不同缓冲层对ZnO薄膜的性能影响

用射频反应磁控溅射法在玻璃基底上分别以SnO2、SiO2和Al2O3为缓冲层制备ZnO薄膜.利用X射线衍射仪(XRD)、扫描电镜(SEM)、紫外-可见分光光度计和荧光分光光度计对薄膜的结构和光学性能进行了表征.XRD和SEM的分析结果表明,在SiO2和Al2O3缓冲层上生长的ZnO薄膜具有较好的c轴择优取向,薄膜表面光滑平整,薄膜的结晶质量得到改善;透射光谱表明所有样品在可见光范围内的平均透过率超过70;;通过对薄膜光致发光谱的分析,认为422 nm左右的紫峰来自于电子从晶粒边界的界面缺陷能级到价带的辐射跃迁;PL谱中蓝光和绿光的发光机制与薄膜中的本征缺陷有关.     

利用压电光声光谱测量镁掺杂氧化锌薄膜的光吸收特性

采用由射频磁控溅射方法在玻璃衬底制备的镁掺杂氧化锌（ZnO：Mg）薄膜材料,通过压电光声光谱法测量其在可见光波段的光吸收特性,并与透射光谱法测得的吸收率数据进行了比较,得到了一致性较好的结果。同时,从理论上推导分析了玻璃衬底上ZnO：Mg压电光声信号与光吸收率的关系及变化规律,并由实验证实：光声信号为玻璃基底与ZnO：Mg薄膜的共同贡献,光声信号的幅值与吸收率呈反相关,这一结论与理论分析得到的结果一致。