全息光栅的制造技术及其改进

本文叙述了全息光栅的制造原理、工艺要求和制造技术。介绍了平场全息光栅、图象全息光栅、超环面全息光栅、激光全患光栅和闪耀全息光栅的新进展。最后,作者提出进一步发展全息光栅的若干建议。     

全息透镜的发展

<正> 由于全息术的发展和利用,出现了一种新型的成象元件,两个相干点源记录的全息图制成全息透镜。它的成象原理和制造工艺与普通透镜都不同。目前,国外在全息透镜的设计和制造方面进展较快,已经把全息透镜用于第三代夜视仪、     

全息透镜的特性及其应用

自六十年代激光和全息术发展起来以后,用一个点源的全息图就可以制成全息透镜。由于它的成象原理和制造工艺与普通透镜不同,所以它是一种新型的成象元件。了解全息透镜的成象特性,已是光学设计工作者面临的一个新问题。本文首先结合普通透镜的成象特性,采用光线分析的方法介绍全息透镜的成象原理,物象关系,导出同轴和离轴全息透镜的初级象差公式,透镜的光栅方程。提出了K-矢量闭合和等效透镜的概念,使光学设计工作者无须了解过多的全息学方面的知识,就可以从事这方面的工作。     

全息光栅复制技术的研究

介绍全息光栅的复制原理和复制工艺,并运用复制工艺新技术生产全息光栅。与全息照相法相比,具有成本低、合格率高等优点。     

全息光栅与制作工艺的探索

本文对全息光栅与刻划光栅的各种特性进行了对比，并介绍了Ⅲ型和Ⅳ型全息凹面光栅的特点及制作工艺。     

计算全息技术的新发展

本文介绍了计算全息技术近年来在编码技术,制作工艺和实际应用方面的新发展。     

无银明胶全息干版的技术过程

本文简要介绍了新产品无银明胶全息干版的成像机理、工艺设计及底层实验技术,提出了该产品在图像制阶段的基本工艺。     

全息透镜光学特性与数值解析

全息透镜是一种新型光学成象元件,成象原理与制造工艺部与普通透镜不同,它有许多独特的性质.全息透镜可以单独使用,也可以与普通透镜混合使用,构成光学系统。本姓要阐述全息透镜在理想情况下的物象关系、成象原理、基点位置、焦距及放大率等光学特性;推导一组实用的计算公式,并附有计算举例。     

体全息存储中输入方参数对输出信号的影响

借助基于 4F成像系统的掩模版模拟SLM实验 ,在国内首次实现 10 0 0× 10 0 0高分辨率数据页输入 输出像素一对一匹配的基础上研究了体全息存储系统输入方重要参数 ,如 :输入器件 (空间光调制器 )像素填充因子和输入图案组合对输出器件 (电荷耦合器件 )读出图像的影响 ,为提高全息存储系统输出图像质量、降低误码率提供理论和实验基础。     

光栅制备工艺的新进展

从全息光栅法出发 ,详细阐述了应用偶氮苯聚合物光致表面调制效应制备光栅的新工艺 ,说明使用偶氮苯聚合物薄膜制备光栅方法的特点 ,介绍了采用新工艺制备的光栅的独特性质———光栅可热擦除或光学擦除 ,同时提出应用新材料光栅制造方法所面临的问题。采用新工艺实验制备了薄膜光栅     

原子束计算全息片的设计与制作研究

在分析原子束计算全息片特点的基础上,提出采用罗曼Ⅲ型傅里叶变换计算全息图设计原子束计算全息片,给出设计步骤,然后提出采用电子束光刻编码矩孔图形,ICP各向异性刻蚀SiN薄膜的全息片制作方案,对全息片的制作工艺流程详细予以介绍,最后给出制作完成的SiN薄膜计算全息片.     

