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纳米云纹法条纹倍增技术研究   总被引:4,自引:2,他引:2  
刘战伟  谢惠民  方岱  戴福隆  王卫  方炎 《光子学报》2005,34(9):1431-1433
提出了一种纳米云纹法的条纹倍增技术,可用于单晶材料纳米级变形测量.在测量中,单晶材料的晶格结构由透射电镜(TEM)采集并记录在感光胶片上作为试件栅,几何光栅作为参考栅.对纳米云纹条纹的形成原理,透射电镜放大倍数与试件栅的频率关系,条纹倍增技术,位移、应变测量方法等进行了详细讨论.该方法不仅能够测量连续力学参量,如应变和位移,而且能够表征纳观非连续参量,如位错、夹杂.  相似文献   
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