用计算机采集,处理摄象机摄取的运动物体信息——提高和改进课堂演示实…

介绍用计算机采集、处理摄象机摄取的运动物体信息的ＳＨＪＸ系统及经此系统采集和处理的几个物理演示实验中的运动物体的信息。     

液封坩埚下降法生长非掺杂InP单晶的特性研究

用液封坩埚下降(LE-VB)法沿〈100〉晶向成功地生长了非掺杂InP单晶。LE-VB晶体的4.2K光致发光谱包含束缚于中性浅受主上的激子发光、与Zn受主相关的施主-受主(DA)对发光及其声子伴线、以及与本征缺陷等有关的深能级发光三部分。通过与液封直拉(LEC)生长的籽晶的光致发光谱比较表明,在LE-VB晶体中,束缚于中性浅受主上的激子发光与籽晶中的相差不大;DA对发光的晶格弛豫比籽晶中的小;与本征缺陷等有关的深能级发光强度比籽晶中的弱。晶体的室温光致发光谱仅包含带-带发光,其发光强度形貌测试结果表明,LE-VB晶体的带-带发光强度比LEC籽晶的强。用Huber法对晶片腐蚀的结果表明,在LE-BV晶体中,位错密度仅为LEC籽晶中的三分之一。分析认为,在LE-VB晶体中,本征缺陷和位错等浓度较低,可能是其带-带发光强度比在LEC籽晶中强的物理起因。     

关于Smale提出的积分逼近效率的一般结论

设?~k是[0,1]上的CooeB空间,Q:?~k→R是至少具有k-1次代数精度的求积泛函.设J:f|→integral from n=0 to 1 (f(t)dt),h=1/n。通过由等式 M_hf(t)=h sum from i=0 to (n-1)(f(ih+th)),?f∈C[0,1],?t∈[0,1]确定的线性算子M_h:C[0,1]→C[0,1],定义Q的复化求积泛函QM_h。在?~k中的     

陕北鄂尔多斯盆地三叠系泥岩中粘土矿物在埋藏变质过程中的转化

本文在对粘土矿物X光定向片分析的基础上,利用电子显微镜(SEM,TEM)深入地研究了陕北鄂尔多斯盆地三叠系泥岩中粘土矿物在埋藏变质过程中的转化,在本区发现了镁铝蛇纹石、伊利石/绿泥石混层结构,及镁铝蛇纹石向绿泥石转化结构。并据伊利石-石英平衡矿物对氧同位素测温计算,这一转化过程的温度大致为160—220℃,伊利石、绿泥石结晶度及多型的研究表明,随埋深的增加它们都出现规律性变化,并且各种指数间具有一定的相关性。     

液封坩埚下降法生长非掺杂InP单晶的特性研究

用液封坩埚下降（ＬＥ－ＶＢ）法沿〈１００〉晶向成功地生长了非掺杂ＩｎＰ单晶．ＬＥ－ＶＢ晶体的４．２Ｋ光致发光谱包含束缚于中性浅受主上的激子发光、与Ｚｎ受主相关的施主－受主（ＤＡ）对发光及其声子伴线、以及与本征缺陷等有关的深能级发光三部分．通过与液封直拉（ＬＥＣ）生长的籽晶的光致发光谱比较表明，在ＬＥ－ＶＢ晶体中，束缚于中性浅受主上的激子发光与籽晶中的相差不大；ＤＡ对发光的晶格弛豫比籽晶中的小；与本征缺陷等有关的深能级发光强度比籽晶中的弱．晶体的室温光致发光谱仅包含带—带发光，其发光强度形貌测试结果表明，ＬＥ－ＶＢ晶体的带—带发光强度比ＬＥＣ籽晶的强．用Ｈｕｂｅｒ法对晶片腐蚀的结果表明，在ＬＥ－ＢＶ晶体中，位错密度仅为ＬＥＣ籽晶中的三分之一．分析认为，在ＬＥ－ＶＢ晶体中，本征缺陷和位错等浓度较低，可能是其带—带发光强度比在ＬＥＣ籽晶中强的物理起因．     

单摆衍变类型的剖析

单摆作为中学物理中一个重要的理想化模型，是考试的热点，纵观考查有关单摆的问题几乎可以归纳为一个问题——单摆衍变．下面就对这一问题进行剖析。     

钯丙烯酸酯络合物的~(13)C NMR谱的研究

用~(13)C NMR、~(31)P NMR谱研究了络合物Pd(mma,)(PMePh_2)_2(Ⅰ)、Pd(ema)(PMePh_2)_2(Ⅱ)中金属与mma、ema间配位状态及溶液中的动态行为。对比了相同配体的Pd、Ni络合物中烯基碳化学位移的变化,研究了中心金属电子反馈能力与络合物稳定性的关系。     

铂氢化物的研究——Ⅰ.trans-PtHCl(PPh3)2的一种新的消去氯化氢反应

本文研究了铂氢化物trans-PtHCl(PPh)_2(Ⅰ)与异硫氰酸苯酯(PhNCS)的反应。和第Ⅷ族Ru、Os、Ir的氢化物与异硫氰酸酯(RNCS)的插入反应不同,(Ⅰ)与PhNCS在苯中回流反应,(Ⅰ)即消去氯化氢,而PhNCS则发生歧化反应,得到含dithiocarbonimibato配体的铂配合物,而trans-PtHCl-(Pcy_3)_2与PhNCS在同样条件下延长反应时间不发生反应,提出了可能的反应机理。     

聚合物—石墨复合材料电极

用石墨粉填充ＡＳ树脂，挤出成型制备了ＡＳ－复合导电材料电极，电极具有较好的导电性，机械强度和操作稳定性，在多种底液中具有比玻碳电极更高的氢电压值和小的残余电流。电极成功地用于Ｃｕ、Ｉｎ、Ｐｂ、Ａｂ的测定并显示较好的选择性，稳定性和再现性；并可采用浸涂法方便地进行甲基蓝修饰，得到具有稳定电化学性的修饰电极。