光刻及离子束蚀刻技术制作DNA芯片模版

 采用光刻及离子束蚀刻技术制作面阵石英DNA芯片模版，利用扫描电子显微镜（SEM）和表面轮廓仪测试了所制石英DNA芯片模版的表面微结构形貌特征，分析了所制石英DNA芯片模版出现图形畸变的原因。所用工艺为在其它衬底材料表面制作更大规模及具有复杂结构的大面阵DNA芯片模版奠定了基础。     

偏光全息研究历程与展望

全息是目前一项极具前景的科学技术,即通过信号光和参考光的干涉,在小小的全息图上记录丰富的信息。相比于传统全息仅记录光波的相位、振幅信息,偏光全息可以将额外的偏振信息记录于偏振态敏感材料中。本文从偏光全息材料入手,详细介绍了偏光全息生产过程;同时介绍基于琼斯理论和张量理论的偏光全息原理和研究进展;最后描述了偏光全息在全息存储和纳米光学领域的发展前景。     

CCD用于全息光栅常数实时测量研究

本文讨论了在制造全息光栅过程中，ＣＣＤ实时测量全息光栅常数的方法。其方法可实现高精度、全自动在线测量全息光栅常数，比传统的测量优越。文章用简单的装置借助ＣＣＤ进行数据采集、数据处理，实现快速自动测量光栅常数，在全息光学中有应用价值，对推广ＣＣＤ应用技术，促进光学测量现代化有现实意义。     

《应用光学——设计、制造和应用》

内容简介：本书是一部首次系统、完整地介绍全息光学元件的成像理论、制造方法和广泛应用的专著。全书由“绪论”和十二章内容组成，分为四部分：第一部分叙述全息光学元件成像的基本原理，近轴成像理论，光线追迹的概念和必要的坐标变换。第二部分介绍全息光学系统的具体设计方法，像差理论及其补偿方法，     

用计算全息标校补偿器的技术

用计算全息(CGH)模拟理想非球面主镜的反射波面,用补偿器对该计算全息进行检验,只要计算全息的制作误差能够满足要求,就能实现直接对补偿器的标校。介绍了计算全息标校补偿器的原理、方法,并进行了误差分析。实验采用电子束制作的计算全息实现了对850 mm F/2抛物面主镜补偿器的标校,补偿器产生的标准非球面精度不低于计算全息模拟的主镜面形精度,均方根(RMS)误差为0.012λ。研究表明,用计算全息模拟主镜反射波面对补偿器进行标校是一种行之有效的方法,结合先进的微电子制造技术,可实现对补偿器的高精度标校。     

《全息光学——设计、制造和应用》

内容简介：本书是一部首次系统、完整地介绍全息光学元件的成像理论、制造方法和广泛应用的专著。全书由“绪论”和十二章内容组成，分为四部分：第一部分叙述全息光学元件成像的基本原理，近轴成像理论，光线追迹的概念和必要的坐标变换。第二部分介绍全息光学系统的具体设计方法，像差理论及其补偿方法，     

塑料复制光栅研究

本文介绍塑料溶液流延技术复制光栅,用于灯具、电扇、舞台等,成本廉价、工艺简便、适于批量生产,为全息光栅在民用领域中推广具有广泛应用价值。     

反射式全息滤光片的带宽和考虑记录介质吸收后的衍射效率

用重铬酸盐明胶底片可制成反射式全息滤光片,本文导出了这种滤光片的带宽理论公式,在修改的耦合波理论的基础上,导出了与记录全息过程中吸收系数有关的峰值衍射效率公式,由此,提出了对这种滤光片的制造和使用的建议.     

全息显示技术讲座 第六讲 其他全息显示方法

<正> 全息显示是全息术发明以来所取得的最卓有成效和最重要的应用之一.前五讲,我们介绍了适合于显示用的各种全息图:透射和反射菲涅耳型全息图、象全息图、傅里叶变换全息图和彩虹全息图,并概述了全息显示的重要成果——合成全息和全息电影.这一讲介绍其它全息显示方法,从中可进一步看到全息显示的广阔前景。一、深度多路合成全息第五讲中,介绍了角度多路合成全息,即从一系列不同角度拍摄的物体二维照片综合成一张全息图,可以再现原来的三维物体。这里,我们介绍另一种合成全息——深度多路合成全息。它是从一系列不同深度拍摄的二维照