Ag/Si纳米颗粒多层膜的合成

使用多靶离子束溅射沉积方法制备出Ag/Si多层膜 .利用原位低角X射线衍射技术和截面高分辨透射电子显微镜观察 5 0～ 30 0℃退火过程中Ag/Si多层膜各亚层间发生的扩散现象 ,并由此分析研究Ag/Si多层膜微观结构变化 ,即Ag/Si纳米颗粒多层膜的形成过程 .计算出Si在Ag亚层中的扩散激活能和频率因子分别为 0 .2 4eV和 2 .0 2× 1 0 ^-20 m² /s,纳米Ag颗粒的尺寸约为5nm .     

高压下Fe73.5Cu_1Nb_3Si13.5B9纳米晶合金的形成

采用X射线衍射、电子衍射及透射电子显微技术研究了Fe73 .5 Cu1Nb3 Si13 .5 B9非晶合金在 82 3K ,1～ 5GPa下退火所形成的纳米晶结构 ,高压实验采用Belt型压力装置 .结果表明 ,压力没有改变合金结晶相的类型 ,但对其纳米晶结构的形成有重要影响 .当压力从常压增加到 5GPa时 ,结晶相α Fe固溶体 (α Fe相 )的尺寸从 1 1 .5nm减小至 5nm .当压力低于 2GPa时 ,α Fe相的体积分数随压力的增高而增加 ,然后随压力进一步增高 (P >2GPa)而减小 .还讨论了压力影响Fe73 .5 Cu1Nb3 Si13 .5 B9纳米晶合金形成的机制 .     

β-FeSi2的高压研究

 对β-FeSi₂晶体进行了原位X射线衍射高压研究。利用同步辐射X射线衍射原位研究了β-FeSi₂的高压相演化，发现压力在4.3 GPa时出现相变，在25.8 GPa时相变完成。指标化结果表明：经高压处理后得到的产物具有四方结构，其晶格常数为：a=b=1.004 9 nm，c=0.339 4 nm。     

Growth of bulk single crystals β-FeSi2 by chemical vapour deposition

Bulk single crystals β-FeSi2, as a new photoelectric and thermoelectric material, has been successfully grown using chemical vapor transport techniqueby using iodine as transport agent in a sealed ampoule. The effects of crystal growth condition on quality and morphologies of the single crystals were studied. Both needle-like and grain-like single crystals were gained. By changing substrate temperature, tetrahedral high quality α-FeSi2 single crystals were also obtained.     

高温高压下碳纳米管的相转变及金刚石的合成

 利用透射电子显微镜（TEM）和扫描电子显微镜（SEM）研究了碳纳米管在高压高温下的相转变。研究发现在高压高温条件下碳纳米管是不稳定的,在5.5 GPa压力下,770 ℃到950 ℃间退火时碳纳米管趋向形成碳纳米葱。在5 GPa、1 000 ℃条件下合成了金刚石。     

FeSi2单晶化学气相生长

利用化学气相输运方法, 以碘作为传输剂, 在封闭的石英安瓿中制备出了优质新型的光电及热电半导体材料β-FeSi₂单晶. 在大量实验基础上深入研究了生长工艺对单晶质量、形态的影响, 除了得到大尺寸针状β-FeSi₂单晶外, 还获得了大尺寸颗粒状单晶. 通过改变衬底温度, 得到了四面体柱状优质的α-FeSi₂单晶.