八钼酸根阴离子有机胺化合物的合成与结构

由MoO3和(CH3)3N或(C2H5)3N反应合成了两种分子组成分别为[(CH3)3NH]4Mo8O26·2H2O(1)和[(C2H5)3NH]4Mo8O26·2H2O(2)的化合物.单晶X衍射结构分析表明,化合物(1)属三斜晶系,空间群为P1,晶胞参数a=1.0500(2)nm,b=1.0533(2)nm,c=1.0765(2)nm,α=100.21(3)°,β=101.93(3)°,γ=118.47(3)°,V=0.9698(3)nm3,R1=0.0524.化合物(2)属单斜晶系,空间群为P21,晶胞参数a=1.1512(2)nm,b=1.3097(3)nm,c=1.7610(4)nm,β=101.40(3)°,V=2.6028(9)nm3,R=0.0428.结构分析表明,两种化合物中Mo8O264-阴离子均发生畸变,有机阳离子增大,Mo-O键键长缩短,阴离子畸变增大.     

K_(10)[H_2W_(12)O_(42)]·11H_2O的合成及晶体结构分析

在水溶液中反应制得无色透明的标题化合物单晶 ,单晶X -射线结构分析表明 ,属单斜晶系 ,空间群P2 1,晶胞参数 :a=1.15 47(2 )nm ,b =1.430 9(3)nm ,c =1.5 495 (3)nm ,β =10 5 .41(3)° ,V =2 .46 81(9)nm3,Z =2 ,Dc=4.6 39Mg/m3,对 5 45 4个独立衍射点 (I>2δ(I) )进行全矩阵最小二乘法修正后 ,可靠性因子R =0 .0 487     

H4GeMo12-nWnO40·mH2O（n=0, 9, 11, 12)和N-甲基吡咯烷酮电荷转移盐的合成、表征和非线性光学性质研究

由Ｈ４ＧｅＭｏ１２－ｎＷｎＯ４０·ｍ Ｈ２Ｏ（ｎ＝ ０, ９, １１, １２）和Ｎ－甲基吡咯烷酮合成,随后在ＣＨ３ＣＮ 和水中结晶,制成了一系列分子组成为［ＮＭＰＨ］４ＧｅＭｏ１２－ｎＷｎＯ４０·ＣＨ３ＣＮ的电荷转移化合物。并用元素分析、红外光谱、电子光谱进行了表征。结果表明在该系列化合物中, Ｎ－甲基吡咯烷酮通过Ｎ原子与酸中的质子结合成阳离子而与阴离子成盐;固体中阴离子和阳离子之间存在强的相互作用;化合物在光照下发生分子内电荷转移, 导致阳离子的氧化和阴离子的还原;ＥＳＲ结果表明阴离子还原反应处于单电子阶段; 非线性光学性质研究表明, 随着化合物分子内钨取代数的增多, 化合物倍频效应增强,三阶非线性系数增大     

N-甲基吡咯烷酮与H_nXW_(12)O_(40)·mH_2O(X=P,Si,Ge)电荷转移盐的合成、表征及非线性光学性质研究

由N -甲基吡咯烷酮和HnXW1 2 O40 ·mH2 O(X =P ,Si,Ge)合成了具有非线性光学性质的电荷转移盐 ,(NMPH) 3PW1 2 O40 ·CH3CN(I) ,(NMPH) 4 SiW1 2 O40 ·CH3CN(Ⅱ )和 (NMPH) 4 GeW1 2 O40 ·CH3CN(Ⅲ ) .并由元素分析 ,红外光谱 ,漫反射电子光谱进行了表征。结果表明杂多酸形成电荷转移盐后其阴离子结构未变 ;N -甲基吡咯烷酮通过N原子与酸中的质子H+结合成阳离子而成盐 ,光激发下阴阳离子之间可以发生电荷转移 ,非线性光学性性质研究表明 ,电荷转移盐的倍频效应强度分别为I2ωⅠ =0 .6IKDP,I2ωⅡ =0 .85和I2ωⅢ =0 .41IKDP,三阶非线性系数分别为 χ(3)Ⅰ =1 .60× 1 0 - 1 2 esu ,χ(3)Ⅱ =3.6× 1 0 - 1 2 esu ,χ(3)Ⅲ =1 .2× 1 0 - 1 1 esu .     

