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Cu以其优异的导电性、导热性和易加工性广泛用于工农业生产中.自然Cu的腐蚀和防腐成为人们很关注的问题.人们已经注意到,Cl-对Cu的腐蚀有影响,并进行过一些研究.但目前使用光电化学方法研究这一问题的文章尚不多见,特别是利用测量开路光电压及其瞬态波形这一现场的、无损的、灵敏的监测方法研究户对Cu电极腐蚀全过程的文章尚未见到.本文正是利用如上方法及XPS,AES方法,研究了Cl-对Cu电极腐蚀的全过程,取得了一些有意义的结果.1实验方法Cu电极用99.99%(质量分数)的Cu制成,面积约为39mm2;电极底部由Cu导线焊接引出,… 相似文献
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3%NaCl溶液中铜缓蚀剂TTA的光电化学和表面电子能谱研究 总被引:6,自引:0,他引:6
本文采用测开路光电压(Voph)的方法,检测铜在3%NaCl溶液中的腐蚀行为及加入缓蚀剂TTA的缓蚀效果的浓度效应,并辅之以表面电子能谱进行研究。结果表明当TTA浓度小于1.5×10^-5wt%时,反而加速Cl^-侵蚀;当TTA浓度大于1.5×10^-5wt%时,TTA才起到缓蚀作用。随TTA浓度继续增加,TTA保护膜变得更致密和更厚;当TTA浓度大于5×10^-5wt%时,膜厚不再增加。 相似文献
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