红移高功率大失谐驻波光场原子光刻

研究了红移大失谐驻波光场在高功率的情况下对原子束的聚焦特性，数值结果显示在激光功率较高的情况下，有实现原子光刻的可能。在单线功率输出为P＝7W，光斑尺寸为wo=0.1mm的Ar^ 离子激光束的条件下，Cr原子束在置于焦平面处的基板上所沉积的条纹半高宽度为20nm左右，对比度为4－5。提出了用增强腔来提高条纹对比度和减小色差的办法。在势阱深度增强2500倍时，沉积的条纹半高宽度为5nm-10nm，对比度约为7，条纹有了明显的改善。