量Ni箔得到的EXAFS谱相近,利用实验室EXAFS方法也可开展较好的结果测量研究,在SiO2粉末载体上Ni负载量变化的EXAFS结果表明,随着Ni负载量的降低,Ni的径向结构函数主配位峰的位置R=0.220nm保持不变,但振幅强度逐渐降低。负载量从Ni箔到2.5%Ni/SiO2,无序度因子σ由0.0068nm 相似文献
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利用XRD和XAFS方法研究机械合金化Fe70Cu30二元金属合金随球磨时间的结构变化.XRD结果表明,球磨2 h后,部分金属Fe与Cu生成Fe-Cu合金;球磨20h后,金属Fe与Cu已完全合金化生成Fe-Cu合金,并只在2θ=44°处出现一个宽化的弱衍射峰,认为是在球磨20h后的Fe70Cu30合金中共存着fcc和bcc结构的Fe-Cu合金相.XAFS结果进一步表明,在球磨的初始阶段(2h),fcc结构的Cu颗粒的晶
关键词:
XAFS
XRD
70Cu30合金')" href="#">Fe70Cu30合金
机械合金化 相似文献
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NiB和NiP超细非晶合金的退火晶化行为及催化性能 总被引:9,自引:0,他引:9
采用X射线吸收精细结构(XAFS),X射线衍射(XRD)和差热分析(DTA)等方法研究了以化学还原法制备的NiB和NiP超细非晶态合金催化剂在退火过程中的结构变化.XRD结果表明,在300℃下退火时,NiB超细非晶态合金晶化生成纳米晶Ni3B亚稳物相,NiP超细非晶态合金则主要晶化生成金属Ni和部分晶态Ni3P的混合物相;在500℃退火且近于完全晶化的条件下,大部分超细非晶态合金都晶化为金属Ni.XAFS结果定量地说明,对于NiB和NiP初始样品,第一近邻Ni-Ni配位的平均键长Rj分别为0.274和0.271nm,其结构无序度σS很大,分别为0.033和0.028nm,其热无序度σT分别为0.0069和0.0060nm.300℃退火后,晶化生成的Ni3B的Ni-Ni配位的σS降低到初始样品的33%,仅为0.011nm.500℃退火后,NiB样品的结构参数与金属Ni基本一致,但NiP样品的Ni-Ni配位的σS还远大于σT,仍为0.0125nm,表明NiB和NiP超细非晶态合金的退火晶化行为有很大的差别.纳米晶Ni3B催化苯加氢反应的转化率比超细Ni-B非晶态合金或多晶金属Ni更高,表明纳米晶Ni3B中的Ni与B原子组成了苯加氢催化反应的活性中心. 相似文献
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20 0 0年 7月 2 6日至 31日 ,第 11届国际X射线吸收精细结构会议 (XAFS11)在日本Ako隆重举行 ,来自世界各地的与会专家和学者将近 4 0 0人 .会议期间介绍并交流了XAFS研究的最新成果和进展 ,明确了XAFS领域今后的发展趋势和方向 .为期 6天的会议取得了圆满成功 .这次会议的主要参加国家有日本 ( 197人 )、美国 ( 4 3人 )、德国 ( 2 6人 )、法国 ( 19人 )、中国 ( 18人 ,其中台湾 7人 )、俄罗斯 ( 14人 )、韩国 ( 10人 )、意大利 ( 8人 )、印度 ( 8人 )、瑞典 ( 7人 )、英国 ( 7人 ) .会议交流论文总数为 514篇 ,其中大会报… 相似文献
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利用XRD和XAFS方法研究机械合金化Fe70Cu30二元金属合金随球磨时间的结构变化.XRD结果表明,球磨2 h后,部分金属Fe与Cu生成Fe-Cu合金;球磨20h后,金属Fe与Cu已完全合金化生成Fe-Cu合金,并只在2θ=44°处出现一个宽化的弱衍射峰,认为是在球磨20h后的Fe70Cu30合金中共存着fcc和bcc结构的Fe-Cu合金相.XAFS结果进一步表明,在球磨的初始阶段(2h),fcc结构的Cu颗粒的晶格产生较大的畸变,其无序度σ(σ=σT+σS)为0.0190nm.球磨5h后,部分fcc结构的Cu原子进入了无序度相对较小的bcc结构的α-Fe相,导致Cu原子的平均无序度σ降为0.0108 nm.球磨10h后,样品中很大比例的Fe原子处于fcc结构的Fe-Cu合金相,其无序度为σ=0.0119 nm;而大部分Cu原子依然保持fcc结构,无序度为σ=0.0110 nm.这是由于扩散到bcc结构α-Fe相的Cu原子超过某一浓度后(约30%-40%),Cu原子能诱导其产生fcc结构相变所致.球磨时间增加到20h,样品中Cu原子和Fe原子在fcc和bcc相的比例与球磨10h基本相同,生成的Fe-Cu合金混合相的组成和结构分别近似于bcc结构的Fe80Cu20和fcc结构的Fe60Cu40. 相似文献
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本文研究了Pd2Si的生成对周期性Pd/Si多层膜X射线衍射性能的影响。X射线衍射强度的测量数据表明Pd2Si的生成对长周期多层膜的衍射强度影响不大,但对短周期多层膜衍射强度的影响较大。在引入折射率修正后,我们不仅用单个峰的位置计算了多层膜的周期,而且还用了以两个峰的位置联立消去折射率修正的方法计算了多层膜的周期,前者的误差大于后者。模拟计算的结果说明:均匀Pd2Si层的生成不足以解释Pd/Si多层膜衍射强度随退火温度的变化,界面的平整化或粗糙化是影响衍射强度的另一个要素。
关键词: 相似文献