光学材料微缺陷引起的损伤机理及后处理

采用时域有限差分方法（FDTD）进行元件表面微结构电磁场分布的数值模拟；同时实验分析了化学湿法刻蚀对光学元件表面面形及粗糙度、激光损伤阈值等的影响。     

γ-辐照对纯Y_2SiO_5和Eu~(3+)∶Y_2SiO_5晶体光谱性能的影响

研究了γ-辐照前后纯Y2SiO5和Eu3+掺杂的Y2SiO5晶体吸收光谱的变化,辐照后,未退火和氢气退火的纯Y2SiO5晶体在260~270 nm和320 nm波段产生了附加吸收峰,分别是由F心和O-心的吸收引起的;经过空气退火的纯YSO晶体中,由于消除了氧空位,因此辐照后没有出现色心吸收峰。在Eu3+∶Y2SiO5晶体中,不但有相同的F心和O-心吸收峰,而且还有Eu2+离子在300 nm和390 nm的吸收峰。随着辐照剂量的增加,色心附加吸收峰增强。空气退火能减少Eu3+∶Y2SiO5晶体中的色心,而氢气退火能增加色心。     

Yb~(3+)∶Pr~(3+)∶ZBLAN光纤中4f5d上转换激发的理论研究

利用粒子数速率方程和相关的辐射跃迁理论,计算了Yb3+∶Pr3+∶ZBLAN光纤中Pr3+离子4f5d能级两步上转换激发的动力学过程。得到不同Pr3+掺杂浓度下,激发光的光谱强度和粒子数密度的纵向分布和有效光纤长度随激发光的光谱强度的变化关系。另外,还得到了4f5d荧光强度与入射光强、光纤长度和Pr3+掺杂浓度的关系,给出了激发效率与激发光的光谱强度和Pr3+掺杂浓度的关系。     

测量慢弛豫介质的非线性折射率Z扫描方法

对非线性折射率慢弛豫介质的Z扫描理论进行了详细推导,得到了透射光场的表达式.分析表明:对于慢弛豫介质,其Z扫描过程也是非线性折射的累积过程.实验结果与理论分析一致. 关键词：     

北京欧普特科技有限公司

北京欧普特科技有限公司成立于1994年．自成立至今，公司致力于光学精密仪器、光学零件的设计、开发与加工生产．基于长期为国际市场加工生产传统高精度光学零件的基础，我公司严格参照国际通常规格及技术指标，备有完整系列的精密光学零部件（备有产品样本供参考）供国内各大专院校、科研机构、试验室随时选用，我公司同时可为您的应用提供技术咨询．我公司有超过10年的红外材料销售、加工经验，可以提供美国及欧洲产的优质红外光学材料，如硒化锌CVD ZnSe，硫化锌CVD ZnS，多光谱硫化锌CVD CLEARTRAN ZnS，砷化钾，氟化钙，氟化镁，氟化钡，氟化锂，锗和硅等．     

N-取代螺旋共轭化合物非线性光学性质的理论研究

以量子化学半经验AM1方法优化几何构型为基础，采用FF／AMl和INDO-SOS方法计算了N-取代螺旋共轭化合物的非线性光学系数，讨论了N原子不同取代位置对螺旋共轭体系结构、电子光谱、非线性光学系数的影响．计算结果表明，N杂原子的引入可改善体系的非线性光学性质，所设计的分子具有较大的二阶非线性光学系数和较好的透明性．     

具有特殊电子性能的有机固体

本文综述了具有特殊固体电子性能(导电性、铁磁性和非线性光学性质)的有机晶体和高分子化合物的合成、结构和性质,重点在于介绍结构与性能的关系以及这些研究领域的最新进展。     

一种新的生物光学材料——嗜菌紫质的性质及应用

本文主要介绍一种光敏蛋白──嗜菌紫质的结构、性质及其适于光学应用的一些特点。简要综述了嗜菌紫质膜的制备、嗜菌紫质在膜中的定向以及对嗜菌紫质的化学和遗传学修饰。