强磁场中氢原子的能级结构

发展了一套简单高效的非微扰理论方法研究强磁场中的原子能级结构.作为例子,给出了磁场强度从0到1000个原子单位,氢原子基态和低激发态的结合能以及四极矩等重要原子能级结构参数.结果表明:相对于其他的高精度计算方法,该方法不仅能计算出高精度的能级位置而且可方便给出精确的电子波函数.此外,该法还具有很强的普适性,可直接推广到原子与任意方向的交叉电磁场相互作用的研究. 关键词： 强磁场 CWDVR谱方法 氢原子能级结构 四极矩     

计算7Li2振动能级煌振动-转动能级的辛格式矩阵法

利用辛格式矩阵法计算了双原子分子⁷Li₂在A¹Σ_u⁺态的振动能级和振动-转动能级,并与Ley-Koo等的计算结果作了比较.结果显示,辛格式矩阵法是收敛的和可靠的,是计算双原子分子的振动能级和振动-转动能级的合理的数值方法.     

Thermal Rate Constants of the N（^4S）＋O2（X^3∑g^-） → NO（X^2Ⅱ） ＋O（^3P） Reaction on the ^2A′ Potential Energy Surface

A quasiclassical trajectory study with the sixth-order explicit symplectic algorithm for the N（^4S）＋O2（X^3∑g^-） → NO（X^2Ⅱ） ＋O（^3P） reaction has been reported by employing a new ground potential energy surface. We have discussed the influence of the relative translational energy, the vibrational and rotational levels of O2 molecules on the total reaction cross section. Thermal rate constants at temperatures 300, 600, and 1000 K determined in this work for the reaction are 4.4 × 10^7, 1.8 × 10^10, and 3.1 × 10^11 cm^3mol^-1s^-1, respectively. It is found that they are in better agreement with the experimental data than previous theoretical values.     

以桑色素为模板的分子烙印聚合物的制备、结合特性及其在薄层色谱固定相方面的应用

以桑色素为模板,选用不同的功能单体和致孔剂制备了一系列分子烙印聚合物,采用结合实验考察了它们对底物的吸附特性,发现以丙烯酰胺为功能单体,以乙酸乙酯为致孔剂制得的烙印聚合物对底物有很好的选择性,同时对一些结构相似的化合物具有一定的结合力.Scatchard方程研究结果表明,在研究的浓度范围内聚合物形成了一类等价的结合位点,其平衡离解常数为0.877mmol/L,对模板分子的最大表观结合量为59.18μmol/g.可认为桑色素分子中3,7,4'位的羟基与功能单体的氢键作用是分子烙印聚合物具有底物选择性的主要因素.以该分子烙印聚合物为薄层色谱固定相,可以把模板分子从结构相似的化合物中分离出来,最小分离度为1.19.     

孔雀石绿分子印迹膜的制备和渗透性

以0.45 μm混合纤维素酯微孔膜为支载膜,丙烯酰胺为功能单体,N, N'-亚甲基双丙烯酰胺为交联剂,通过原位聚合法制备得到孔雀石绿分子印迹膜,并研究了其对模板分子和类似物的渗透性能。以分子印迹膜作为渗透膜,单一渗透实验中,13 h后MG的渗透量达到0.118×10^-3 g/cm²,而相同时间内甲基紫、甲酚红和溴百里酚蓝的渗透量分别为0.064×10^-3、0.057×10^-3和0.044×10^-3 g/cm²,且在竞争渗透中孔雀石绿的渗透速率没有发生明显变化,而甲基紫的渗透速率却显著下降。实验表明,分子印迹膜对模板分子孔雀石绿表现出良好的渗透选择性,且在与类似物甲基紫的竞争渗透中具有优先渗透能力。     

气相反应N(4S)+O2(X3∑g-)→NO(X2Π)+O(3P)的准经典轨线研究

基于从头算数据拟合得到的新的基态势能面,对气相反应N(4S) O2(X3∑g-)→NO(X2Π) O(3P)进行了系统的准经典轨线研究.文中计算了该反应的反应几率、反应截面以及在T=300、500、700 K时的热速率常数.通过与以前的理论值和实验值比较发现,我们算得的结果与实验值符合得很好.