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1.
《Mendeleev Communications》2022,32(5):597-600
Calorimetric monitoring of the autoclave reaction N2O4 + C2H4 at –85 to +10 °C under argon pressure 10–30 bar revealed that the exothermic chemical reaction started at temperatures above –52 °C at 10 bar, whereas an intensive exothermic reaction started at –85 °C and pressure of 30 bar. IR study showed that oligo/polynitroethylene was formed at 30 bar, while carbonyl and hydroxy compound as well as nitrate R–ONO2 formation occurred upon processing at 10 bar.  相似文献   
2.
当煤层上方为坚硬顶板时,在工作面回采期间容易出现大面积悬顶,导致巷旁充填体出现大变形破坏,极大威胁采煤安全.为解决这一问题,以某矿1205工作面沿空留巷为工程背景,分析了爆炸围岩裂隙范围和坚硬顶板破断特征,建立了切顶卸压围岩结构力学模型,研究表明,相邻炮孔爆炸后,炮孔间裂隙互相贯穿,降低了顶板强度,同时当切顶角为15°时,巷道稳定性较好.工程实践结果表明:采用爆破切顶技术后,顶板下沉量减小了62.3%,较好地保证了围岩稳定性.  相似文献   
3.
ABSTRACT

Nano-polycrystalline diamond (NPD) with various grain sizes has been synthesized from glassy carbon at pressures 15–25?GPa and temperatures 1700–2300°C using multianvil apparatus. The minimum temperature for the synthesis of pure NPD, below which a small amount of compressed graphite was formed, significantly increased with pressure from ~1700°C at 15?GPa to ~1900°C at 25?GPa. The NPD having grain sizes less than ~50?nm was synthesized at temperatures below ~2000°C at 15?GPa and ~2300°C at 25?GPa, above which significant grain growth was observed. The grain size of NPD decreases with increasing pressure and decreasing temperature, and the pure NPD with grain sizes less than 10?nm is obtained in a limited temperature range around 1800–2000°C, depending on pressure. The pure NPD from glassy carbon is highly transparent and exhibits a granular nano-texture, whose grain size is tunable by selecting adequate pressure and temperature conditions.  相似文献   
4.
In the last decade, catalytic chemical vapor deposition (CVD) has been intensively explored for the growth of single-layer graphene (SLG). Despite the scattering of guidelines and procedures, variables such as the surface texture/chemistry of catalyst metal foils, carbon feedstock, and growth process parameters have been well-scrutinized. Still, questions remain on how best to standardize the growth procedure. The possible correlation of procedures between different CVD setups is an example. Here, two thermal CVD reactors were explored to grow graphene on Cu foil. The design of these setups was entirely distinct, one being a “showerhead” cold-wall type, whereas the other represented the popular “tubular” hot-wall type. Upon standardizing the Cu foil surface, it was possible to develop a procedure for cm2-scale SLG growth that differed only by the carrier gas flow rate used in the two reactors.  相似文献   
5.
阐明了引入溶剂渗透因子的必要性,较详细地介绍了两种渗透因子及它们间的关系。  相似文献   
6.
Thin films (monolayer and bilayer) of cylinder forming polystyrene‐block‐polydimethylsiloxane (PS‐b‐PDMS) were shear aligned by the swelling and deswelling of a crosslinked PDMS pad that was physically adhered to the film during solvent vapor annealing. The nanostructures formed by self‐assembly were exposed to ultraviolet‐ozone to partially oxidize the PDMS, followed by calcination in air at 500 °C. In this process, the PS segments were fully decomposed, while the PDMS yielded silica nanostructures. The highly aligned PDMS cylinders were thus deposited as silica nanolines on the silicon substrate. Using a bilayer film, the center‐to‐center distance of these features were effectively halved from 38 to 19 nm. Similarly, by sequential shear‐alignment of two distinct layers, a rhombic array of silica nanolines was fabricated. This methodology provides a facile route to fabricating complex topographically patterned nanostructures. © 2015 Wiley Periodicals, Inc. J. Polym. Sci., Part B: Polym. Phys. 2015 , 53, 1058–1064  相似文献   
7.
本文对反应堆压力容器紧急安注时的流动与传热特性在1/10的模型上进行了流动可视化、局部传热系数以及混合函数的试验研究。针对三个热冲击敏感区域的部分测点,比较了环腔流速为0.5m/s、安注流速为1~30 m/s时不同含气率对下降环腔内流动与传热特性的影响,得出并分析了不同测点传热系数、混合函数的变化规律。研究结果表明:随着含气率增大,安注流体与环腔流体的混合增强;下降环腔内的含气率对小安注流速时的流动与传热影响显著,而对大安注流速时影响较小。  相似文献   
8.
 应用高压原位差热方法,直接测量了压力下锗的固化参数─—固化温度与过冷度。高压差热信号表明,当压力大于3 GPa时,锗在凝固过程中可能发生结构相变。X射线结构分析表明,在最终的样品中除GeⅠ相外,还形成GeⅢ相和GeⅣ相。  相似文献   
9.
二氧化钒薄膜的低温制备及其性能研究   总被引:12,自引:0,他引:12       下载免费PDF全文
针对VO2薄膜在微测辐射热计上的应用,采用射频反应溅射法,在室温下制备氧化钒薄膜;研究了氧分压对薄膜沉积速率、电学性质及成分的影响.通过调节氧分压,先获得成分接近VO2的非晶化薄膜,再在400℃空气中氧化退火,便可制得高电阻温度系数,低电阻率的VO2薄膜,电阻温度系数约为-4%/℃,薄膜方块电阻为R为100—300kΩ;薄膜在室温下沉积,400℃下退火的制备方法与微机电加工(micro electromechanic 关键词: 二氧化钒 电阻温度系数 氧分压 射频反应溅射法  相似文献   
10.
根据GaN氢化物气相外延生长(HVPE)的原理,设计制作了双温区卧式HVPE系统.根据实际生长中出现的问题和CaN样品的测试情况,对系统进行了逐步的调试和改进.  相似文献   
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