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| Ag/Si纳米颗粒多层膜的合成 | |
| 引用本文： | 赵建华,张明,曹立民,张湘义,刘日平,戴道阳,陈红,许应凡,王文魁.Ag/Si纳米颗粒多层膜的合成[J].中国科学A辑,1998,41(5):438-442. |
| 作者姓名： | 赵建华 张明 曹立民 张湘义 刘日平 戴道阳 陈红 许应凡 王文魁 |
| 作者单位： | (1)中国科学院物理研究所 北京100800 (2)燕山大学材料工程学院,秦皇岛066004 |
| 摘 要： | 使用多靶离子束溅射沉积方法制备出Ag/Si多层膜 .利用原位低角X射线衍射技术和截面高分辨透射电子显微镜观察 5 0～ 30 0℃退火过程中Ag/Si多层膜各亚层间发生的扩散现象 ,并由此分析研究Ag/Si多层膜微观结构变化 ,即Ag/Si纳米颗粒多层膜的形成过程 .计算出Si在Ag亚层中的扩散激活能和频率因子分别为 0 .2 4eV和 2 .0 2× 1 0 -20 m2 /s,纳米Ag颗粒的尺寸约为5nm . |
| 关 键 词： | Ag/Si纳米颗粒多层膜 扩散 原位低角X射线衍射 |
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