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用MOCVD法在YSZ衬底上制备YBCO膜   总被引:1,自引:0,他引:1  
用低压MOCVD多源法在单晶YSZ和具有双轴取向IBADYSZ的金属基带上沉积了YBCO膜,它们的Jc(77.3K,0T)分别为~2×106A/cm2和~7×104A/cm2.分析了本试验中的Jc差别原因.在单晶YSZ上YBCO高Jc数值显示了用MOCVD制备涂层膜导体的潜力  相似文献   
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