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鉴于弗氏柠檬酸杆菌和迟钝爱德华氏菌是"人-兽-鱼"共患性条件致病菌,因此利用微生物拮抗原理研发微生态制剂进行细菌病害的防治对环境具有友好性.分别以从患病中华鳖分离的弗氏柠檬酸杆菌和迟钝爱德华氏菌作为指示菌,初步筛选获得对这2种菌具有拮抗作用的菌株6-1-1M和7-1-1M.用点种法和纸片法进一步验证了其拮抗活性,测定了2株菌930 bp的16S r DNA基因片段序列,发现二者序列完全一致,系统进化分析表明其属于希瓦氏菌属(Shewanella sp.).安全性验证实验结果表明其无致病性,具有开发应用前景. 相似文献
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分别采用球磨法和高温热解法制备了Si/C复合材料,XRD、SEM、电化学阻抗谱、循环伏安法和恒流充放电测试表征该Si/C复合材料的结构、形貌和电化学性能.结果表明,相比于球磨法,高温热解HDPE制备的Si/C复合材料颗粒形貌规则,碳的包覆较为均匀,导电性较好,阻抗较小.该复合材料首次嵌锂容量为4495 mAh/g,首次库仑效率65.3% ,从第2周开始库仑电效率都保持在97% 左右,经过100次充放电循环后仍能达到438 mAh/g的可逆容量,具有较好的电化学循环稳定性. 相似文献
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为了制备弗氏柠檬酸杆菌快速检测试纸条,联合卵黄抗体技术和胶体金免疫层析技术,采用弗氏柠檬酸杆菌抗原免疫母鸡,制备抗弗氏柠檬酸杆菌卵黄抗体(IgY);采用柠檬酸三钠还原法制备胶体金颗粒,用以标记IgY;在结合垫上包被用胶体金标记的IgY,硝酸纤维膜上包被弗氏柠檬酸杆菌抗原和羊抗鸡IgY作为检测线和质控线;将样品垫、金标结合垫、硝酸纤维膜和吸水垫组装成试纸条,测试其灵敏度、特异性、稳定性,并与ELISA结果进行比较.结果表明:该试纸条检测线为105 cfu?mL~(-1);试纸条与恶臭假单胞菌、铜绿假单胞菌、迟钝爱德华菌、哈维氏弧菌和溶藻弧菌均无交叉反应;该试纸条在4℃保存4个月后依然十分稳定;具有易操作,特异性、灵敏度高,不需要专业的操作人员和特殊的仪器设备,5~10 min即可获得结果等优势,适合弗氏柠檬酸杆菌的现场检测. 相似文献
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通过恒电压电沉积法在不同的碳纤维基体上原位制备NiCo层状双金属氢氧化物(NiCo-LDH)复合材料(NiCo-LDH/碳纤维布),该方法无需粘合剂,可以有效避免由于粘合剂的加入引起的导电性降低。在NiCo-LDH的层状晶体结构中,正电荷的主体层和层间电荷补偿阴离子可以促进电极材料之间的离子扩散,从而可高效利用活性位点。得益于NiCo-LDH折叠层状结构的特点,NiCo-LDH/碳纤维布具有出色的比电容(1 A·g-1时1387.5 F·g-1)。此外,以NiCo-LDH/碳纤维布作为正极,涂覆在泡沫镍表面的还原氧化石墨烯(rGO/NF)作为负极,组装而成的非对称超级电容器(ASC)具有极好的电化学性能。ASC在1 A·g-1时能量密度为26.6 Wh·kg-1,功率密度为850.4 W·kg-1,在最大功率密度为8500.3 W·kg-1时能量密度仍保持有14.9 Wh·kg-1。 相似文献
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采用大涡模拟方法数值研究了偏斜角为60°的偏斜圆柱跨声速绕流.基于非偏斜圆柱跨声速绕流的实验和数值研究工作,来流Mach数取为0.75,Reynolds数取为2×105.通过与相同参数的非偏斜圆柱跨声速绕流对比,分析了偏斜来流对柱体受力和流动特性的影响.由于偏斜来流的流动控制,偏斜圆柱的阻力比非偏斜圆柱的阻力减小高达45%,而振荡力仅受到较小的抑制.偏斜圆柱流场的可压缩性被弱化,激波和小激波消失,而整体流动的模态未改变.偏斜来流使得偏斜圆柱后的剪切层变得更为稳定,进而提升柱体背压.在剪切层的初始发展阶段,剪切层的扰动涡斜脱泻模态和快速动能衰减是偏斜圆柱剪切层更为稳定的两个主要原因. 相似文献
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建立了单个嵌入化合物颗粒、混合颗粒、厚度均匀多孔电极层以及非均匀、多层多孔电极层的理论模型,模拟得了了上述模型的相对应电化学阻抗谱(EIS)特征.结果表明,单个颗粒和混合颗粒表现出相似的阻抗谱特征,均由高频区域内与锂离子通过固体电解质相界面(SEI)膜过程相关的RSEI‖CSRI半圆,与电荷传递过程相关的Rct‖Cdl半圆以及锂离子在固体颗粒内部的扩散相关的斜线三部分组成.对于非均匀、多层多孔嵌入电极而言,一个个新奇的现象就是在阻抗谱中会出现三个半圆,影响第三个半圆现现并形成的因素主要为电极中的颗粒尺寸分布以及电极层的厚度分布,也就是说电极片中出现不同尺寸分布的颗粒以及形成薄厚两种电极层的时候,容易导致阻抗谱中出现第三个半圆. 相似文献
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采用溶胶-凝胶法结合旋涂工艺在单晶硅(111)上制备了Tb3+离子不同掺杂浓度的硅酸镥光学薄膜(Tb∶Lu2SiO5),利用热重差热分析(TG-DSC)、X射线衍射(XRD)、傅里叶红外光谱仪(FTIR)、原子力显微镜(AFM)和紫外可见荧光光谱(PL)对Tb∶Lu2SiO5薄膜的不同温度热处理的结构演变和发光性能进行了表征.研究结果表明Tb∶Lu2SiO5光学薄膜表面均匀、平整、无裂纹,薄膜样品从800℃开始晶华,1100 ℃时晶化完全.Tb∶Lu2SiO5的发光性能表现为Tb3+离子的4f→5d和5D4(5D3)→7FJ(J =6,5,4,3)跃迁结果(监测波长分别为480~650 nm和350~470 nm),激发主峰位于~240 nm,发射光谱主峰为542 nm的绿光发射.研究表明Tb3掺杂浓度对Tb∶Lu2SiO5光学薄膜的发光强度会产生明显影响,掺杂15mol;的Tb3+时,Tb∶Lu2SiO5薄膜的发光强度最强. 相似文献