首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
文章检索
  按 检索   检索词:      
出版年份:   被引次数:   他引次数: 提示:输入*表示无穷大
  免费   0篇
  国内免费   7篇
化学   7篇
  2015年   1篇
  2014年   2篇
  2013年   4篇
排序方式: 共有7条查询结果,搜索用时 15 毫秒
1
1.
合成并通过元素分析,红外和X-射线单晶衍射表征了2个酰腙铜配合物[Cu(L)2(THF](1)和[Cu(L)(CH3OH)Cl](2)[HL=3,4-二甲基-2-乙氧羰基-吡咯-5-甲醛苯甲酰腙]。结果表明在每个配合物中,HL脱质子作为阴离子配体,通过烯醇化的氧和亚氨基的氮与中心铜(Ⅱ)离子配位。中心铜(Ⅱ)离子在配合物1和2中的配位构型分别为扭曲的四方锥和平面正方形。配合物2对金黄色葡萄球菌有明显的抑制作用(MIC=1.98μg·m L-1),而配合物1则对肝癌细胞Hep G2展现出显著的抗肿瘤活性(IC50=9.1μmol·L-1)。  相似文献   
2.
合成了并通过单晶衍射表征了2个同构稀土配合物[LnL2(NO3)3](L=N, N-二苯基-2-(8-喹啉氧基)乙酰胺, Ln=La(Ⅲ), 1;Ce(Ⅲ), 2)。在每个配合物中, 十二配位的稀土离子采取扭曲的二十面体配位构型, 分别与来自2个配体的4个氧原子和2个氮原子及来自3个双齿配位硝酸根的6个氧原子配位。乙腈溶液中, 配合物发射强荧光。  相似文献   
3.
合成并通过X-射线单晶衍射表征了2个铜配合物[Cu(H2L)2(THF)] (1)和[Cu2(L)Cl(CH3OH)]·H2O (2) (H3L=3,4-二甲基吡咯-5-甲酰基-2-甲酸乙酯-2-羟基-4-甲基苯甲酰腙)。结果表明在配合物1中, 中心金属离子与周围2个提供N2O配位原子的酰腙阴离子和1个四氢呋喃分子配位, 具有扭曲的四方锥配位构型。然而, 在双核配合物2中, 酰腙配体脱去3个质子, 通过NO和N2O2配位原子分别桥联2个具有平面正方形配位构型的铜中心。2个配合物对人肺癌细胞A549, 人食管癌细胞ECA109和人胃癌细胞SGC7901展现出显著的抗肿瘤活性。  相似文献   
4.
合成并通过元素分析,红外和X-射线单晶衍射表征了2个酰腙铜配合物[Cu(L)2(THF](1)和[Cu(L)(CH3OH)Cl](2)[HL=3,4-二甲基-2-乙氧羰基-吡咯-5-甲醛苯甲酰腙]。结果表明在每个配合物中,HL脱质子作为阴离子配体,通过烯醇化的氧和亚氨基的氮与中心铜(Ⅱ)离子配位。中心铜(Ⅱ)离子在配合物12中的配位构型分别为扭曲的四方锥和平面正方形。配合物2对金黄色葡萄球菌有明显的抑制作用(MIC=1.98μg·mL-1),而化合物2则对肝癌细胞HepG2展现出显著的抗肿瘤活性(IC50=9.1μmol·L-1)。  相似文献   
5.
合成了并通过单晶衍射表征了2个同构稀土配合物[LnL2(NO3)3](L=N,N-二苯基-2-(8-喹啉氧基)乙酰胺,Ln=La髥,1;Ce髥,2)。在每个配合物中,十二配位的稀土离子采取扭曲的二十面体配位构型,分别与来自2个配体的4个氧原子和2个氮原子及来自3个双齿配位硝酸根的6个氧原子配位。乙腈溶液中,配合物发射强荧光。  相似文献   
6.
合成并通过X-射线单晶衍射表征了2个铜配合物[Cu(H2L)2(THF)] (1)和[Cu2(L)Cl(CH3OH)]·H2O (2) (H3L=3,4-二甲基吡咯-5-甲酰基-2-甲酸乙酯-2-羟基-4-甲基苯甲酰腙)。结果表明在配合物1中, 中心金属离子与周围2个提供N2O配位原子的酰腙阴离子和1个四氢呋喃分子配位, 具有扭曲的四方锥配位构型。然而, 在双核配合物2中, 酰腙配体脱去3个质子, 通过NO和N2O2O配位原子分别桥联2个具有平面正方形配位构型的铜中心。2个配合物对人肺癌细胞A549, 人食管癌细胞ECA109和人胃癌细胞SGC7901展现出显著的抗肿瘤活性。  相似文献   
7.
合成并通过元素分析,红外和X-射线单晶衍射表征了2个酰腙铜配合物[Cu(L)2(THF](1)和[Cu(L)(CH3OH)Cl](2)[HL=3,4-二甲基-2-乙氧羰基-吡咯-5-甲醛苯甲酰腙]。结果表明在每个配合物中,HL脱质子作为阴离子配体,通过烯醇化的氧和亚氨基的氮与中心铜(Ⅱ)离子配位。中心铜(Ⅱ)离子在配合物1和2中的配位构型分别为扭曲的四方锥和平面正方形。配合物2对金黄色葡萄球菌有明显的抑制作用(MIC=1.98μg·m L-1),而配合物1则对肝癌细胞Hep G2展现出显著的抗肿瘤活性(IC50=9.1μmol·L-1)。  相似文献   
1
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号