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1.
纳米Cu/Al_2O_3组装体模板合成与光吸收   总被引:2,自引:0,他引:2       下载免费PDF全文
以有序的多孔氧化铝为模板,利用交流电在孔洞中沉积金属铜得到纳米Cu粒子/Al2O3组装体系.透射电镜观察显示随着交流电沉积时间的延长,孔洞中纳米Cu粒子数量增加.测量了纳米Cu粒子/Al2O3组装体系的紫外可见光吸收光谱,发现随着孔洞中纳米Cu粒子数量增加,纳米Cu粒子/Al2O3组装体系的吸收带边大幅度红移;根据雷利散射引起的消光增强解释了组装体吸收带边红移的原因.同时发现Cu粒子的表面等离子共振吸收峰消失及组装体在吸收带边区光吸收值满足间接带隙半导体光吸收边的表达式.  相似文献   
2.
镍有序纳米孔洞阵列厚膜的制备和表征   总被引:4,自引:0,他引:4  
以阳极氧化铝为模板,通过两步复型的方法,制备了金属镍的有序纳米孔洞阵列厚膜.镍膜的孔道彼此平行,呈六角排列,孔径约40 nm,孔洞间距80 nm,孔密度约1011个/cm2 .  相似文献   
3.
纳米Cu/Al2O3组装体模板合成与光吸收   总被引:5,自引:0,他引:5       下载免费PDF全文
以有序的多孔氧化铝为模板,利用交流电在孔洞中沉积金属铜得到纳米Cu粒子/Al2O3组装体系.透射电镜观察显示随着交流电沉积时间的延长,孔洞中纳米Cu粒子数量增加.测量了纳米Cu粒子/Al2O3组装体系的紫外可见光吸收光谱,发现随着孔洞中纳米Cu粒子数量增加,纳米Cu粒子/Al2O3组装体系的吸收带边大幅度红移;根据雷利散射引起的消光增强解释了组装体吸收带边红移的原因.同时发现 关键词: 纳米Cu 模板合成 光吸收  相似文献   
4.
一种新的电化学方法制备CdS纳米线阵列   总被引:8,自引:0,他引:8  
用一种新的电化学方法在多孔氧化铝模板中制备了CdS纳米线阵列体系,并用XRD、TEM对样品进行表征,结果显示CdS纳米线为立方相和六方相的多晶混合结构,对沉积机理进行了讨论.荧光光谱测量显示CdS纳米线阵列体系有三个强的紫外发光带和一个黄绿发光带.该文所使用的方法可以用来在氧化铝模板中制备其它材料的纳米线阵列体系.  相似文献   
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