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基于AlN膜钝化层VCSEL激光器热特性的研究   总被引:1,自引:0,他引:1       下载免费PDF全文
马祥柱  霍晋  曲轶  杜石磊 《应用光学》2010,31(6):1023-1026
 用ANSYS有限元热分析软件模拟了基于AlN膜钝化层和SiO2膜钝化层的高功率垂直腔面发射半导体激光器(VCSEL)器件内部的热场分布和热矢量分布。经模拟得到基于AlN膜钝化层的VCSEL热阻为3.123℃/W,而基于SiO2膜钝化层的VCSEL的热阻为4.377℃/W。经实验测得基于AlN膜钝化层的VCSEL热阻为3.54℃/W,而基于SiO2膜钝化层的VCSEL的热阻为4.75℃/W,模拟结果与实验结果吻合较好。  相似文献   
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