溅射原子角分布与靶点表面形貌的关联研究

27keV的Ar⁺离子垂直轰击处于不同温度的Cd靶,用捕获膜技术和Rutherford背散射谱仪(RBS)测定溅射原子角分布,并对所有样品的靶点形貌进行扫描电子显微镜(SEM)观察。结果发现,所有的角分布都呈over-cosine形状,但是在极角为0°处实验值与cosine值的偏离△,是不同的,在靶温度为150℃时的偏离△_T小于在室温时的偏离△_R,亦即△_T<△_R,提出一个简单的模型对这种溅射角分布 关键词：     

在钽衬底上生长金刚石薄膜

由于金刚石具有最高的硬度、最好的导热性和非常优良的透光性等一系列优越的性能,化学汽相沉积法生长金刚石薄膜正在越来越引起人们的注意而且它的应用研究也越来越广泛.最近,Norton公司的金刚石薄膜分公司宣称,他们已经制备出直径4英寸的白色金刚石薄膜,这将为金刚石薄膜在光学窗口和光学镀膜方面的应用开辟了新的前景.我们用热丝化学汽相沉积法(HFCVD)在钽衬底上生长出白色金刚石薄膜。     

B掺杂对Ni原子溅射产额的影响

用卢瑟福背散射技术研究了Ni基体中掺B对离子溅射产额的影响。实验结果发现掺B后Ni原子的溅射产额Y比未掺B的纯Ni样品有明显减少。虽然这种溅射产额差值ΔY与Painter和Averill(P-A)理论模型分析结果定性符合,但实验产额减小值却大于P-A模型的预言。为解释实验结果,注意到溅射靶点表面形貌对减小或增大溅射产额的明显作用,认为实际的产额减小很可能是由于结合能和表面形貌等因素的协同效应。 关键词：     

NiPd合金在升温过程中择尤溅射的研究

用卢瑟福背散射技术,测定了NiPd(48.2wt%Pd)合金在不同温度时的溅射原子角分布,从而确定了Ni和Pd原子的部分产额随样品温度的变化关系。结果发现:Ni和Pd的部分溅射产额在居里温度附近均有较大变化,而且Pd的产额变化幅度比Ni的变化幅度大;Ni是择尤溅射元素,但是在磁相转变过程中,其择尤溅射程度却随样品温度的升高而减小。经讨论后指出,上述现象可能是由于在磁相转变过程中原子表面结合能减小和离子轰击引起的表面偏析共同引起的。 关键词：     

氧—乙炔火焰法合成金刚石

1988年日本学者广濑洋一等成功地用氧-乙炔火焰法合成了金刚石.该方法设备简单经济实用且生长速率高.本文就此方法进行实验探索,分析了不同工艺条件下生长的金刚石薄     

硅PIN光电探测器双层抗反射膜设计

氮化硅、二氧化硅双层透明膜可用作硅PIN光电探测器抗反射膜。本文对波长为9000埃光讯号垂直入射时的双层增透膜进行了设计计算,得出氮化硅、二氧化硅厚度分别为600埃和500埃。如果在制造过程中膜厚度偏离设计值,但只要保持两层膜几何厚度之和(～1100埃)不变,则也能获得良好增透性能。     

在Langmuir-Blodgett膜中实现多重前向光学相位共轭现象的研究

本文报道一种新型的三次非线性光学薄膜——花青一花生酸(OY-AA)复合Langmuir-Blodgett(LB)膜以及采用BOXCARS结构的简并四波混频在LB膜中实现多重前向光学相位其轭波输出的现象.该输出的方法既是一研究介质三次非线性光学性质的有效手段,而且可望在光学图象处理中有着其独特的应用.