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81.
We report a new approach for the self-assembly of cuboid micro-parts onto Si substrates to construct three-dimensional microstructures. To perform assembly, the Si substrates are prepared with a deep cavity array as binding sites. An aggregate composed of hundreds of uniformly aligned micro-parts is formed at the C10F18-H2O interface. The micro-parts are arranged by passing the substrate through the aggregate of micro-parts, thus the micro-parts are left on the substrate, and then the substrate is vibrated ultrasonically in the solution, making it possible for the micro-parts to fall into the cavities on the substrate. Finally the substrate is pulled out of the solution after assembly. This technique could give a high yield of up to 70%, providing a new method for micro-assembly.  相似文献   
82.
二元合金微观偏析的相场法数值模拟   总被引:5,自引:0,他引:5       下载免费PDF全文
朱昌盛  王智平  荆涛  肖荣振 《物理学报》2006,55(3):1502-1507
使用耦合溶质场的相场模拟研究了Ni-Cu二元合金枝晶生长过程中固相溶质扩散系数Ds 对枝晶形貌和微观偏析等的影响.计算结果表明,随着Ds的减少,固液界 面前沿溶质扩散层越薄,枝晶生长越有利,枝晶尖端生长的速度越大,侧向分支越发达;D< sub>s越小,固相中溶质成分的波动越强烈,随着Ds的增大,固相中溶质 成分的波动相应减小;溶质微观偏析程度随Ds的增大而减小. 关键词: 相场方法 微观偏析 固相扩散系数 数值模拟  相似文献   
83.
偶氮侧基聚合物光致异构动力学研究   总被引:3,自引:2,他引:1  
李群  魏雄中 《光子学报》1997,26(5):403-407
本文对偶氮侧基聚合物相位共轭光时间特性进行了研究,得到了相位共扼光产生机制─光致异构过程的时间常数.在相位共轭光上升阶段,其时间常数在0.4~0.5s之间,在相让共轭光的衰减过程,衰减满足双指数关系,分段拟合得到较好的结果,且得到快过程的时间常数为0.27s,慢过程的时间常数为0.78s.  相似文献   
84.
用含温度推广的Thomas-Fermi模型讨论了"热核"和核物质的激发能、熵和自由能等热力学函数的温度依赖特性.确定了有限温度下核物质的状态方程,并进而计算了液气相变的临界温度及其对核物质不对称度的依赖关系.  相似文献   
85.
86.
由以质量、动量和能量三大守恒定律为基础的湍流两相流理论出发,建立了描述气固流化床内两相流动的数学模型;在微型计算机上编写了相应的数值计算和图形处理程序;为了验证模型的可靠性,本文着手模拟与分析了单组分颗粒体系两维射流流化床内气、固相速度场、空隙度和压力场随时间、空间变化规律;得到了与前人实验结果相吻合的结论。  相似文献   
87.
晶化温度对中孔分子筛(M41S)结构转变的影响   总被引:11,自引:6,他引:11  
在低表面活性剂浓度及低表面活性剂与氧化硅比的条件下,研究了十六烷基三甲基溴化铵-硅酸钠体系中晶化温度对中孔分子筛M41S材料结构转变的影响。结果有,晶化温度提高至135℃改变了原六方晶相MCM-41的结构,晶化温度提高到150℃后,中孔结构六方MCM-41晶格转变为变不稳定的层状相,  相似文献   
88.
气固射流床射流深度的研究   总被引:7,自引:2,他引:7  
在300×51×2600mm的二维射流床中,采用多路毕托管测试系统,对包括三种双组份混合物在内的五种物料的射流深度进行了考察。结果表明,射流管径、射流气速对射流深度都有影响,本文尤其考察了环隙气量与射流深度的关系,发现在同样的射流气速下,环隙气速增大则射流深度降低,得出了综合各种影响因素的关联式。  相似文献   
89.
罗兴华  方景礼 《化学学报》1985,43(3):278-281
金属的电抛光应用越来越广泛.但电抛光机理至今仍不很清楚.我们曾用 XPS 和AES 研究了不同槽电压下电抛光铜表面的组成和物种,确认其表面均为纯铜,不存在含磷固体膜.本文用 XPS 研究电抛光液中1-羟基乙叉-1,1-膦酸(HEDP)浓度、抛光液的 pH 及其接受体(H_3PO_4,HEDP 和 HEDP H_3PO_4)变化时铜的表面组成,并进一步证明,电抛光时形成的粘液膜是水溶性膜,铜表面在不同抛光条件下并不形成难溶的含磷固体膜.通过电子能谱对固化后粘液膜组成和深度分布的研究确定,粘液膜可能是铜的多核聚合混合配体配合物,其组成可近似地表示为[Cu_4(PO_4)(HEDP)]_n.  相似文献   
90.
本文用QAE-Sephadex-Sb_2(d-tart)_2~(2-)为手性交换固定相,50%乙醇水溶液为淋洗剂,在柱尺寸为80cm×2.2cm,淋洗速度为5.0ml/20min下完全拆分了1.0g fac-[Co(β-ala)_3];用同一手性固定相和淋洗剂在淋洗速度为1.2ml/20min下mer-[Co(β-ala)_3]的拆分量可增至0.78g。 fac-、mer-[Co(β-ala)_3]的四种对映体在1.56×10~(-2)M HClO_4介质和中性水溶液中的异构化外消旋反应的产物用Na~+型SP-Sephadex C-25柱分离后,用分光光度法和旋光仪测定了它们的浓度和旋光度。实验结果表明,这些对映体的异构化外消旋反应比较可能是按Werner首先提出的断键-分子内重排的机理进行。机理研究正在深入进行。  相似文献   
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