共查询到20条相似文献,搜索用时 15 毫秒
1.
2.
3.
正电子湮没技术(PAT)在高分子材料中的应用(上) 总被引:3,自引:0,他引:3
本文引用70多篇文献,综述了正电子湮没技术(主要是正电子湮没寿命技术)近10年来在高分子材料各个领域中的应用。 相似文献
4.
本文测定了不同类型沸石的正电子寿命谱。发现o-Ps的湮没寿命, 与沸石静电场之间有良好的对应关系, 静电场愈强, 湮没寿命愈短。根据正电子寿命谱结果。含不同阳离子的Y沸石的静电场强弱次序为KY相似文献
5.
采用正电子寿命谱和双探头Doppler展宽测量在原子尺度上研究了α-Fe/Nd2Fe14B复合纳米晶的界面结构.正电子寿命研究表明, α-Fe/Nd2Fe14B复合纳米晶存在两类界面.一类为非晶界面层, 正电子湮没寿命为155 ps; 另一类为具有原子空位的松懈界面, 含有空位尺寸大于1~2个铁原子空位的结构自由体积, 正电子湮没寿命为246 ps.电子-正电子湮没光子的共谐Doppler展宽测量表明这类松懈界面富集非磁性原子Nd和B, 这将削弱α-Fe/Nd2Fe14B复合纳米晶晶粒间的磁交换耦合. 相似文献
6.
7.
8.
通过测量金属钆在居里点附近的正电子湮没寿命谱随温度变化的关系,发现钆的正电子湮没寿命在居里点近邻T〈TC-侧随温度有显著变化,而在此温区以外几乎不随温度变化。 相似文献
9.
10.
采用正电子寿命谱和双探头Doppler展宽测量在原子尺度上研究了α-Fe,Nd2Fel4B复合纳米晶的界面结构。正电子寿命研究表明,α-Fe/Nd2Fel4B复合纳米晶存在两类界面。一类为非晶界面层,正电子湮没寿命为155ps;另一类为具有原子空位的松懈界面,含有空位尺寸大于-2个铁原子空位的结构自由体积,正电子湮没寿命为246ps。电子-正电子湮没光子的共谐Doppler展宽测量表明这类松懈界面富集非磁性原子Nd和B,这将削弱α-Fe/Nd2Fel4B复合纳米晶晶粒间的磁交换耦合。 相似文献
11.
12.
13.
长期以来,显影过程特别是银丝的生成机理一直是感光工作者关注和研究的焦点.但迄今为止,众说纷坛的各种假说尚未达到共识,本文用正电子湮没技术 (PAT)测定了乳剂的正电子湮没寿命谱,探讨了银丝在自由体积空穴中的生长机理,并采用透射电子显微镜观察除去明胶后的银丝形貌,验证了PAT实验中银丝生长的结论.同时本文根据明胶中蛋氨酸及其氧化产物的大致含量,首次采用正电子湮没技术 (PAT)研究将蛋氨酸及其氧化产物加到照相乳剂中,观察蛋氨酸及其氧化产物的还原性以及在水洗前加入蛋氨酸和在水洗后加入蛋氨酸的差别. 相似文献
14.
用正电子湮没谱学研究了机械混合CuCl2与NaY中CuCl2在NaY沸石中的扩散.分别测量了不同质量比的CuCl2-NaY(0~0.03)沸石分子筛经140℃烘烤1h;CuCl2-NaY(0~0.05)经450℃烘烤4h;CuCl2-NaY(0.01)经不同温度烘烤1h以及经300℃下烘烤烘不同时间后的正电子寿命谱.所有谱中都出现了5(或4)个寿命分量,其第3,4,5寿命分量分别与β笼、超笼及沸石微粒界面空间的大小和数量相关.实验表明,正电子湮没谱学可敏感地探测出少量CuCl2在NaY沸石中的扩散变化.而对于只含少量氯化铜(0.01)的情况,虽经高温长时间烘烤,但仍有相当数量的氯化铜存在于NaY外表面. 相似文献
15.
用正电子湮没谱学研究氯化富铈稀土与NaY沸石机械混合形成的稀土NaY沸石(RE-NaY)中,氯化稀土在NaY中的分散.分别测量不同质量比的RE-NaY(1%-20%)经500℃烘烤1h,RE-NaY(5%)经过不同温度烘烤1h,以及RE-NaY(5%)经500℃烘烤不同时间后的正电子寿命谱.所有寿命谱都出现了5个寿命分量,其中第3,4,5寿命分别与β笼、超笼及沸石微粒界面空洞的大小和数量相关.实验表明了正电子湮没谱学能敏感地表征氯化稀土在NaY中的分散. 相似文献
16.
LaFe1-xCuxO3的光催化性及正电子湮没研究 总被引:2,自引:0,他引:2
研究LaFeO3及微量掺铜LaFeO3的光催化活性,利用正电子湮没谱分析掺杂的影响,发现随着掺杂百分比的增加,正电子寿命逐渐下降达到一最小值,然后又上升;而光催化活性随掺杂百分比的增加逐渐上升达到最大值,然后下降。结果表明:LaFeO3掺杂后光催化活性得以提高;正电子湮没技术是研究点阵缺陷结构的有效方法之一。 相似文献
17.
纳米材料在现实应用中表现出越来越优异的性能,其微结构往往对宏观性能有着重要影响。从正电子湮没技术基本原理出发,结合正电子湮没技术在材料微观结构领域的独特优势,介绍了其在纳米金属、合金以及纳米半导体等材料中的微结构研究工作,阐述了纳米材料微结构对基础学科和实际应用的重要意义。 相似文献
18.
19.
20.
应用于聚合物中的正电子湮没寿命谱技术 总被引:3,自引:0,他引:3
正电子湮没寿命谱技术是一种新型聚合物结构探测与表征技术,针对此技术在聚合物自由体积研究中的应用,首先介绍了该技术的基本原理和应用理论,接着针对寿命谱数据的处理手段和计算方法,对国内外的研究进展进行了概述和总结,最后展示了该技术在聚合物材料研究中用于基本理论,实际运用和结构理论等三个方面的情况。 相似文献