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采用直流辉光放电质谱(dc-GD-MS)测定多晶硅中关键杂质元素的相对灵敏度因子(RSF).标样制作过程中主要是在连续通入氩气条件下将固定量的非标准多晶硅样品熔化,向硅熔体中均匀掺入浓度范围为1~30 μg/g的关键杂质元素(如B和P),采用快速固化法制成标样;再将制成的标准样品加工成一系列适合GD-MS扁平池(Flat Cell)的片状样品(20 mm×20 mm×2mm).采用二次离子质谱法(SI-MS)对标准样品中关键掺杂元素进行多次定量测定,取平均值作为关键杂质元素的精确含量.优化一系列质谱条件后,运用GD-MS对标样中关键掺杂元素的离子强度进行多次测定,计算平均结果,得到未校正的表观浓度,利用标准曲线法计算出关键杂质元素的相对灵敏度因子. 相似文献
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晶体材料的合成中,通过特定掺杂可以提高晶体质量、改善晶体性能,而掺杂元素的种类、浓度和分布对于人工晶体结构、性能等也有非常重要的影响。因此,准确测定晶体中各种元素的含量,对于改进晶体材料配方、生长工艺以及质量控制具有重要指导意义。目前,人工晶体中掺杂元素表征的主要方法包括原子光谱法,X射线荧光光谱法,无机质谱法和电子探针显微分析法等,对各种方法的原理、特点与局限性进行了综合论述,由于每种方法都有其各自的优缺点和适用范围,可根据不同的分析需求选择合适的方法以提高分析的效率与准确性。对人工晶体中掺杂元素分析方法的发展趋势进行了展望。 相似文献
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综述了从1980-2012年间测定高纯硅中痕量元素分析方法的研究进展。高纯硅中痕量元素的主要分析方法包括红外光谱法、原子发射光谱法、原子吸收光谱法、X射线荧光光谱法、极谱法、离子探针与离子色谱法、二次离子质谱法、辉光放电质谱法、电感耦合等离子体质谱法等;并对高纯硅中痕量元素的分析方法进行了展望(引用文献59篇)。 相似文献
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通过一步水热法合成了钨酸铋/还原氧化石墨烯(Bi_(2)WO_(6)/rGO)复合材料,并基于此材料制备了NO_(2)气体传感器。用X射线衍射光谱、拉曼光谱、扫描电镜和透射电镜对复合材料的晶相、形貌和微观结构进行的表征表明,Bi_(2)WO_(6)和rGO成功复合,且获得了具有花状超结构的Bi_(2)WO_(6)/rGO复合材料。将复合材料负载到叉指电极上制备了NO_(2)气体传感器,利用自制的气敏测试装置对气体传感器的气敏性能进行了系统测试。结果表明,Bi_(2)WO_(6)/rGO复合气体传感器在室温下对NO_(2)气体具有较高选择性、较高响应值和较好长期稳定性,对质量浓度为47.03 mg/m^(3)NO_(2)的响应值为28.35%,是纯rGO气体传感器的3.5倍,响应时间为55 s,恢复时间为549 s,对NO_(2)的检出限为62μg/m^(3)。 相似文献
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俄歇电子能谱(AES)在表面微区元素分析方面优势明显,但是受基体效应的影响,其定量分析,特别是非单质材料表面元素含量分析的准确度差,X射线光电子能谱(XPS)的定量分析准确度较高。为了降低AES定量分析的误差,将XPS和AES两种分析技术联用,选择Pt-Co,Cu-Au和Cu-Ag三种二元合金样品进行了研究,利用样品的XPS定量分析结果对AES的定量分析所用相对灵敏度因子进行修正,将修正后的相对灵敏度因子用于其他不同组分比的样品的定量分析,以验证其分析准确性。结果表明,修正后的灵敏度因子在用于AES定量分析时相对误差明显降低,分析相对误差小于10%。为了解决AES定量分析在积分谱处理形式下选峰困难的问题,将积分谱进行微分化处理,并修正了微分谱的处理形式下的相对灵敏度因子,AES的定量分析相对误差降低到小于9%,表明在两种处理形式下都能得到较为准确的定量结果。修正后的相对灵敏度因子包含了基体效应尤其是背散射效应的影响,从而有助于降低AES定量分析的误差。说明借助XPS提高AES定量分析准确度的研究方法具有一定的可行性。 相似文献
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1 INTRODUCTION The catalytic asymmetric synthesis has been a challenging subject in organic synthesis. The deve- lopment of efficient enantioselective catalysts appli- cable to a wide range of carbon-carbon bond form- ing reactions represents a pivotal … 相似文献