二氧化钒薄膜的光学特性及应用前景

本文着重介绍二氧化钒（ＶＯ２）薄膜的性质，相变原理，若干制备工艺对ＶＯ２薄膜相变特性的影响并给出ＶＯ２薄膜的应用方向。     

非晶SiO_2薄膜中氧双键缺陷电子及光学特性的第一性原理研究

利用第一性原理对离子溅射沉积的非晶SiO2薄膜微观结构进行了分析、研究,结果表明,氧双键缺陷(SGs)可以作为体缺陷稳定存在于非晶SiO2中,SGs缺陷导致非晶SiO2薄膜材料禁带中引入了新的电子态,减小了禁带宽度;同时采用时相关密度泛函理论(TDDFT)对其光学特性进行了研究,得到非晶SiO2薄膜介电常数与入射光子能量间的关系曲线,从介电常数的虚部发现SGs缺陷在3.6eV处存在一个光学吸收峰.     

非晶SiO2薄膜中氧双键缺陷电子及光学特性的第一性原理研究

利用第一性原理对离子溅射沉积的非晶SiO2薄膜微观结构进行了分析、研究,结果表明,氧双键缺陷（SGs）可以作为体缺陷稳定存在于非晶SiO2中,SGs缺陷导致非晶SiO2薄膜材料禁带中引入了新的电子态,减小了禁带宽度;同时采用时相关密度泛函理论（TDDFT）对其光学特性进行了研究,得到非晶SiO2薄膜介电常数与入射光子能量间的关系曲线,从介电常数的虚部发现SGs缺陷在3.6eV处存在一个光学吸收峰。     

抗激光减反射膜

介绍１．０～１．８μｍ抗激光宽带减反射膜的薄膜设计，制备工艺，测试方法及结果。通过采取一系列工艺改进措施，大幅度提高了膜片的抗激光性能，制备的膜片抗光损伤阈达到５００ｍＷ／ｃｍ＾２。