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1.
给定2个图G 1 ![]()
![]()
和G 2 ![]()
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,设G 1 ![]()
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的边集E ( G 1 ) = { e 1 , e 2 , ? , e m 1 } ![]()
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,则图G 1 ⊙ G 2 ![]()
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可由一个G 1 ![]()
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,m 1 ![]()
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个G 2 ![]()
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通过在G 1 ![]()
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对应的每条边外加一个孤立点,新增加的点记为U = { u 1 , u 2 , ? , u m 1 } ![]()
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,将u i ![]()
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分别与第i ![]()
![]()
个G 2 ![]()
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的所有点以及G 1 ![]()
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中的边e i ![]()
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的端点相连得到,其中i = ? 1,2 , ? , m 1 ![]()
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。得到:(i)当G 1 ![]()
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是正则图,G 2 ![]()
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是正则图或完全二部图时,确定了G 1 ⊙ G 2 ![]()
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的邻接谱(A -谱)。(ii)当G 1 ![]()
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是正则图,G 2 ![]()
![]()
是任意图时,给出了G 1 ⊙ G 2 ![]()
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的拉普拉斯谱(L -谱)。(iii)当G 1 ![]()
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和G 2 ![]()
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都是正则图时,给出了G 1 ⊙ G 2 ![]()
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的无符号拉普拉斯谱(Q -谱)。作为以上结论的应用,构建了无限多对A -同谱图、L -同谱图和Q -同谱图;同时当G 1 ![]()
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是正则图时,确定了G 1 ⊙ G 2 ![]()
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支撑树的数量和Kirchhoff指数。 相似文献
2.
随着光学测量与遥感领域的不断发展,折反式光学系统对重量、体积和环境适应性等需求不断提高。基于增材制造技术的金属反射镜以其便于实现优化设计、快速制造和加工工艺性好等优点,逐渐获得国内外学者的关注与研究。与传统金属反射镜相比,增材制造金属反射镜可以提高反射镜的结构刚度,同时可实现更高程度的轻量化。增材制造反射镜可以满足光学系统对环境适应性和快速性的需求。本文首先讨论了金属反射镜的评价指标;其次,综述了国内外在基于增材制造技术制备金属反射镜领域的发展现状和技术参数,从增材制造金属反射镜的基体设计与制备和基体的后处理2个方面展开论述;然后,通过分析,总结了增材制造金属反射镜的技术路线和关键技术;最后,对增材制造反射镜的应用前景提出了展望。 相似文献
3.
电催化析氧反应(OER)是电解水制氢的重要半电池反应。然而,OER的缓慢动力学仍需研究高效的电催化剂。在非贵金属催化剂中,NiFe基材料是OER催化剂研究热点。本文通过食人鱼溶液简单一步浸渍刻蚀法将不同Fe含量的泡沫NiFe合金进行氧化,制备了表面具有纳米片形貌的NiFeOOH自支撑电催化剂,并深入研究其电催化析氧性能。通过SEM、XRD、XPS等对电催化剂的形貌结构及成分进行表征,证实了三维多孔基底上NiFeOOH纳米片结构的形成。由于高价镍、铁物种的存在以及二维纳米片结构的生成,NiFeOOH/NF的析氧性能大幅度提高,在10 mA?cm-2的电流密度下过电位仅155.68 mV,Tafel斜率为 88.2 mV?dec-1。这为研制高效、耐用的自支撑非贵金属电极提供了新思路。 相似文献
4.
5.
本文研究了一端弹性支撑的并列双柱和串列双圆柱在气流中自由端的振幅响应,与单圆柱相比,在小间距时,串列双圆柱中前柱的横向振幅受到较强的激励。而在大间距时,振幅受到抑制,特别当L/D=3.5和4.0时,其振幅响应仅为单柱的1/3左右,而对于后柱,则在大间距时,纵向振幅响应有所增大,而且后柱的振幅响应要比前柱的大得多,而并列双圆柱的自由端振幅基本上受到抑制,在T/D>3.0之后,干扰很快减小到接近单个圆 相似文献
6.
7.
8.
为了减小激光诱导等离子体发射光谱中光谱线的自吸收效应,提高激光光谱分析技术对物质中高含量元素的检测水平,实验采用了一种平面反射镜装置约束等离子体,比较了有或无平面反射镜装置时光谱线的线型变化。实验表明,在无平面反射镜装置时,样品元素Al,Mg和Mn的光谱线半高全宽度分别为0.16,0.24,0.058nm,而采用由四块平面反射镜组成的装置在空间上约束激光等离子体时分别为0.11,0.13,0.047nm。结果表明,光谱线的自吸收明显减小,谱线线型变得比较锐且强度显著提高。通过观测等离子体照片,测量等离子体温度和电子密度,分析讨论了激光光谱自吸收效应降低的原因。 相似文献
9.
利用试验及数值模拟技术研究了ITER 极向场磁体支撑U 型韧性夹的焊接变形规律,模拟和实际测量的比较验证了模拟的准确性,从而得到了U 型夹焊缝变形的基本规律,并改进现有夹具类型。基于验证好的热力边界条件以及优化的夹具,对三种焊接方案的U 型韧性夹的焊接变形进行了计算,从而提出了极向场磁体支撑制造的优化方案。优化后的焊接方案将焊接变形控制在0.6mm 以内。 相似文献
10.
介绍了在注入器设计中目前常见的三种绝缘支撑,即电阻分压形式的绝缘支撑、整体式绝缘支撑和分块式绝缘支撑。详细介绍了三种绝缘支撑的制造工艺及各自的优缺点。指出了在设计中首先考虑了三相点的处理。 相似文献