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1.
相变存储器由于具有非易失性、高速度、低功耗等优点被认为最有可能成为下一代存储器的主流产品,Ge2Sb2Te5(GST)作为一种传统相变材料已经被广泛应用在相变存储器中,而GST的化学机械抛光作为相变存储器生产的关键工艺目前已被采用.本工作综述了有关GST的化学机械抛光技术研究进展,讨论了GST化学机械抛光过程的影响因素,如下压力、转速、抛光垫、磨料、氧化剂、表面活性剂等,并对目前GST的化学机械抛光机理进行了归纳,进一步展望了GST的化学机械抛光技术的发展前景.  相似文献   
2.
We investigate the luminescence properties of Bi^3+ and RE^3+ (RE = Tb or Eu) in a Y3Ga5O12 (YGG) host system. The additional doping of Bi^3+ can enhance the luminescence of Th^3+ or Eu^3+ in this host. Energy transfer from Bi^3+ to Tb^3+ and Eu^3+ is observed and the mechanism of energy transfer is investigated. Mechanism of energy transfer can be explained as electric multipole interaction since the Bi^3+ emission band and Tb^3+ or Eu^3+ excitation band overlaps and the Bi^3+ emission intensity decreases while the intensity of Tb^3+ or Eu^3+ increases with the increase of Tb^3+ or Eu^3+ concentration. Therefore, Bi^3+ ion is a kind of efficient sensitizer to the Tb^3+ and Eu^3+ activators in the Y3Ga5O12 host.  相似文献   
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