磷钨酸-PVA复合体系膜的制备和光色性研究

用旋转涂布法制得了PVA -H3PW1 2 O40 复合体系的光敏膜。研究了膜对光的响应情况 ,发现复合体系对光的响应情况与体系内各成份的浓度无关。光敏性的产生源于体系内PVA的 OH与钨磷酸阴离子中Oc的相互作用。     

六次甲基四胺与HnXW12O40·mH2O(X=P,Si,Ge)电荷转移盐的合成、表征及非线性光学性质研究

合成了由六次甲基四胺与Ｈ３ＰＷ１２Ｏ４０·ｎＨ２Ｏ,Ｈ４ＳｉＷ１２Ｏ４０·ｎＨ２Ｏ和Ｈ４ＧｅＷ１２Ｏ４０·ｎＨ２Ｏ 形成的具有非线性光学性质的电荷转移盐,并由元素分析,红外光谱,电子光谱进行了表征。结果表明固体中阴阳离子之间存在强的相互作用;非线性光学性质研究表明,三种电荷转移盐的倍频效应分别为ＫＨ２ＰＯ４（ＫＤＰ） 的０ ．１７ ,０ ．２５ 和０ ．０６ 倍;三阶非线性系数分别为６．２ ×１０－ １３ｅｓｕ,８ ．１ ×１０ － １３ｅｓｕ和４ ．３ ×１０ － １３ｅｓｕ。     

三维网状结构聚金属氧酸盐K4SiW12O40·16H2O的合成及其X射线晶体结构分析

以钨酸钠(Na2WO4·2H2O),硅酸钠(Na2SiO3·9H2O)和氯化钾(KCl)为原料在水溶液中反应制得了标题化合物,单晶X射线结构分析表明,属单斜晶系,空间群Cc,晶胞参数a=2.0180(4),b=2.0178(4),c=1.2498(3)nm,β=90.08(3)°,V=5.0892(18)nm3,Z=4,Dc=4.290g/cm3.对5850个独立的衍射点[I>2σ(I)]进行全矩阵最小二乘法修正后,可靠性因子R1=0.0598.     

六次甲基四胺与H_nXMo_(12)O_(40)·mH_2O(X=P,Si,Ge)电荷转移盐的合成、表征及二阶非线性光学性质

合成了由六次甲基四胺与Ｈ３ＰＭｏ１２Ｏ４０·ｎＨ２Ｏ,Ｈ４ＳｉＭｏ１２Ｏ４０·ｎＨ２Ｏ 和Ｈ４ＧｅＭｏ１２ Ｏ４０·ｎＨ２Ｏ 形成的具有二阶非线性光学性质的电荷转移盐,并由元素分析,红外光谱,电子光谱进行了表征。结果表明六次甲基四胺分子中有两个Ｎ 原子参与盐的形成,固体中阴阳离子之间存在强的相互作用;非线性光学性质研究表明,三种电荷转移盐的倍频效应分别为ＫＤＰ和０．０２ ,０ ．１１ 和０．０６ 倍。     

混配杂多化合物[C10H10N]4PMo9W3O40·2DMF的合成、表征、晶体结构及非线性光学性质

混合价;杂多金属氧酸盐;混配杂多化合物[C10H10N]4PMo9W3O40·2DMF的合成、表征、晶体结构及非线性光学性质     

N-甲基吡咯烷酮与HnXMo12O40·mH2O(X=P,Si,Ge)电荷转移盐的合成、表征及非线性光学性质

由 N-甲基吡咯烷酮 (NMP)和 Hn XMo1 2 O40 · m H2 O(X=P,Si,Ge)合成了具有非线性光学性质的电荷转移盐 ,(NMPH ) 3PMo1 2 O40 · CH3CN ( ) ,(NMPH) 4Si Mo1 2 O40 · CH3CN ( )和(NMPH) 4Ge Mo1 2 O40 · CH3CN( ) ,并以元素分析 ,红外光谱 ,漫反射电子光谱进行了表征 .结果表明 ,杂多酸形成电荷转移盐后其阴离子结构未变 ;N-甲基吡咯烷酮通过 N原子与酸中的质子H 结合成阳离子而成盐 ,在高压汞灯照射下阴阳离子之间可以发生电荷转变 .非线性光学性质研究表明 ,电荷转移盐的倍频效应强度分别为 I2ω =0 .3IKDP,I2ω =0和 I2ω =0 .0 2 IKDP,三阶非线性系数分别为χ( 3) =5 .0× 10 - 1 4 esu,χ( 3) =3.1× 10 - 1 3esu和χ( 3) =4.3× 10 - 1 3es