直读光谱仪在线分析非常规元素

介绍了直读光谱仪在分析N，C，Al等元素的分析方法，讨论了分析过程中的分析条件、设置、校正方法及得出的结果证券评判，为直读光谱分析的应用提供了借鉴。     

TMS320VC5402并行引导加载系统设计

介绍了TMS320VC5402外挂FLASH的在线编程技术和方法，结合实例给出了创建系统引导表的具体步骤，并在此基础上重点叙述了TMS320VC5402DSP的并行16位引导加载方法．设计的系统具有较大的灵活性和良好的可扩展性、     

带复合信息的三台平行机半在线排序问题

本文讨论在已知加工工件总长度(sum)以及机器带一个缓冲区(buffer)两个复合信息下的同型平行机半在线排序问题． Dosa和He研究了当机器数m=2时的情形,设计出竞争比为5／4的最优半在线算法．本文将其情况推广到三台机器,给出竞争比为4／3的半在线算法,并得到一个11／9的问题下界．     

基于TMS320VC5402独立系统的实现

实现高速C5402 DSP芯片与低速外部存储器(片外RAM和片外ROM)之间的数据通信,包括外部存储器的选取、DSP与其接口电路,指出了大容量存储空间扩展方法和设计过程中的注意事项,从硬件和软件两方面,结合具体存储芯片给出电路的设计,方便C5402在其它系统中的扩展应用．     

P|rj,on-line|∑Cj的一类在线算法与竞争比分析

本文研究平等机上的在线排序问题,优化目标是使总完工时间最小,算法SSPT是此问题的一类在线算法,论文引入一个拟时间表,此时间表具有SRPT时间表的部分性质,论文通过此辅助时间表证明了SSPT算法是(3-(1/m))-competitive的.     

已知工件最大加工时间的两台同类机半在线问题

考虑已知工件最大加工时间的两台同类机半在线问题．机器M1,M2的速度分别为s1=1,s2=s(s≥1),工件是一个一个独立地到来,工件的信息是逐个释放的,但所有工件中加工时间为最大的工件的加工时间是已知的,目标函数为极小化最大机器负载．此模型简记为Q2／known largest job／Cmax．作者给出了Qmax2算法并证明此算法的竞争比为2(s 1)/s 2(1≤s≤2)和(s 1)/s(s>2),且是紧的．同时给出Q2／known largest job／Cmax问题的一个下界,并且证明Qmax2算法的竞争比与最优算法竞争比之差不大于1/4.     

用于照射量仪校准工作的监测电离室

本文描述用于照射量仪校准工作的薄窗监测电离室的结构、性能及使用方法，就重复性而言，电离室的读数在0．2％以内相符；用于校准现场仪器时，在中等过滤的情况下误差小于1％，重过滤下不大于2％。     

我国水处理监测手段取得新突破

长期困扰环保监测的“二次排放污染”问题可望得到彻底解决。由蓝星水处理技术有限公司研制开发的一种在线自动监测仪，不久前通过了国家环保总局的环境保护产品认定。专家认为，这是中国水处理监测手段取得的新突破。     

ZnO／AlN／Si（111）薄膜的外延生长和性能研究

用常压金属化学气相沉积法(MOCVD)在Si(111)衬底上制备了马赛克结构ZnO单晶薄膜。引入低温Al N缓冲层以阻止衬底氧化、缓解热失配和晶格失配。薄膜双晶X射线衍射2θ/ω联动扫描只出现了Si(111)、ZnO(000l)及Al N(000l)的衍射峰。ZnO/Al N/Si(111)薄膜C方向晶格常量为0.5195nm,表明在面方向处于张应力状态;其对称(0002)面和斜对称(1012)面的双晶X射线衍ω摇摆曲线半峰全宽分别为460″和1105″;干涉显微镜观察其表面有微裂纹,裂纹密度为20cm-1;3μm×3μm范围的原子力显微镜均方根粗糙度为1.5nm;激光实时监测曲线表明薄膜为准二维生长,生长速率4.3μm/h。低温10K光致发光光谱观察到了薄膜的自由激子、束缚激子发射及它们的声子伴线。所有结果表明,采用金属化学气相沉积法并引入Al N为缓冲层能有效提高Si(111)衬底上ZnO薄膜的质量。