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91.
线切割数控系统采用开放体系结构能显著提升其性能,比较分析了开放式线切割数控系统的体系结构模式和系统平台,并结合实际研究工作对开放式线切割数控系统开发过程中的多线程编程、加工轨迹三维图形构建、实时控制等关键技术进行了深入的研究。 相似文献
92.
控制电位滴定法的误差分析 总被引:1,自引:0,他引:1
研究了影响控制电位滴定法测定结果准确度的因素,得到的结论是:第一,电位的控制误差及滴定剂体积的测定误差是影响控制电位滴定法测定结果准确度的主要因素.计算模型中的比例系数越大,滴定曲线的变化率越大,这种影响越小.第二,多组分体系的测定误差,与组分在计算模型中比例系数的相对大小有关.比例系数越大,测定误差越小.第三,不同浓度(或不同浓度比)待测溶液滴定曲线的差异越大,对控制电位滴定法的测定越有利. 相似文献
94.
通过高碘酸钠氧化葡聚糖,制备不同氧化度的葡聚糖,采用酸量法和碘量法测定其醛基含量,但所得结果差异大.结合葡聚糖的氧化机理,以甘油的氧化反应结果作为对照,对借助化学滴定分析的酸量法和碘量法所得数据的差异性进行了分析.结果表明这种差异是由葡聚糖氧化存在的中间反应及其分支结构造成的,当高碘酸钠与葡聚糖的糖单元的物质的量比控制在2以内,操作简单的酸量法所得结果是可靠的. 相似文献
95.
由廉价的邻氨基苯甲酸为起始原料经6步反应以27.8%的总产率首次合成了2-喹啉酮类生物碱(±)-yaequinolone A2,关键步骤为MOM保护的α-羟基酰胺进行的高非对映选择性分子内aldol 反应。 相似文献
96.
以邻硝基苯酚、环氧氯丙烷、乙酰丙酮或苯甲酰丙酮为原料,经醚化、硝基还原及缩合等反应,合成含羟基功能基的席夫碱化合物1[1,3-二(2-胺基苯氧基)-2-丙醇)缩双乙酰丙酮]和2(1,3-二(2-胺基苯氧基)-2-丙醇)缩双苯甲酰丙酮)。化合物2与Cu(OAc)2·4H2O反应得到单核铜(Ⅱ)配合物3。用元素分析、1H NMR、IR、UV-Vis和MS等进行表征。用X射线衍射单晶结构分析方法测定了席夫碱化合物1和铜(Ⅱ)配合物3的晶体结构。晶体结构表明,席夫碱化合物1的分子具有非平面结构,配合物3的分子具有钳式结构,配合物通过分子中羟基功能基与相邻分子的配位氧原子间所形成的氢键作用扩展为一维链状结构。 相似文献
97.
针对某铣刨机,研制了无线测控系统,其主要由PLC、通信模块、继电器、触摸屏、路由设备、远程终端等组成;在系统设计中,基于GE ifix环境开发了基于Ethernet的测控软件,解决了不同操作系统平台和硬件环境下的兼容问题;提出了主机掉线PLC状态自保持、无线控制与本地控制冗余和控制指令优先级划分的技术思路,实现了系统可靠运行;该系统具备本地控制与无线遥控两种控制方式,并已在该铣刨收机上得到应用,实现了平台所有操作的无线遥控,无指令丢失和误动作。 相似文献
98.
合成了两种新型芴衍生物:2,7-二(3,5-二(三氟甲基)苯基)-9,9-二乙基芴(1)和2,7-二(4-氟苯基)-9,9-二乙基芴(2)。通过元素分析、红外光谱(IR)、核磁共振氢谱(1H NMR)以及单晶X射线衍射对其结构进行了表征。化合物1属于单斜晶系,P21/c空间群;化合物2属于三斜晶系,P-1空间群。通过紫外-可见吸收和荧光光谱研究了化合物的发光性能。结果表明:在CH2Cl2溶液和固态薄膜中,化合物1、2在350~400 nm波段有吸收峰,归属于π-π*电荷跃迁;化合物1、2的光学带隙Eg分别为3.31 eV和3.30 eV,并且均有强烈的蓝色荧光发射现象(激发波长为330 nm),在二氯甲烷中的荧光量子效率分别为0.62和0.61,固态荧光寿命分别为6.39 ns和9.00 ns。 相似文献
99.
基于建立的不同工艺尺寸的CMOS器件模型,利用TCAD器件模拟的方法,针对不同工艺CMOS器件,开展了不同工艺尺寸CMOS器件单粒子闩锁效应(SEL)的研究。研究表明,器件工艺尺寸越大,SEL效应越敏感。结合单粒子闩锁效应触发机制,提出了保护带、保护环两种器件级抗SEL加固设计方法,并通过TCAD仿真和重离子试验验证防护效果,得出最优的加固防护设计。结果表明,90nm和0.13μm CMOS器件尽量选用保护带抗SEL结构,0.18μm或更大工艺尺寸CMOS器件建议选取保护环抗SEL结构。 相似文献
100.