具有HfN/HfO2栅结构的p型MOSFET中的负偏置-温度不稳定性研究

研究了HfN/HfO₂高K栅结构p型金属-氧化物-半导体(MOS)晶体管(MOSFET)中，负 偏置-温度应力引起的阈值电压不稳定性(NBTI)特征.HfN/HfO₂高K栅结构的等效 氧化层厚度(EOT)为1.3nm，内含原生缺陷密度较低.研究表明，由于所制备的HfN/HfO₂ 高K栅结构具有低的原生缺陷密度，因此在p-MOSFET器件中观察到的NBTI属HfN/HfO2高K栅结构的本征特征，而非工艺缺陷引起的；进一步研究表明，该HfN/HfO₂高K栅结构中观察到的NBTI与传统的SiO₂基栅介质p-MOSFET器件中观察 到的NBTI具有类似的特征，可以被所谓的反应-扩散(R-D)模型表征： HfN/HfO₂ 栅结构p-MOSFET器件的NBTI效应的起源可以归为衬底注入空穴诱导的界面反应机理，即在负 偏置和温度应力作用下，从Si衬底注入的空穴诱导了Si衬底界面Si-H键断裂这一化学反应的 发生，并由此产生了Si^＋陷阱在Si衬底界面的积累和H原子在介质层内部的扩散 ，这种Si^＋陷阱的界面积累和H原子的扩散导致了器件NBTI效应的发生. 关键词： 高K栅介质 负偏置-温度不稳定性(NBTI) 反应-扩散(R-D)模型     

Carriers recombination processes in charge trapping memory cell by simulation

We have evaluated the effects of recombination processes in a charge storage layer, either between trapped electrons and trapped holes or between trapped carriers and free carriers, on charge trapping memory cell＇s performances by numerical simulation. Recombination is an indispensable mechanism in charge trapping memory. It helps charge convert process between negative and positive charges in the charge storage layer during charge trapping memory programming/erasing operation. It can affect the speed of programming and erasing operations.     

超薄膜磁性材料上XY模型的临界现象

采用经典XY模型，阐明了三角格子上层状超薄膜磁性材料的相变和临界现象.并用Monte-Carlo方法对该模型的内部能量、比热、chirality等热力学量进行了计算.使用finite-size scaling 分析法对临界现象的性质进行了论述.通过上述分析和计算，发现该模型在反强磁性层与强磁性层内的chirality在一定范围内随温度的变化急剧增加，这是一种新的chirality相变；而在另一范围内存在Kosterliz-Thouless相变和通常的chirality相变.这种新的chirality相变的 关键词： 层状XY模型 临界现象 Monte-Carlo模拟 磁性薄膜     

ZnCoO稀磁半导体的室温磁性

采用固相反应法，将ZnO和Co₂O₃粉末按不同的成分配比混合，制备了稀磁半导体Zn_1-xCo_xO (x=0.02,0.06,0.10)材料.并使用H₂气氛退火技术对样品进行了处理，得到了具有室温铁磁性的掺Co氧化锌稀磁半导体.利用全自动X射线衍射仪、X射线光电子能谱仪、高分辨透射电子显微镜和超导量子干涉器件磁强计对样品的结构、晶粒的尺寸、微观形貌以及磁性等进行了测量和标度. 关键词： 稀磁半导体 氧化锌 掺杂 固相反应法     

Ag／YBa_2Cu_3O（7－x）、Al／YB_2Cu_3O（7－x）界面特性

利用电学测量方法结合二次离子质谱（ＳＩＭＳ）技术对金属Ａｇ和Ａｌ与ＹＢａ２Ｃｕ３Ｏ（７－ｘ）（ＹＢＣＯ）超导薄膜接触界面电学性质和互扩散特征进行了测试分析．分析结果显示由于Ａｇ和Ａｌ具有不同的化学性质，二者与ＹＢＣＯ界面的互扩散特性有明显不同．这些不同影响到接触界面的电学性质和接触窗口下ＹＢＣＯ的超导性能．在Ａｇ／ＹＢＣＯ样品中，在高于３５０℃以上的温度下氧气氛中退火将引起Ａｇ和Ｏ的界面互扩散，但对ＹＢＣＯ体内Ｏ的分布及ＹＢＣＯ的超导性能影响不大，且有利于在界面形成好的电学接触；在Ａｌ／ＹＢＣＯ样品中，在高于３５０℃以上的温度下氧气氛中退火后，界面则主要发生Ｏ向Ａｌ膜体内的扩散，并在Ａｌ和ＹＢＣＯ界面生成一不导电的氧化层，这些将影响到ＹＢＣＯ体内Ｏ的分布和接触窗口下的ＹＢＣＯ的超导性能．在合适的退火条件（约５００℃氧气氛中）下退火，Ａｇ与ＹＢＣＯ将形成小的接触电阻，利用剥离工艺制备的样品，其界面接触电阻率ρ（ρｃ＝Ｒ×Ａ）高于是１０（－６）Ωｃｍ２．     

