光电导天线太赫兹辐射峰值调控研究

针对微结构光电导天线与飞秒激光之间相互作用效应以及辐射太赫兹波调控问题进行了研究。采用德鲁德-洛伦兹理论模型获得微结构光电导天线辐射光电流密度,通过时域有限差分把光电流密度迭代在激励网格上,结合麦克斯韦方程求解时变电磁场,并通过传输线格林函数获得多层介质近场到远场的辐射太赫兹波,建立了辐射光电流与辐射阻抗、电磁共振模式之间的关系模型,模拟仿真分析了微结构S型光电导天线太赫兹波辐射调控机理。研究结果表明:微结构改变了天线等效模型的辐射阻抗;同时得知耦合系数不为零时存在耦合作用,且随着耦合系数增大共振频率峰值发生辐射增强和位移;并通过设计S型光电导天线获得辐射峰值频率调整范围为0.50~0.80 THz之间,对比工形天线辐射峰值频率由原来的0.40 T移动到0.76 T,频率调整度75%,峰值辐射效率约提高70%。该研究工作为后续高功率光导天线太赫兹波辐射的共振中心频点以及结构设计奠定重要基础。     

大管径碳纳米管的可控制备

以乙醇为碳源,Ni-Fe/4(A)分子筛为催化剂,采用化学气相沉积法制备碳纳米管(CNTs).研究了反应温度和Ni/Fe摩尔比对CNTs管径的影响,反应温度对碳产率的影响.利用TEM和SEM观察CNTs形貌,结果显示,CNTs管径随着反应温度的升高和Ni/Fe摩尔比的降低而增大.     

Al-0.30%Sc-Zn-Cu四元系富铝角450℃等温截面的相关系

采用合金法,通过扫描电镜组织观察、能谱分析和X射线衍射分析测定Al-0.30%(质量分数)Sc-Zn-Cu四元系富Al角450℃等温截面的相关系。结果表明:在Al-0.30%Sc-Zn-Cu四元450℃等温截面图中存在α(Al)+Al3Sc,α(Al)+W两个两相区,α(Al)+Al3Sc+W一个三相区。450℃时,Al-0.3%Sc-Zn-Cu四元系中W相的出现取决于Cu含量;当Cu含量大于1.0%,该四元系出现W相;Cu含量处在1.0%～3.0%,α(Al),Al3Sc和W三相共存;当Cu含量大于4.0%,α(Al)和W两相共存,Al3Sc相不出现。     

基于纳米抗体-碱性磷酸酶融合蛋白的一步酶联免疫吸附分析法检测黄曲霉毒素B1

从噬菌体展示的抗黄曲霉毒素B1(AFB1)纳米抗体文库中,通过四轮亲和淘选,得到抗AFB1纳米抗体G8.将编码纳米抗体G8的基因与碱性磷酸酶(AP)基因融合,构建了重组融合表达载体pET25b(+)-G8-AP,将其转化大肠杆菌BL21(Rosetta,DE3)感受态细胞,异丙基-β-D-硫代吡喃半乳糖苷(IPTG)诱导融合基因表达.SDS-PAGE结果表明,融合蛋白G8-AP为可溶性表达,Ni2+-NTA亲和层析柱纯化融合蛋白,对硝基苯磷酸二钠(pNPP)法测得纯化后的G8-AP的碱性磷酸酶比活力为(364.5±8.3)U/mg.ELISA检测结果表明,G8-AP具有特异识别AFB1的活性,与其它真菌毒素(AFB2、AFG1、AFG2、脱氧雪腐镰刀菌烯醇、玉米赤霉烯酮、伏马菌素B1)无交叉反应.基于G8-AP建立了检测AFB1的一步ELISA法.在优化的条件下,即甲醇浓度20％、盐离子浓度20 mmol/L、pH 7.4条件下,方法的半数抑制浓度(IC50)为19.8 ng/mL,线性范围为4.3 ～ 92 ng/mL,检出限为2.6 ng/mL.对玉米和小麦样品加标回收实验结果表明,基质对本方法的干扰不明显,可用于实际样品检测.     

Ni-Fe/4A分子筛催化剂可控制备大内径碳纳米管

以乙醇为碳源,Ni-Fe/4A分子筛为催化剂,采用化学气相沉积法制备大内径碳纳米管(LIDCNTs)。研究了Ni/Fe的物质的量比(n_Ni∶n_Fe)、碳纳米管(CNTs)的制备温度、催化剂的煅烧温度和4A分子筛载体对CNTs内径的影响。采用TEM、SEM、XRD和BET对LIDCNTs和还原后的催化剂进行了分析。结果显示,LIDCNTs的内径随着CNTs的制备温度、催化剂的煅烧温度的升高和n_Ni∶<     

Cu/La2O3 催化裂解乙炔制备碳纳米纤维

用沉淀法制备了Cu/La2O3催化剂,将其用于催化裂解乙炔制备了碳纳米纤维(CNFs).考察了反应温度和反应时间对CNFs产率的影响.用SEM和微机差热天平分别对CNFs的形貌和抗氧化性能进行了研究.实验结果表明:于650 ℃反应3 h, CNFs产率为1.4 g·(g Cat.)-1;CNFs形态规则,表面光滑,直径300 nm～700 nm,长度达几十微米;CNFs燃烧温度515 ℃～544 ℃.     

基于相位展开及拼接算法的一种高精度大量程宽光谱干涉显微术

宽光谱干涉显微术广泛应用于高精密检测领域, 它测量样品形貌通常采用垂直扫描干涉术对亚微米至毫米级特征进行测量,以及相移干涉术对纳米级特征进行测量。其中,相移干涉术精度可达纳米级,但量程有限,高度变化对应的相位需限制在区间内。采用包裹相位展开算法可以扩展相移干涉术的量程,也仅适用于平滑表面,当高度起伏超出焦深或者光源相干长度的限定范围时,干涉条纹模糊或对比度丧失,所解算的结果将产生较大误差甚至错误。提出一种基于相位展开及拼接算法的高精度、大量程宽光谱干涉显微测量方法,以干涉条纹调制度量化条纹质量,条纹对比度高、成像清晰的区域对应调制度较高,定义当前焦面条纹调制度高于阈值的区域为理想区域,定义焦面条纹调制度低于阈值的区域为问题区域。以相位展开算法获得理想区域中的样品相位分布,问题区域的包裹相位不进行展开。使用微位移结构纵向移动物镜焦平面,选择合理的步长,使相邻焦面位置理想区域展开后的真实相位保持部分区域重合,根据重合区域的相位值均差可以实现不同焦面位置的高精度相位拼接,最终获得扩展量程的高精度真实相位结果,进而可以恢复样品完整的表面形貌分布。该算法通过对理想区域的筛选,避免了相位在问题区域展开带来的误差,可以得到精确的测量结果。通过模拟计算和实验验证,证明了该方法不仅保持了宽光谱干涉显微术中相移干涉术的纳米级高精度,还可将其量程从数百纳米拓展到数微米。而且,该方法精度不依赖于位移部件,理论上量程可以拓展到显微物镜的全工作距离。