杰出的固体物理学家──黄昆教授

1989年9月 2日是著名物理学家黄昆教授的70寿辰,为了庆贺他50年来从事教学和科研活动所取得的卓越成就,1990年 1月 4日在北京大学举行了“黄昆教授七十寿辰学术报告会”.北京大学校长吴树青教授和中国科学院院长周光召教授致词祝贺,著名华裔物理学家杨振宁教授专程来京参加会议并作了学术报告.来自中国科学院、机械电子工业部所属研究所和19所高等院校等单位的170多名专家、教授参加了会议,他们之中有黄昆教授的朋友、同事,但绝大多数是黄昆教授的学生.会上宣读了10篇论文,这些论文反映出了我国近年来在半导体物理、晶格动力学方面的研究成…     

半导体器件蒙特卡罗模拟中保持电荷守恒的统计增强方法

介绍了一种在半导体器件蒙特卡罗模拟中保持电荷守恒的统计增强方法,该方法消除了由统计增强引入的电荷统计涨落,保持了不同增强区界面处过界粒子流的连续性.以肖特基势垒二极管为例,应用该方法,实现了高接触势垒情形下的正反向电流模拟.     

Schottky barrier MOSFET structure with silicide source/drain on buried metal

In this paper, we propose a novel Schottky barrier MOSFET structure, in which the silicide source/drain is designed on the buried metal (SSDOM). The source/drain region consists of two layers of silicide materials. Two Schottky barriers are formed between the silicide layers and the silicon channel. In the device design, the top barrier is lower and the bottom is higher. The lower top contact barrier is to provide higher {on-state} current, and the higher bottom contact barrier to reduce the off-state current. To achieve this, ErSi is proposed for the top silicide and CoSi₂ for the bottom in the n-channel case. The 50~nm n-channel SSDOM is thus simulated to analyse the performance of the SSDOM device. In the simulations, the top contact barrier is 0.2e~V (for ErSi) and the bottom barrier is 0.6eV (for CoSi₂. Compared with the corresponding conventional Schottky barrier MOSFET structures (CSB), the high on-state current of the SSDOM is maintained, and the off-state current is efficiently reduced. Thus, the high drive ability (1.2mA/μm at V_ds=1V, V_gs=2V) and the high I_on/I_min ratio (10⁶) are both achieved by applying the SSDOM structure.     

Critical properties of XY model on two-layer Villain－ferromagnetic lattice

We investigate phase transitions of the XY model on a two-layer square lattice which consists of a Villain plane (J) and a ferromagnetic plane (I), using Monte Carlo simulations and a histogram method. Depending on the values of interaction parameters (I,J), the system presents three phases: namely, a Kosterlitz－Thouless (KT) phase in which the two planes are critical for I predominant over J, a chiral phase in which the two planes have a chiral order for J predominant over I and a new phase in which only the Villain plane has a chiral order and the ferromagnetic plane is paramagnetic with a small value of chirality. We clarify the nature of phase transitions by using a finite size scaling method. We find three different kinds of transitions according to the values of (I,J): the KT transition, the Ising transition and an XY-Ising transition with ν=0.849(3). It turns out that the Ising or XY-Ising transition is associated with the disappearance of the chiral order in the Villain plane.     

CoxTi1-xO2-δ体材中氢退火引起的铁磁性及结构相变

利用固相反应法在700℃-1000℃不同的温度下、空气中烧结Co3O4和TiO2混合物,制备了(Co3O4)x/3(TiO2)1-x(0相似文献